[发明专利]液浸曝光装置及其控制方法以及器件制造方法无效
| 申请号： | 200510089424.0 | 申请日： | 2005-08-05 |
| 公开（公告）号： | CN1731288A | 公开（公告）日： | 2006-02-08 |
| 发明（设计）人： | 秋元智 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王永刚 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种以液体填充衬底和投影透镜部件之间的空间的状态在衬底上曝光原版图形的液浸曝光装置，具备在保持上述衬底的状态下移动的载物台和控制上述载物台的驱动的控制器，上述控制器根据液浸条件变更上述载物台的控制参数或者上述载物台的驱动曲线。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 及其 控制 方法 以及 器件 制造 | ||
【主权项】：
1.一种液浸曝光装置，在用液体填充衬底和投影透镜部件之间的空间的同时在衬底上曝光图形，其特征在于包括：载置上述衬底的载物台；以及控制上述载物台的驱动的控制器，上述控制器根据液浸条件变更上述载物台的控制参数和上述载物台的驱动曲线中的至少一个。
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