[发明专利]铜酞菁微粒的制造方法有效
| 申请号： | 201610205988.4 | 申请日： | 2011-03-04 |
| 公开（公告）号： | CN105860577B | 公开（公告）日： | 2018-03-16 |
| 发明（设计）人： | 前川昌辉;本田大介;榎村真一 | 申请（专利权）人： | M技术株式会社 |
| 主分类号： | C09B67/12 | 分类号： | C09B67/12;C09B67/50 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 | 代理人： | 贾成功 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的课题为提供含有至少一种具有高分光特性、且为与α型不同的结晶型的铜酞菁微粒而成的铜酞菁颜料及上述铜酞菁微粒的制造方法。提供含有至少一种为与α型不同的结晶型、且在380～780nm中的吸收光谱为α型吸收光谱的形状的铜酞菁微粒而成的铜酞菁颜料及上述铜酞菁颜料的制造方法。另外，提供含有至少一种与α型及ε型的2种型不同的结晶型、且在380～780nm中的透射光谱中透射率达到最大的波长(λmax)低于478nm的铜酞菁微粒而成的铜酞菁颜料及上述铜酞菁微粒的制造方法。 | ||
| 搜索关键词： | 铜酞菁 微粒 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种铜酞菁微粒的制造方法，其特征在于，其为生成以下铜酞菁微粒的任一种的方法：为与α型不同的结晶型、且在380～780nm中的吸收光谱为α型的吸收光谱形状的铜酞菁微粒、为与α型不同的结晶型、且在380～780nm中的吸收光谱中在600±15nm及680±15nm的区域具有峰的铜酞菁微粒、为与α型及ε型的2种型不同的结晶型、且在380～780nm中的透射光谱的透射率达到最大的波长(λmax)低于478nm的铜酞菁微粒，向可接近·分离、且相对地进行位移的处理用面之间供给被处理流动体，通过含有该被处理流动体的供给压力和施加于进行旋转的处理用面之间的压力的向接近方向的力与向分离方向的力的压力的平衡，将处理用面间的距离维持为1mm以下的微小间隔，通过将被维持为该微小间隔的2个处理用面间作为被处理流动体的流路，使用至少2种被处理流动体形成薄膜流体，在该薄膜流体中混合上述的2种或3种以上的被处理流动体，进行体积平均粒径为1～600nm的铜酞菁微粒的析出。
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