[发明专利]防止涡旋压缩机产生真空的装置有效

专利信息
申请号: 03155063.0 申请日: 2000-02-19
公开(公告)号: CN1510274A 公开(公告)日: 2004-07-07
发明(设计)人: 金必焕;李碤培;安秉夏;李乘俊;陈弘均 申请(专利权)人: LG电子株式会社
主分类号: F04C18/02 分类号: F04C18/02
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 陆弋;顾红霞
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 一种防止涡旋压缩机产生真空的装置,其中,一个阀限位器结合到固定涡壳的排放孔的上部,一个止回阀安装在涡旋压缩机中,沿阀限位器内侧的导向面向上和向下运动,以控制在压缩室中压缩的高压和高温制冷剂气体的流动,从而打开和关闭固定涡壳的排放孔,其特征在于,上述装置包括:相互连通旁通孔,用于在止回阀关闭固定涡壳的排放孔时把高压制冷剂气体旁通到低压侧。
搜索关键词: 防止 涡旋 压缩机 产生 真空 装置
【主权项】:
1.一种防止涡旋压缩机产生真空的装置,其中,一个阀限位器结合到固定涡壳的排放孔的上部,一个止回阀安装在涡旋压缩机中,沿阀限位器内侧的导向面向上和向下运动,以控制在压缩室中压缩的高压和高温制冷剂气体的流动,从而打开和关闭固定涡壳的排放孔,其特征在于,上述装置包括:相互连通旁通孔,用于在止回阀关闭固定涡壳的排放孔时把高压制冷剂气体旁通到低压侧。
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