[发明专利]一种多晶掺钼氧化锌透明导电薄膜的制备方法无效

专利信息
申请号: 200710046910.3 申请日: 2007-10-11
公开(公告)号: CN101158028A 公开(公告)日: 2008-04-09
发明(设计)人: 沈杰;王三坡;章壮健 申请(专利权)人: 复旦大学
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/54;C23C14/08
代理公司: 上海正旦专利代理有限公司 代理人: 陆飞;盛志范
地址: 20043*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明属透明导电薄膜技术领域,具体为一种多晶掺钼氧化锌透明导电薄膜的制备方法。其步骤为:以锌钼金属镶嵌靶为靶材,以普通玻璃为基板,基板温度为100-300℃,通过反应直流磁控溅射法,使Ar离子束轰击靶材,将靶材溅射,溅射电流150-300mA,溅射电压100-400V,反应室内的工作压强为0.45-2.5Pa,O2反应气体的分压百分含量P(O2)=Po2/(Po2+PAr)为4.0~10.0%,溅射时间40-100分钟。形成具有多晶结构的掺钼氧化锌透明导电薄膜。薄膜厚度为100-250nm。本发明制备的薄膜具有低电阻率和可见光范围高的光学透明性及高载流子迁移率的特性。本发明方法具有工业生产前景,工艺稳定性好,是一种制备ZMO透明导电氧化物薄膜保证薄膜所制器件优良性能的新方法。
搜索关键词: 一种 多晶 氧化锌 透明 导电 薄膜 制备 方法
【主权项】:
1.一种多晶掺钼氧化锌透明导电薄膜的制备方法,采用直流磁控溅射技术,其特征在于具体步骤如下:以锌钼金属镶嵌靶为靶材,以普通玻璃为基板,基板温度为100-300℃,通过反应直流磁控溅射法,使Ar离子束轰击靶材,将靶材溅射,溅射电流150-300mA,溅射电压100-400V,反应室内的工作压强为0.45-2.5Pa,O2反应气体的分压百分含量为4.0~10.0%,溅射时间40-100分钟。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于复旦大学,未经复旦大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200710046910.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top