[发明专利]用于溅射腔室的靶材和工艺套件组件有效
| 申请号： | 200610145254.8 | 申请日： | 2006-11-24 |
| 公开（公告）号： | CN1982501A | 公开（公告）日： | 2007-06-20 |
| 发明（设计）人： | 艾伦·亚历山大·里奇;唐尼·扬;扬·理查德·洪;凯瑟琳·A·沙伊贝尔;乌梅什·凯尔卡 | 申请（专利权）人： | 应用材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/14;C23C14/46 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 徐金国;梁挥 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明公开了一种溅射腔室，该溅射腔室具有包括背板和溅射板的溅射靶材。背板具有凹槽。溅射板包含具有平面的柱状台面和围绕该柱状台面的环形倾斜边。在一个方案中，背板包含具有高热导率和低电阻率的材料。在另一方案中，背板包含具有单个凹槽或多个凹槽的背面。用于溅射腔室的工艺套件包含沉积环、覆盖环和护板组件，用于放置在溅射腔室中衬底支架附近。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 溅射 工艺 套件 组件 | ||
【主权项】：
1.一种用于溅射腔室的溅射靶材，所述溅射靶材包括：(a)背板，包括至少大约200W/mK的热导率和从大约2到大约5μohm cm的电阻率；以及(b)安装在所述背板上的溅射板，所述溅射板包括：(i)具有平面的柱状台面；以及(ii)围绕所述柱状台面的环形倾斜边。
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