[发明专利]β型铜酞菁颜料的制造方法无效
| 申请号： | 200410042999.2 | 申请日： | 2004-06-14 |
| 公开（公告）号： | CN1572840A | 公开（公告）日： | 2005-02-02 |
| 发明（设计）人： | 城丸修;井出勇作;大芝敏男;小谷卓也 | 申请（专利权）人： | 东洋油墨制造株式会社 |
| 主分类号： | C09B47/32 | 分类号： | C09B47/32 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 程伟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种制造β型铜酞菁颜料的方法，该颜料的平均初晶体直径为80±40nm而且初晶体长宽比为2.0±1.0而且在与单斜晶β(200)平面垂直方向上的微晶直径为22±5nm，与β(001)平面垂直方向上的微晶直径为27±5nm，且与β(010)平面垂直方向上的微晶直径为15±5nm，该方法包括，将纯度为97至100％且初晶体直径为0.5至100μm的粗制铜酞菁在180至50℃干磨，以制备α比率为5至35％的α/β混合晶体型铜酞菁；和在水混溶性有机溶剂中处理该干磨产物。 | ||
| 搜索关键词： | 型铜酞菁 颜料 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种制造β型铜酞菁颜料的方法，该颜料的平均初晶体直径为80±40nm而且初晶体长宽比为2.0±1.0而且在与单斜晶β(200)平面垂直方向上的微晶直径为224±5nm，与β(001)平面垂直方向上的微晶直径为27±5nm，且与β(010)平面垂直方向上的微晶直径为15±5nm，所述方法包括，步骤(A)：将基于硫酸溶解法的纯度为97至100％且初晶体直径为0.5至100μm的粗制铜酞菁在180至50℃干磨，以制备α比率为5至35％的α/β混合晶体型铜酞菁；和步骤(B)：在水混溶性有机溶剂中处理步骤(A)中制得的干磨产物。
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- 专利分类
