[发明专利]抛光用组合物及抛光方法无效
| 申请号： | 200610108551.5 | 申请日： | 2006-07-21 |
| 公开（公告）号： | CN1900192A | 公开（公告）日： | 2007-01-24 |
| 发明（设计）人： | 河田研治;堀田和利 | 申请（专利权）人： | 福吉米株式会社 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/304 |
| 代理公司： | 上海市华诚律师事务所 | 代理人： | 徐申民;董红曼 |
| 地址： | 日本国爱知县清须*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的第1抛光用组合物含有砥粒和碘化合物，且具有6以上的pH.。利用第1抛光用组合物，可以很好地抛光碳化硅单结晶基板的(0001)Si面。本发明的第2抛光用组合物含有碘化合物，且具有8以下的pH。利用第2抛光用组合物，可以很好地抛光碳化硅单结晶基板的(000－1)C面。本发明的第3抛光用组合物含有砥粒和碘化合物，且具有6～8的pH.。利用第3抛光用组合物，可以很好地抛光碳化硅单结晶基板的(0001)Si面和(000－1)C面这两个面。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 组合 方法 | ||
【主权项】：
1.一种抛光用组合物，其特征在于，含有砥粒和碘化合物，且具有6以上的pH。
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