[发明专利]使用氟化氩光致抗蚀剂的方法和装置有效
| 申请号： | 200610159600.8 | 申请日： | 1997-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN1983029A | 公开（公告）日： | 2007-06-20 |
| 发明（设计）人： | 郑载昌;卜喆圭;白基镐 | 申请（专利权）人： | 海力士半导体有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/027;G03F7/00 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 王海川;樊卫民 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 一种光致抗蚀剂，包括从双环烯衍生物、马来酸酐和/或碳酸亚乙烯酯制备的共聚物，其中共聚物分子量范围是3000－100000。该光致抗蚀剂可用于使用远紫外光作光源的亚微级平版印刷。除耐刻蚀性和耐热性高以外，该光致抗蚀剂具有良好粘附性并可在TMAH溶液中显影。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 氟化 氩光致抗蚀剂 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种光致抗蚀剂，其包括聚合物、敏化剂和有机溶剂；其中所述聚合物包括：(a)式VIII的5-降冰片烯-2-羧酸2-羟乙酯；(b)式III的马来酸酐或式IV的碳酸亚乙烯酯；(c)式II中除(a)外的其他双环烯单体；![]()
其中R表示氢或者含1-10个取代或未取代碳原子的直链或支链烷基；n是1或2，![]()
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