[发明专利]过渡金属络合物,其制备方法及其用途

摘要

本发明涉及光学活性二膦、光学活性二膦和它们的过渡金属络合物,过渡金属络合物的制备方法及其用于对映选择性合成的用途。其通过式(Ⅰ)的光学活性二膦配体或其与BH3反应的硼烷加合物与过渡金属化合物[MLn]p(+)Dq(－)反应得到式I和Ⅳ[M(Ln)(A)]P(+)Dq(－)其中,R1、R2、R3、M、A、L、D、n、p和q如说明书所述。

主权项

1.式IV的过渡金属络合物，[M(Ln)(A)]p(+)Dq(-)    IV式中M为Co、Ir、Ni、Pd、Pt、Rh、Ru，A为式I光学活性二膦配体，I其中：R1为氢、C1-C10-酰基、C1-C10-烷基、C2-C10链烯基，它们各自可以为直链或支链的，芳基、芳烷基，R2、R3相互独立，可以为直链或支链的C1-C10-烷基，芳基，芳烷基，R4、R5和R6相互独立，可以为直链或支链的C1-C10-烷基，芳基，芳烷基，上述R1至R6中的芳基指在环体系中具有6至18个碳原子的芳环体系，其可以为未被取代的或被一个或多个的取代基取代的苯基、甲氧基苯基和萘基，取代基选自卤素、氰基、硝基、氨基、C1-C4-烷氨基、C1-C4-二烷基氨基、羟基、C1-C4-烷基、C1-C4-烷氧基或磺酸基，R1至R6中的芳烷基指直链或支链的苯基-C1-C5-烷基或萘基-C1-C5烷基，或其与BH3反应得到的硼烷加合物，L为有机配体。D为非配价阴离子的等价物，n为1或2p、q为0-4。