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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]LED和多色磷光体-CN202080086324.5有效
发明人： W·索尔;G·塔什吉安 -专利权人：亮锐有限责任公司
申请日： 2020-12-11 - 公布日： 2023-08-08 - 主分类号： H01L25/075 文献下载
摘要：一种照明器件，包括：被配置为发射第一光的第一LED；被配置为发射第三光的第二LED；第一磷光体，设置在第一LED和第二LED之上，并被布置为吸收第一光的一部分并且作为响应发射波长比第一光更长的第二光；以及设置在第二LED之上的第二磷光体，第二磷光体被布置成吸收第三光的一部分，并且作为响应发射波长比第三光更长的第四光，并且第四光离开第二磷光体进入第一磷光体，并且第二光和第四光两者都通过第一磷光体离开照明器件。
led 多色磷光体

[发明专利]用于具有优异颜色控制的高光效照明的LED和磷光体组合-CN201980052239.4有效
发明人： M·J·H·凯塞尔斯;H-H·比奇特尔;J·W·H·西里维斯斯密特;W·索尔 -专利权人：亮锐有限责任公司
申请日： 2019-06-05 - 公布日： 2023-08-01 - 主分类号： F21K9/00 文献下载
摘要：一种发光设备，包括：第一组一个或多个LED，每个LED被配置成发射具有1931 CIE x，y色度图中蓝色色点的光；第二组一个或多个LED，每个LED被配置成发射具有1931 CIE x，y色度图中青色或黄色色点的光；以及第三组一个或多个LED，每个LED被配置成发射具有1931 CIE x，y色度图中红色色点的光。
用于具有优异颜色控制高光效照明 led 磷光体组合

[发明专利]照明系统和照明方法-CN202180053976.3在审
发明人： W·索尔;J·W·H·西莱维斯斯密特 -专利权人：亮锐有限责任公司
申请日： 2021-06-30 - 公布日： 2023-05-23 - 主分类号： F21V8/00 文献下载
摘要：一种照明系统可产生动态可变照明图案。该照明系统可以包括光导。所述照明系统可以包括投影光学器件，所述投影光学器件可以以相对低的光束角(即，相对于所述光导的表面法线形成的光束角)对所述照明图案做出贡献。该投影光学器件可以包括可单独寻址的光产生元件，该光产生元件可以引导光通过一个或多个聚焦元件。控制器可以控制该光产生元件中的哪一个被电力供电，并且因此可以控制来自投影光学器件的照明图案贡献。所述照明系统还可以包括散射光学器件，所述散射光学器件可以以相对高的光束角度对所述照明图案做出贡献。散射光学器件可以在相对较大的表面积上将光引导出光导，这可有助于减少当直接观看光导时的眩光。
照明系统方法

[发明专利]具有优选显色性的可调照明系统-CN202080087744.5有效
发明人： W·索尔 -专利权人：亮锐有限责任公司
申请日： 2020-12-09 - 公布日： 2023-02-17 - 主分类号： H05B45/20 文献下载
摘要：描述了具有带有第一磷光体的第一LED、带有第二磷光体的第二LED、和带有第三磷光体的第三LED以发射复合白光的发光器件。第一LED和第一磷光体发射复合白光的红色光谱分量，第二LED和第二磷光体发射复合白光的蓝色光谱分量，并且第三LED和第三磷光体发射复合白光的绿色光谱分量。绿色光谱分量在深红色光谱波长区域中具有至少30%的辐射通量。
具有优选显色性可调照明系统

[发明专利]噁二唑二芳基化合物-CN201410603560.6有效
发明人： C·蒙塔涅;A·夸特特罗尼;W·索尔;A·邦布伦 -专利权人：默克雪兰诺有限公司
申请日： 2008-10-01 - 公布日： 2015-04-01 - 主分类号： C07D271/06 文献下载
摘要：本发明涉及通式(I)所示的化合物：其中R¹、R²、R^a、R^b、R^c和W具有如权利要求1中所述的意义。本发明的化合物用于例如治疗自身免疫性疾病，如多发性硬化症。
噁二唑二芳基化

[发明专利]光谱纯度滤光片-CN201180020839.6有效
发明人： W·索尔;V·班尼恩;E·鲁普斯特拉;A·亚库宁;M·杰克 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2011-02-22 - 公布日： 2013-01-02 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种光谱纯度滤光片，包括：材料体，多个孔延伸通过所述材料体。孔布置成抑制具有第一波长的辐射并允许具有第二波长的辐射的至少一部分透射通过所述孔。第二波长辐射比第一波长辐射短。所述材料体由具有对于第一波长的辐射基本上大于或等于70％的体反射率的材料形成。所述材料具有大于1000摄氏度的熔点。
光谱纯度滤光

[发明专利]光刻设备以及光谱纯度滤光片-CN201180015282.7无效
发明人： V·梅德韦杰夫;V·班尼恩;V·克里夫特苏恩;W·索尔;A·亚库宁 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2011-02-03 - 公布日： 2012-12-26 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种反射器，包括配置成反射第一波长的辐射的多层反射镜结构，和一个或更多个附加层。多层反射镜结构和一个或更多个附加层在第二波长条件下的吸收率和折射系数以及多层反射镜结构和一个或更多个附加层的厚度配置成使得从反射器的表面反射的第二波长的辐射以相消方式与从反射器内反射的第二波长的辐射干涉。
光刻设备以及光谱纯度滤光

[发明专利]噁二唑衍生物-CN201080025137.2有效
发明人： A·夸特特罗尼;C·蒙塔涅;W·索尔;S·克罗斯格纳尼;A·邦布伦 -专利权人：默克雪兰诺有限公司
申请日： 2010-03-29 - 公布日： 2012-11-28 - 主分类号： C07D271/06 文献下载
摘要：本发明涉及通式(I)所示的化合物：其中R¹、R²、R^a、R^b、W、Q和S具有如权利要求1中所述的意义。本发明的化合物用于例如治疗自身免疫性疾病，如多发性硬化症。
噁二唑衍生物

[发明专利]光谱纯度滤光片、光刻设备以及器件制造方法-CN201080042251.6无效
发明人： A·亚库宁;V·班尼恩;M·凡赫彭;W·索尔;M·杰克 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2010-08-02 - 公布日： 2012-07-11 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种光谱纯度滤光片，尤其是用在将EUV辐射用作投影束的光刻设备中。所述光谱纯度滤光片包括衬底内的多个孔。孔由壁限定，壁具有侧表面，所述侧表面相对于衬底的前表面的法线是倾斜的。
光谱纯度滤光光刻设备以及器件制造方法

[发明专利]光谱纯度滤光片、光刻设备、和制造光谱纯度滤光片的方法-CN201080037737.0有效
发明人： W·索尔;M·杰克;R·德克 -专利权人： ASML荷兰有限公司;皇家飞利浦电子股份有限公司
申请日： 2010-07-21 - 公布日： 2012-05-30 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种形成光谱纯度滤光片的方法，所述光谱纯度滤光片包括多个孔，所述多个孔配置成透射极紫外辐射和抑制第二类型的辐射的透射，其中以对应于在所述孔之间形成的壁的图案在基底材料中形成沟道。用格栅材料填充所述沟道以形成所述格栅材料的壁；和选择性地移除所述基底材料，直到所述格栅材料被暴露和在格栅材料的壁之间为所述孔形成空间为止。
光谱纯度滤光光刻设备制造方法

[发明专利]光谱纯度滤光片、光刻设备以及制造光谱纯度滤光片的方法-CN201080038029.9无效
发明人： W·索尔;M·杰克 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2010-07-16 - 公布日： 2012-05-30 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种制造光谱纯度滤光片的方法，其中在基底材料的第一表面内形成开口，所述开口对应于光谱纯度滤光片的多个孔。化学处理基底材料的至少围绕第一表面内的开口的表面以形成第二材料的层，并且从第二表面蚀刻基底材料，使得开口从基底材料的第一表面延伸至基底材料的第二表面。
光谱纯度滤光光刻设备以及制造方法

[发明专利]光谱纯度滤光片、光刻设备以及制造光谱纯度滤光片的方法-CN201080037156.7无效
发明人： M·杰克;W·索尔 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2010-07-14 - 公布日： 2012-05-30 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种透射型光谱纯度滤光片配置成透射极紫外辐射(λ＜20nm)。滤光片包括网格状结构，包括在例如硅等载体材料中形成的多个微观孔。在该区域的至少一部分内的网格状结构被形成为以便在预期的操作条件范围内具有负的泊松比。通过形成适于在正交方向上同时膨胀或收缩的材料的网格，改善对不同热膨胀的控制。多种几何结构或形状可以实现负的泊松比。孔的几何形状可以是凹入的多边形或具有曲边的凹入的形状。这些示例包括所谓的凹入的或增大的蜂巢，其中每个孔与规则的蜂巢一样是六边形，但是形式是凹入的六边形而不是规则的六边形。
光谱纯度滤光光刻设备以及制造方法

[发明专利]噁二唑衍生物-CN201080025176.2无效
发明人： A·夸特特罗尼;C·蒙塔涅;W·索尔;S·克罗斯格纳尼;A·邦布伦 -专利权人：默克雪兰诺有限公司
申请日： 2010-03-29 - 公布日： 2012-05-16 - 主分类号： C07D271/06 文献下载
摘要：本发明涉及通式(I)所示的化合物：其中R¹、R²、R^a、R^b、W、Q和S具有如权利要求1中所述的意义。本发明的化合物用于例如治疗自身免疫性疾病，如多发性硬化症。
噁二唑衍生物

[发明专利]EUV光刻设备的源模块、光刻设备以及用于制造器件的方法-CN200980126024.9有效
发明人： M·范赫鹏;W·索尔;A·亚库宁 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2009-07-13 - 公布日： 2011-06-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种用在光刻设备中的源模块(10)被构造以产生极紫外(EUV)和伴随辐射，且包括被配置以与EUV辐射的源协作的缓冲气体。所述缓冲气体对于所述EUV辐射具有至少50％的透射率，对于所述伴随辐射具有至少70％的吸收率。
euv 光刻设备模块以及用于制造器件方法

[发明专利]用于去除光刻设备的无盖层的多层反射镜上的沉积物的方法、光刻设备以及器件制造方法-CN200980125562.6无效
发明人： V·班尼恩;M·杰克;W·索尔;M·凡赫彭 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2009-06-09 - 公布日： 2011-05-25 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种用于去除在设备的无盖层多层反射镜上的沉积物的方法。所述方法包括：在所述设备的至少一部分内提供气体的步骤，所述气体包括H2、D2和HD中的一种或多种以及选自碳氢化合物和/或硅烷化合物的一种或多种附加的化合物；从所述气体产生氢和/或氘自由基和所述一种或多种附加的化合物的自由基的步骤；和使得具有沉积物的所述无盖层多层反射镜与氢和/或氘自由基和所述一种或多种附加的化合物的自由基中的至少一部分接触，以便去除沉积物的至少一部分。
用于去除光刻设备盖层多层反射沉积物方法以及器件制造

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