[发明专利]光学近距修正的方法有效
| 申请号： | 200710037675.3 | 申请日： | 2007-02-13 |
| 公开（公告）号： | CN101246313A | 公开（公告）日： | 2008-08-20 |
| 发明（设计）人： | 刘庆炜 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 逯长明 |
| 地址： | 201203*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种光学近距修正的方法，包括：将待曝光电路图形的各边分割成第一分割边……第N分割边，进行一次修正，获得对应的一次修正边，计算一次修正边掩模误差增强因子；将一次修正边掩模误差增强因子分别与经验值进行比较；只对掩模误差增强因子大于或等于经验值的一次修正边进行再次修正，获得对应的二次修正边，计算二次修正边对应掩模误差增强因子；同理，只对掩模误差增强因子大于或等于经验值的二次修正边进行再次修正，计算三次修正边掩模误差增强因子……直到只对掩模误差增强因子大于或等于经验值的M次修正边进行M+1次修正，得到所有M+1次修正边掩模误差增强因子小于经验值时结束修正。经上述步骤，降低了修正的时间，提高了效率。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 近距 修正 方法 | ||
【主权项】：
1. 一种光学近距修正的方法，其特征在于，包括下列步骤：a.将待曝光电路图形的各边分割成尺寸为曝光工艺临界尺寸80％～120％的第一分割边、第二分割边......第N分割边；b.分别对第一分割边、第二分割边......第N分割边进行一次修正，获得对应的一次修正边，并计算一次修正边掩模误差增强因子；c.将第一分割边、第二分割边......第N分割边的一次修正边掩模误差增强因子分别与经验值进行比较；d.只对掩模误差增强因子大于或等于经验值的一次修正边进行再次修正，获得对应的二次修正边，并计算二次修正边对应掩模误差增强因子；e.同理以此类推，只对掩模误差增强因子大于或等于经验值的二次修正边进行再次修正，计算分割边对应三次修正边掩模误差增强因子......直到只对掩模误差增强因子大于或等于经验值的M次修正边进行M+1次修正，得到所有分割边对应M+1次修正边掩模误差增强因子小于经验值时结束修正。
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