[发明专利]基片处理系统

摘要

在一种用于在真空中处理基片的基片处理系统中，由处理模块构成的两个直线组件一个堆叠在另一个上面，并通过至少一个提升模块来连接，该提升模块能够用于从第一组向第二组进行输送。沿穿过第一组和第二组处理模块的运行路径布置有直线同步马达。具有导轨(该导轨与安装在处理系统中的辊相互作用)的基片载体通过所述直线同步马达的吸引力而保持在竖向位置。

主权项

1.一种基底处理系统，用于在真空中处理基片，该系统包括：第一直线组的处理模块(14)；第二直线组的处理模块，第二组处理模块堆叠在第一组处理模块(14)的上方；至少一个提升模块(18)，能够进行从第一组至第二组的输送；穿过第一和第二组处理模块的运行路径；沿所述运行路径布置的直线同步马达；具有导轨(3、5)的至少一个基片载体，所述载体处于竖向方位上并可沿所述运行路径移动；用于所述基片载体的输送系统，其具有安装在该处理模块中的下排辊(4)和上排辊(6)；所述辊(4、6)与所述基片载体(2)的导轨(3、5)相互作用，且所述直线同步马达的吸引力将该载体保持在竖向位置。