[发明专利]四氢噻喃并吡唑大麻素调节剂

摘要

本发明涉及式(I)的CB调节化合物或其药学上可接受的形式，以及一种用于治疗、改善或预防CB受体介导的综合征、障碍或疾病的方法。

主权项

1.一种式(I)的化合物其中式(I)中2-3位和3a-7a位之间的虚线各自代表当存在X₁R₁时双键的位置；式(I)中3-3a位和7a-1位之间的虚线各自代表当存在X₂R₂时双键的位置；式(I)中7位和X₄R₄之间的虚线代表双键的位置；X是硫、亚砜基或磺酰基；X₁不存在，或者是低级亚烷基；X₂不存在，或者是低级亚烷基；其中X₁R₁和X₂R₂仅存在一个；X₃不存在，或者是低级亚烷基或低级烷叉基；当7位和X₄R₄之间的虚线不存在时，则X₄不存在或者是低级亚烷基；当7位和X₄R₄之间的虚线存在时，则X₄不存在；R₁是氢、芳基、C₃-C₁₂环烷基或杂环基，其中每个芳基、C₃-C₁₂环烷基或杂环基在一或多个位置上任选地被卤素、低级烷基、羟基或低级烷氧基取代；R₂是氢、芳基、C₃-C₁₂环烷基或杂环基，其中每个芳基、C₃-C₁₂环烷基或杂环基在一或多个位置上任选地被卤素、低级烷基、羟基或低级烷氧基取代；R₃是-C(O)-杂环基或-Z-N(R₆)-Z₁R₇(杂环基上任选地被一或多个羟基、卤素、氨基、低级烷基、羧基、烷氧羰基、低级烷氧基、低级烷氧基-低级亚烷基-、羟基-亚烷基-、芳氧基或芳烷氧基取代)；当7位和X₄R₄之间的虚线不存在时，则R₄是氢、羟基、低级烷基、低级烷氧基、卤素、芳基(芳基在一或多个位置上任选地被羟基、低级烷基、低级烷氧基或卤素取代)、杂环基(杂环基在一或多个位置上任选地被羟基、低级烷基、低级烷氧基或卤素取代)或C₃-C₁₂环烷基(C₃-C₁₂环烷基在一或多个位置上任选地被羟基、低级烷基、低级烷氧基或卤素取代)；当7位和X₄R₄之间的虚线存在时，则R₄是CH-芳基(芳基在一或多个位置上任选地被羟基、低级烷基、低级烷氧基或卤素取代)或者CH-杂环基(杂环基在一或多个位置上任选被羟基、低级烷基、低级烷氧基或卤素取代)；R₆和R₇各自单独地为氢、低级烷基、-NR₈R₉、芳基(芳基上任选地被一或多个羟基、卤素、低级烷基、羧基、烷氧羰基、低级烷氧基、羟基-亚烷基-、芳氧基或芳烷氧基取代)、C₃-C₁₂环烷基(C₃-C₁₂环烷基上任选地被一或多个羟基、卤素、氨基、低级烷基、羧基、烷氧羰基、低级烷氧基、羟基-亚烷基-、芳氧基、芳烷氧基或低级亚烷基取代)或杂环基(杂环基上任选地被一或多个羟基、卤素、氨基、低级烷基、羧基、烷氧羰基、低级烷氧基、低级烷氧基-低级亚烷基-、羟基-亚烷基-、芳氧基或芳烷氧基取代)；R₈和R₉各自单独地为氢、烷基、杂环基、C₃-C₁₂环烷基或芳基(芳基上任选地被一或多个低级烷基、羟基、烷氧基、卤素、杂环基或芳基-低级亚烷基-取代)；Z是羰基或磺酰基；Z₁不存在，或是在一或多个位置上任选地被卤素、羟基、低级烷氧基、羧基或低级烷氧羰基取代的低级亚烷基；或者其药学上可接受的盐、异构体、前药、代谢物或多晶型物。