[发明专利]具有高K电介质存储电容器的DRAM及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200610004025.4 申请日: 2006-01-06
公开(公告)号: CN1828905A 公开(公告)日: 2006-09-06
发明(设计)人: S·戈文达拉詹 申请(专利权)人: 因芬尼昂技术股份公司
主分类号: H01L27/108 分类号: H01L27/108;H01L21/8242
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 范赤;李连涛
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 一种动态随机存取存储单元包括形成于半导体主体中的晶体管。电容器连接至晶体管上且包括由硅形成的第一电容器极板。金属层与第一电容器极板相邻且与之电连接。电容器电介质层与金属层相邻。该电容器电介质层包括具有介电常数大于约5的材料。第二电容器极板与电容器电介质相邻。电容器可以是沟槽电容器或叠式电容器。
搜索关键词: 具有 电介质 存储 电容器 dram 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种动态随机存取存储单元,包括:形成于半导体主体中的晶体管;和连接至晶体管的电容器,该电容器包括:包括硅的第一电容器极板;与第一电容器极板相邻且电连接的第一纯金属层;与金属层相邻的电容器电介质层,该电容器电介质层包括介电常数大于约10的材料;以及与金属层相邻的第二电容器极板。
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