“V·菲利普森”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果2个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]吸收EUV的合金-CN201811045114.2有效
发明人： H·C·阿德尔曼;V·菲利普森;K·V·隆 -专利权人： IMEC非营利协会;鲁汶天主教大学
申请日： 2018-09-07 - 公布日： 2021-10-26 - 主分类号： C22C19/03 文献下载
摘要：第一方面中，本发明涉及包含如下的合金：i.在以下第一列表和第二列表中的一个列表中选择的一种或多种第一元素：‑由Ag、Ni、Co和Fe组成的第一列表，以及‑由Ru、Rh、Pd、Os、Ir、和Pt组成的第二列表，ii.在以下第一列表和第三列表中的一个列表中选择的一种或多种第二元素：‑第一列表，如果一种或多种第一元素并不是在所述第一列表中选择的话，以及‑由Sb和Te组成的第三列表，iii.任选的一种或多种第三元素，选自由B、N和P组成的列表，以及iv.任选的一种或多种第四元素，选自由W、Ta、Hf、Nb和Mo组成的列表。
吸收 euv 合金

[发明专利]用于EUV光刻的掩模版-CN201811037758.7有效
发明人：曾文德;K·V·隆;V·菲利普森;E·奥尔塔米拉诺桑切兹;K·范德斯密森 -专利权人： IMEC非营利协会;鲁汶天主教大学
申请日： 2018-09-06 - 公布日： 2021-06-25 - 主分类号： G03F1/22 文献下载
摘要：一种制造极紫外掩模版的方法，其包括：a.提供一种组件，该组件包括：(i)极紫外镜(2)；和(ii)至少覆盖极紫外镜的底部的腔；b.通过在腔中相对于不形成腔的部分的任何表面选择性地形成极紫外吸收结构来使腔被极紫外吸收结构填充。
用于 euv 光刻模版