[发明专利]半导体装置无效

专利信息
申请号: 200510067312.5 申请日: 2005-04-18
公开(公告)号: CN1684257A 公开(公告)日: 2005-10-19
发明(设计)人: 今桥学;小仓弘义;绳手优克 申请(专利权)人: 松下电器产业株式会社
主分类号: H01L23/60 分类号: H01L23/60;H01L23/62;H01L27/04
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 汪惠民
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 在半导体装置中,抑制浪涌保护二极管的元件面积的增大和控制电路等的误动作。具有在第1导电型半导体区域上形成的输出焊盘的半导体装置的浪涌吸收部,备有:第2导电型岛状半导体区域;在第2导电型岛状半导体区域的底部和第1导电型半导体区域之间形成的第2导电型埋入层;在第2导电型岛状半导体区域上形成的且与第1导电型半导体区域同电位连接的第1导电型杂质层;在第1导电型杂质层上形成且与输出焊盘电气连接的第2导电型杂质层;包围第1导电型杂质层且到达第2导电型埋入层的环状第2导电型层。其中环状第2导电型层与规定的电位连接并且包含比第2导电型岛状半导体区域浓度高的第2导电型杂质。
搜索关键词: 半导体 装置
【主权项】:
1、一种半导体装置,是在第1导电型半导体区域上备有输出焊盘、与所述输出焊盘连接的驱动元件、用于在浪涌中保护所述驱动元件的浪涌吸收部的半导体装置,其特征在于,所述浪涌吸收部备有:在所述第1导电型半导体区域上形成的第2导电型岛状半导体区域;在所述第2导电型岛状半导体区域的底部与所述第1导电型半导体区域之间形成的第2导电型埋入层;形成在所述第2导电型岛状半导体区域上且连接在与所述第1导电型半导体区域相同电位的第1导电型杂质层;形成在所述第1导电型杂质层上且与所述输出焊盘电气连接的第2导电型杂质层;和在所述第2导电型岛状半导体区域上,以包围所述第1导电型杂质层并且到达所述第2导电型埋入层的方式形成的环状第2导电型层,所述环状第2导电型层连接在规定的电位并且含有比所述第2导电型岛状半导体区域的浓度还高的第2导电型杂质。
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