[发明专利]光刻装置的浸没损坏控制有效
| 申请号： | 200610099680.2 | 申请日： | 2006-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN1892435A | 公开（公告）日： | 2007-01-10 |
| 发明（设计）人： | F范德穆伦;HHM考克西;M侯克斯;RJ范维烈特;S尼蒂亚诺夫;PWJM坎帕;RPH哈尼格拉夫 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京;谭祐祥 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种光刻装置，包括：保持基底的基底台，测量基底台的位置量的基底台位置测量系统，将带图案的辐射光束投影到基底靶部上的投影系统，将浸没液体提供到投影系统的下游透镜和基底之间的空间的流体供给系统，和测量流体供给系统的位置量的流体供给系统位置测量系统。为了防止流体供给系统和基底台之间的碰撞，光刻装置的损坏控制系统包括计算器，其用于从基底台的位置量和流体供给系统的位置量计算流体供给系统和保持基底的基底台之间的间隙的尺寸量。当尺寸量超过预定的安全水平时所述损坏控制系统会产生报警信号。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 浸没 损坏 控制 | ||
【主权项】：
1.一种光刻装置，包括：构造成保持基底的基底台；测量基底台的位置量的基底台位置测量系统；配置成将带图案的辐射光束投影到基底靶部上的投影系统；将浸没液体提供到投影系统的下游透镜和基底之间的空间的流体供给系统；测量流体供给系统的位置量的流体供给系统位置测量系统；以及防止流体供给系统和保持基底的基底台之间的碰撞的损坏控制系统，所述损坏控制系统包括根据基底台的位置量和流体供给系统的位置量计算流体供给系统和保持基底的基底台之间的间隙的尺寸量的计算器，以及该损坏控制系统在尺寸量超过预定的安全水平时产生报警信号。
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