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专利名称

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申请人
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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]MEMS镜装置以及测距装置-CN202180091518.9在审
发明人：平田善明;绀野伸显;梶山佳敬 -专利权人：三菱电机株式会社
申请日： 2021-01-28 - 公布日： 2023-10-10 - 主分类号： G02B26/10 文献下载
摘要：MEMS镜装置(1)具备固定构件(10)、能够相对于固定构件(10)旋转地与固定构件结合的可动构件、镜(12)以及配线(40a、40b、48a、48b)。可动构件包括可动板(11)、扭转梁(14、17)以及曲折梁(15、18)。曲折梁(15、18)沿着扭转梁(14、17)配置。镜(12)形成在可动板(11)上。配线(40a、40b、48a、48b)从可动板(11)延伸到固定构件(10)。配线(40a、40b、48a、48b)形成在曲折梁(15、18)上。
mems 装置以及测距

[发明专利]MEMS反光镜装置以及其制造方法-CN201980090713.2有效
发明人：平田善明;绀野伸显;伊藤恭彦;梶山佳敬 -专利权人：三菱电机株式会社
申请日： 2019-02-06 - 公布日： 2023-01-06 - 主分类号： G02B26/10 文献下载
摘要：MEMS反光镜装置(3)具备框体(外侧可动框体13)、内侧可动构件(23)、第1梁(21)、反射反光镜构件(30)和连结构件(40)。内侧可动构件(23)配置在框体的内侧。第1梁(21)将内侧可动构件(23)可旋转地连结于框体。反射反光镜构件(30)具有反射面(30r)和背面(30s)。连结构件(40)连结反射反光镜构件(30)与内侧可动构件(23)。第1梁(21)在反射反光镜构件(30)的背面(30s)与内侧可动构件(23)连结。MEMS反光镜装置(3)可实现小型化。
mems 反光镜装置及其制造方法

[发明专利]光扫描装置、测距装置以及光扫描装置的制造方法-CN202080097900.6在审
发明人： 梶山佳敬;平田善明;石田晃三 -专利权人：三菱电机株式会社
申请日： 2020-03-12 - 公布日： 2022-10-18 - 主分类号： G02B26/10 文献下载
摘要：光扫描装置(100)具备反射体(10)、旋转体(1)、第1扭曲梁(21)以及第2扭曲梁(22)、第1支撑部(31)、第2支撑部(32)、第1弹性层(41)和第2弹性层(42)。第1弹性层(41)与第1扭曲梁(21)重叠。第2弹性层(42)与第2扭曲梁(22)重叠。在与第1扭曲梁(21)和第2扭曲梁(22)夹入旋转体(1)的方向正交的剖面中，活性层(LA)的纵向尺寸比活性层(LA)的横向尺寸小。第1弹性层(41)以及第2弹性层(42)的材料具有比金属高的疲劳寿命。
扫描装置测距以及制造方法

[发明专利]光扫描装置以及光扫描装置的调整方法-CN201880030193.1有效
发明人：平田善明;绀野伸显;伊藤恭彦;石田晃三;梶山佳敬 -专利权人：三菱电机株式会社
申请日： 2018-03-16 - 公布日： 2022-02-22 - 主分类号： G02B26/10 文献下载
摘要：光扫描装置(100)具备：镜部(1)，具有对光进行反射的镜面(1B)；N个支撑梁(2‑1)～(2‑4)，能够摇动地支撑镜部(1)；N个驱动梁(3‑1)～(3‑4)；以及驱动用的多个压电元件(5‑i‑a～d(i＝1～4))，被粘结到N个驱动梁上。通过将对多个压电元件(5‑i‑a、b、c、d)的各个提供的交流电压的频率设为确定的共同的值，将对多个压电元件(5‑i‑a、b、c、d)的各个提供的交流电压的相位设为与各压电元件的位置对应的确定的值，镜部(1)进动。
扫描装置以及调整方法

[发明专利]有机EL元件的制造方法-CN201680037703.9有效
发明人：哈尼·马赫·阿齐兹;梶山佳敬;梶山康一;水村通伸;藤森裕也 -专利权人： V科技股份有限公司
申请日： 2016-07-08 - 公布日： 2019-06-11 - 主分类号： H01L51/50 文献下载
摘要：本发明提供一种不用进行掩模而在适当的部位设置发光层的有机EL元件的制造方法。本发明的有机EL元件的制造方法在基板设置与构成的像素的颜色对应的第一电极，在基板的设有第一电极的一侧成膜空穴注入层，在基板的成膜出空穴注入层的一侧成膜空穴传输层，在基板的成膜出空穴传输层的一侧成膜用于使掺杂材料扩散的主材料层，使在金属层成膜有掺杂材料的供体基板的掺杂材料侧与主材料层接触，在掺杂材料所对应的颜色的像素所对应的电极与金属层之间沿层叠方向施加电流，使供体基板从基板分离，在扩散有掺杂材料的主材料层被成膜的一侧设置第二电极。
有机 el 元件制造方法

[发明专利]薄膜图案形成方法-CN201380016813.3有效
发明人：工藤修二;水村通伸;梶山康一;哈尼·马赫·阿齐兹;梶山佳敬 -专利权人：株式会社V技术
申请日： 2013-03-25 - 公布日： 2018-08-24 - 主分类号： H05B33/10 文献下载
摘要：本发明是薄膜图案形成方法，在基板(1)的表面形成具有规定形状的薄膜图案(14)，基板(1)在薄膜图案形成区域预先形成有电极，上述薄膜图案形成方法构成为包含：使透射可见光的树脂制成的膜(2)紧贴在上述基板(1)上的步骤；对上述基板(1)上的薄膜图案形成区域(11)照射激光(L)，在上述膜(2)中形成与薄膜图案(14)相同形状的开口图案(21)的步骤；通过上述膜(2)的开口图案(21)，在上述基板(1)上的上述薄膜图案形成区域(11)形成薄膜图案(14)的步骤；以及剥离上述膜(2)的步骤。由此，能在电极预先形成于薄膜图案形成区域的基板的表面容易形成高精细的薄膜图案。
薄膜图案形成方法

[发明专利]光电半导体装置及其制造方法-CN201710446511.X在审
发明人： 梶山佳敬 -专利权人：优显科技股份有限公司
申请日： 2017-06-14 - 公布日： 2018-03-13 - 主分类号： H01L27/15 文献下载
摘要：本发明公开一种光电半导体装置及其制造方法。光电半导体装置的制造方法包括以下步骤微尺寸光电半导体元件提供步骤、矩阵基板提供步骤、电极对位压合步骤、电极接合步骤、照光剥离步骤以及移除步骤。其中，电极接合步骤是提供第一光线聚光照射至少部分的这些第一电极与这些第三电极的接合处或至少部分的这些第二电极与这些第四电极的接合处。照光剥离步骤是提供第二光线聚光照射至少部分的这些微尺寸光电半导体元件与外延基材的界面，使经过第二光线照射的这些微尺寸光电半导体元件与外延基材剥离。
光电半导体装置及其制造方法

[发明专利]蒸镀掩膜、蒸镀掩膜的制造方法及薄膜图案形成方法-CN201280044893.9有效
发明人：杉本重人;梶山康一;水村通伸;工藤修二;木村江梨子;哈尼·马赫·阿齐兹;梶山佳敬 -专利权人：株式会社V技术
申请日： 2012-09-14 - 公布日： 2017-05-24 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明是用于在基板上蒸镀形成一定形状的薄膜图案的蒸镀掩膜，该蒸镀掩膜构成为具备透射可见光的树脂制的膜，该树脂制的膜对应于预先在所述基板上确定的所述薄膜图案的形成区域，形成了与该薄膜图案的形状尺寸相同的贯通的开口图案。
蒸镀掩膜制造方法薄膜图案形成

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