[发明专利]蚀刻液以及使用此蚀刻液的图案化导电层的制造方法有效
| 申请号： | 200610151609.4 | 申请日： | 2006-09-07 |
| 公开（公告）号： | CN101139713A | 公开（公告）日： | 2008-03-12 |
| 发明（设计）人： | 刘思呈;杨承慈;吴健为;梁硕玮 | 申请（专利权）人： | 台湾薄膜电晶体液晶显示器产业协会;中华映管股份有限公司;友达光电股份有限公司;广辉电子股份有限公司;瀚宇彩晶股份有限公司;奇美电子股份有限公司;财团法人工业技术研究院;统宝光电股份有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/16 | 分类号： | C23F1/16;C23F1/26;H01L21/3213;H01L21/336;H01L29/43 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陶凤波 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种蚀刻液，可用以蚀刻含铜的复层结构。此蚀刻液是以过醋酸为蚀刻的主成分。蚀刻液中还包括过醋酸稳定剂、有机酸、无机酸、盐类以及水。过醋酸的含量为蚀刻液总重量的5至40wt％。过醋酸稳定剂的含量为5至15wt％。有机酸的含量为5至10wt％。无机酸的含量为5至15wt％。盐类的含量为8至15wt％。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 以及 使用 图案 导电 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种蚀刻液，用以图案化复层结构，其包括：含量为5wt％至40wt％的过醋酸；含量为5wt％至15wt％的过醋酸稳定剂；含量为5wt％至10wt％的有机酸；含量为5wt％至15wt％的无机酸；含量为8wt％至15wt％的盐类；以及含量为15wt％至75wt％的水。
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