[发明专利]生成遮光带和透光带GDSII数据的方法无效
申请号: | 200510111428.4 | 申请日: | 2005-12-13 |
公开(公告)号: | CN1983022A | 公开(公告)日: | 2007-06-20 |
发明(设计)人: | 张兴州;周京英;孙长江 | 申请(专利权)人: | 上海华虹NEC电子有限公司 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;H01L21/027 |
代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 | 代理人: | 丁纪铁 |
地址: | 201206上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种生成遮光带和透光带GDSII数据的方法,首先利用各个芯片的尺寸,各个芯片的横向个数,各个芯片的纵向个数,各个芯片的排列方式要素推算出遮光带和透光带的各个顶点的坐标,然后将所述的顶点的坐标直接转换为相应的GDSII数据。本发明可以消除因手动操作产生的失误,提高设计效率。适用于半导体集成电路工艺中掩模板制作。 | ||
搜索关键词: | 生成 遮光 透光 gdsii 数据 方法 | ||
【主权项】:
1、一种生成遮光带和透光带GDSII数据的方法,其特征在于:首先利用各个芯片的尺寸,各个芯片的横向个数,各个芯片的纵向个数,各个芯片的排列方式要素推算出遮光带和透光带的各个顶点的坐标,然后将所述的顶点的坐标直接转换为相应的GDSII数据。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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