[发明专利]光掩模、光掩模的制造方法和电子元件的制造方法

摘要

由基板；基板上选择性形成的半透明膜；以及半透明膜上选择性形成的遮光膜构成的光掩模，将基板、半透明膜和遮光膜各自的杨氏系数(MPa)设为E₀、E₁、E₂，各自的厚度(m)设为d₀、d₁、d₂，半透明膜和遮光膜在室温的各自内应力(MPa)设为s₁和s₂，在没有形成遮光膜的区域的半透明膜被覆率设为h，假设系数k₁到k₄分别为k₁＝1.3×10^－8，k₂＝－9.5×10^－2，k₃＝6.0×10^－7，k₄＝－5.2×10^－2，则满足：≤1.4×10^-4(m^-1)的条件。

主权项

1.一种光掩模，包括：具备基板；所述基板上选择性地形成的半透明膜；以及所述半透明膜上选择性地形成的遮光膜，将所述基板、半透明膜和遮光膜各自的杨氏系数(MPa)设为E0、E1、E2，各自的厚度(m)设为d0、d1、d2，所述半透明膜和遮光膜在室温的各自内应力(MPa)设为s1和s2，在没有形成所述遮光膜的区域的所述半透明膜的被覆率设为h，设定系数k1到k4分别为k1＝1.3×10-8，k2＝-9.5×10-2，k3＝6.0×10-7，k4＝-5.2×10-2，则满足：$|\frac{1}{E_0·d_0}·\{h·(k_1·\frac{s_1}{E_1·d_1}+k_2)+(k_3·\frac{s_2}{E_2·d_2}+k_4)\left\}\right|\le 1.4\times {10}^{-4}\left(m^{-1}\right)$ 的条件。