[发明专利]对位方法

摘要

一种对位方法，在形成有多个形成在一次照射曝光区域内且具有多个基本区域的第一图案的基板上，通过对应于各个基本区域的多次照射曝光形成第二图案时，针对形成于基板上的多个第一图案，计测调整标记的位置而作为第一位置信息，基于第一位置信息，计算多个第一图案相对于第一坐标系的位置偏移量，基于从第一位置信息减去第一位置偏移量而得的第二位置信息，计算第一图案相对于第二坐标系的第二位置偏移量，基于从第一位置信息减去第一位置偏移量以及第二位置偏移量而得的第三位置信息，计算第一图案相对于以第二图案的照射曝光区域中心为原点的第三坐标系的第三位置偏移量，基于第一至第三位置偏移量，在曝光第二图案时相对第一图案进行定位。

主权项

1.一种对位方法，用于在形成有多个具有多个基本区域的第一图案的基板上，通过对应于各个上述基本区域的多次照射曝光来形成第二图案时进行对位，其中，上述第一图案形成在一次照射曝光区域内，上述对位方法的特征在于，针对形成于上述基板上的多个上述第一图案，计测调整标记的位置而作为第一位置信息，基于所计测的上述第一位置信息，求出多个上述第一图案对于以上述基板的中心为原点的第一坐标系的相对位置，从而计算出多个上述第一图案相对于上述第一坐标系的位置偏移量，从上述第一位置信息减去上述第一位置偏移量，从而计算出第二位置信息，基于上述第二位置信息，求出多个上述基本区域对于以上述第一图案的照射曝光区域的中心为原点的第二坐标系的相对位置，从而计算出上述第一图案相对于上述第二坐标系的第二位置偏移量，从上述第一位置信息减去上述第一位置偏移量以及上述第二位置偏移量，从而计算出第三位置信息，基于上述第三位置信息，计算出上述第一图案对于以上述第二图案的照射曝光区域的中心为原点的第三坐标系的第三位置偏移量，基于上述第一至第三位置偏移量，在曝光上述第二图案时相对上述第一图案进行定位。