[发明专利]荧光面的形成方法无效
| 申请号： | 02107920.X | 申请日： | 2002-03-21 |
| 公开（公告）号： | CN1377055A | 公开（公告）日： | 2002-10-30 |
| 发明（设计）人： | 中尾哲久 | 申请（专利权）人： | 株式会社东芝 |
| 主分类号： | H01J9/227 | 分类号： | H01J9/227 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所 | 代理人： | 陈剑华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 荧光面的形成方法,所述荧光面由在透光性基板的表面形成的颜料膜及荧光体膜构成,该方法包括在前述透光性基板表面涂布颜料分散液及使涂膜干燥形成颜料膜这2个步骤。前述干燥步骤中,将前述透光性基板的边角部分温度控制在36℃以上,或采用专用干燥手段对前述涂膜的边角部分进行干燥。 | ||
| 搜索关键词： | 荧光 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.荧光面的形成方法，所述荧光面由在透光性基板的表面形成的颜料膜及荧光体膜构成，其特征在于，包括在前述透光性基板表面涂布颜料分散液的步骤及使涂膜干燥、形成颜料膜的步骤，前述干燥步骤中，将前述透光性基板的边角部分温度控制在36℃以上，并将前述透光性基板的中央部分和边角部分的温差控制在7℃以内。
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- 专利分类
