[发明专利]含有草酸铵的抛光系统及方法无效
| 申请号： | 02803728.6 | 申请日： | 2002-01-04 |
| 公开（公告）号： | CN1486505A | 公开（公告）日： | 2004-03-31 |
| 发明（设计）人： | 霍默·乔;约瑟夫·D·霍金斯;周仁杰 | 申请（专利权）人： | 卡伯特微电子公司 |
| 主分类号： | H01L21/00 | 分类号： | H01L21/00;C09G1/00;C09G1/02;C09K3/14;H01L21/321;B24B37/04 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 范明娥;张平元 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于基材抛光或平整化的抛光系统及方法。该抛光系统包括(i)液态载剂，(ii)草酸铵，(iii)羟基偶合剂，及(iv)抛光垫及/或磨料。该抛光方法包括使至少部分基材与抛光系统接触，并同时抛光部分基材。 | ||
| 搜索关键词： | 含有 草酸 抛光 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于抛光基材的系统，包括(i)液态载剂，(ii)草酸铵，(iii)羟基偶合剂，及(iv)抛光垫及/或磨料。
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
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