[发明专利]辐射系统和光刻设备无效
| 申请号： | 200610163061.5 | 申请日： | 2006-12-01 |
| 公开（公告）号： | CN1975581A | 公开（公告）日： | 2007-06-06 |
| 发明（设计）人： | M·M·J·W·范赫彭;D·J·W·克伦德;J·H·J·莫尔斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 王小衡;王忠忠 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 公开了一种用于产生辐射束的辐射系统。该辐射系统包括用于产生EUV辐射的脉冲EUV辐射源，和安装在EUV源前面用于选择性通过来自所述EUV源的EUV辐射束的光谱范围的光谱过滤器。该光谱过滤器被安装在与脉冲EUV源同步移动的可移动支架上，以阻止从EUV源传播的碎屑冲击光谱过滤器。因此，光谱过滤器被保持基本上免于碎屑造成的污染。 | ||
| 搜索关键词： | 辐射 系统 光刻 设备 | ||
【主权项】：
1.一种用于产生辐射束的辐射系统，包括：用于产生EUV辐射的脉冲EUV源；和安装在EUV源前面用于选择性通过来自所述EUV源的EUV辐射束的光谱范围的光谱过滤器；所述光谱过滤器被安装在被配置成与脉冲EUV源同步移动的可移动支架上。
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