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- [发明专利]化学气相沉积装置-CN201480015908.8有效
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P·娜尔;C·波瑞恩;J·维蒂耶洛
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阿尔塔科技半导体公司
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2014-02-21
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2017-12-08
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C23C16/455
- 本发明涉及一种用于化学气相沉积的反应器装置(1),包括具有侧壁(19)的反应腔室(4),和具有周边表面(5b)及面对反应气体喷射器(30)的主面(5a)的基板支撑件(5),在所述喷射器(30)和所述主面(5a)之间限定工作空间(60)。所述基板支撑件(5)被布置在所述反应腔室(4)中,使得在所述基板支撑件(5)的周边表面(5b)和所述反应腔室(4)的侧壁(19)之间形成环状通路(107)。用于排放气体的系统(49)通过布置在侧壁(19)中的与所述工作空间(60)面对的开口(49a)而与所述反应腔室(4)流体连接。净化气体喷射器(105)包括由所述腔室的所述侧壁(19)和附加部件(101)的第一壁限定的喷射通道(103),所述喷射通道经由环状开口(106)通向所述反应腔室(4),所述侧壁(19)和所述第一壁(113)在所述通道的包括所述开口(106)的部分(103c)中平行。层状净化气体流(200)通过所述环状开口(106)喷射并流入所述环状通路(107)一直流动到所述开口(49a)。
- 化学沉积装置
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