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[发明专利]激光照射装置、薄膜晶体管以及薄膜晶体管的制造方法-CN201680090915.3在审
发明人：水村通伸;野寺伸武;松岛吉明;田中优数;松本隆夫 -专利权人： V科技股份有限公司;堺显示器制品株式会社
申请日： 2016-11-16 - 公布日： 2019-07-02 - 主分类号： H01L21/20 文献下载
摘要：依赖于激光的能量密度的偏差，玻璃基板所包含的多个薄膜晶体管的特性产生偏差，从而在将玻璃基板用于液晶显示装置的液晶时，会产生显示不均这样的问题。本发明的一个实施方式中的激光照射装置的特征在于，具有：光源，其产生激光；投影透镜，其对分别粘附于玻璃基板上的多个薄膜晶体管的非晶硅薄膜的规定的区域照射该激光；投影掩模图案，其设于该投影透镜上，以对于该多个薄膜晶体管分别照射该激光的方式设有多个开口部，该投影透镜经由该投影掩模图案，对于沿规定的方向移动的该玻璃基板上的该多个薄膜晶体管照射该激光，该投影掩模图案设置为，该开口部在与该移动的方向正交的一列上不连续。
薄膜晶体管玻璃基板激光投影透镜投影掩模激光照射装置开口部照射液晶显示装置非晶硅薄膜图案方向移动方向正交区域照射图案设置显示不均不连续粘附光源液晶移动制造

[发明专利]激光照射装置及薄膜晶体管的制造方法-CN201780069323.8在审
发明人：水村通伸;新井敏成;畑中诚;竹下琢郎 -专利权人： V科技股份有限公司
申请日： 2017-11-22 - 公布日： 2019-06-28 - 主分类号： H01L21/20 文献下载
摘要：本发明的一个实施方式的激光照射装置具备：光源，其产生激光；投影透镜，其向分别粘附于玻璃基板上的多个薄膜晶体管的非晶硅薄膜的规定区域照射该激光；及投影掩模图案，其设置在该投影透镜上，包含设定有该激光透过的比例即透射率的多个掩模，该投影透镜对于沿规定的方向移动的该玻璃基板上的该多个薄膜晶体管，分别经由该投影掩模图案所包含的该多个掩模来照射该激光，该投影掩模图案包含的该多个掩模分别设定多个该透射率中的任一个。
薄膜晶体管投影透镜投影掩模掩模激光照射装置激光玻璃基板透射率图案非晶硅薄膜方向移动激光透过区域照射粘附光源照射制造

[发明专利]有机EL元件的制造方法-CN201680037703.9有效
发明人：哈尼·马赫·阿齐兹;梶山佳敬;梶山康一;水村通伸;藤森裕也 -专利权人： V科技股份有限公司
申请日： 2016-07-08 - 公布日： 2019-06-11 - 主分类号： H01L51/50 文献下载
摘要：本发明提供一种不用进行掩模而在适当的部位设置发光层的有机EL元件的制造方法。本发明的有机EL元件的制造方法在基板设置与构成的像素的颜色对应的第一电极，在基板的设有第一电极的一侧成膜空穴注入层，在基板的成膜出空穴注入层的一侧成膜空穴传输层，在基板的成膜出空穴传输层的一侧成膜用于使掺杂材料扩散的主材料层，使在金属层成膜有掺杂材料的供体基板的掺杂材料侧与主材料层接触，在掺杂材料所对应的颜色的像素所对应的电极与金属层之间沿层叠方向施加电流，使供体基板从基板分离，在扩散有掺杂材料的主材料层被成膜的一侧设置第二电极。
有机 el 元件制造方法

[发明专利]激光照射装置、薄膜晶体管及薄膜晶体管的制造方法-CN201780039956.4在审
发明人：水村通伸 -专利权人： V科技股份有限公司
申请日： 2017-04-20 - 公布日： 2019-03-01 - 主分类号： H01L21/336 文献下载
摘要：依赖于激光束的能量密度的偏差而玻璃基板包含的多个薄膜晶体管的特性产生偏差，在将玻璃基板使用于液晶显示装置的液晶的情况下，存在产生显示不均的问题。本发明的一实施方式的激光照射装置的特征在于，具备：光源，其产生激光束；投影透镜，其向被覆于薄膜晶体管的非晶硅薄膜的互不相同的多个区域照射所述激光束，所述投影透镜以所述薄膜晶体管的源电极与漏电极之间通过多个沟道区域并联连接的方式向所述非晶硅薄膜的所述互不相同的多个区域照射所述激光束。
薄膜晶体管激光束激光照射装置非晶硅薄膜玻璃基板区域照射投影透镜液晶显示装置并联连接沟道区域显示不均漏电极源电极光源液晶制造

[发明专利]曝光装置及已曝光材料的制造方法-CN201380004517.1有效
发明人：桥本和重 -专利权人： V科技股份有限公司
申请日： 2013-01-04 - 公布日： 2014-09-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：不使用复杂且昂贵的机构，而更加准确地对曝光用掩膜与被曝光材料的相对位置进行特定，并且，消除使用了曝光装置的作业时间的延迟。本发明的曝光装置具备摄像部、对位控制部和曝光开始时机控制部，所述摄像部对通过微透镜阵列在曝光用掩膜上成像的第一对位用标记的至少一部分和第二对位用标记进行摄像，若摄像结束，则向规定方向移动，以不妨碍对被曝光材料进行曝光，所述对位控制部基于第一及第二对位用标记的位置信息，对被曝光材料与曝光用掩膜进行对位，所述曝光开始时机控制部在摄像部移动结束前，使来自光源的曝光光开始照射。
曝光装置材料制造方法