[发明专利]产生模拟曝光工具成像性能模型的方法、装置和程序产品有效
| 申请号： | 200510054176.6 | 申请日： | 2005-01-29 |
| 公开（公告）号： | CN1683998A | 公开（公告）日： | 2005-10-19 |
| 发明（设计）人： | X·施;J·F·陈 | 申请（专利权）人： | ASML蒙片工具有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G06F17/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 王勇 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种用于产生模型的方法，所述模型用于模拟多个曝光工具的成像性能，所述方法包括下述步骤：产生第一个曝光工具的校准的模型，对于给定光刻过程，所述校准的模型能评估将要由所述第一个曝光工具产生的图象，其中所述校准的模型包括第一组基本函数；产生第二个曝光工具的模型，对于所述光刻过程，所述模型能评估将要由所述第二个曝光工具产生的图象，其中所述模型包括第二组基本函数；以及将所述第二组基本函数表示为所述第一组基本函数的线性组合，以产生与所述第二个曝光工具对应的等价模型函数，其中对于所述光刻过程，所述等价模型函数产生与由所述第二个曝光工具产生的图象对应的模拟图象。 | ||
| 搜索关键词： | 产生 模拟 曝光 工具 成像 性能 模型 方法 装置 程序 产品 | ||
【主权项】：
1.一种用于产生模型的方法，所述模型用于模拟多个曝光工具的成像性能，所述方法包括下述步骤：产生第一个曝光工具的校准的模型，对于给定光刻过程，所述校准的模型能评估将要由所述第一个曝光工具产生的图象，所述校准的模型包括第一组基本函数；产生第二个曝光工具的模型，对于所述光刻过程，所述模型能评估将要由所述第二个曝光工具产生的图象，所述模型包括第二组基本函数；以及将所述第二组基本函数表示为所述第一组基本函数的线性组合，以产生与所述第二个曝光工具对应的等价模型函数，其中对于所述光刻过程，所述等价模型函数产生与由所述第二个曝光工具产生的图象对应的模拟图象。
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