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[发明专利]增强重叠计量的性能-CN202180095179.1在审
发明人： A·玛纳森;A·V·希尔;Y·瓦克宁;Y·西蒙;D·内格里;V·莱温斯基;Y·帕斯卡维尔;A·戈洛塔斯万;N·罗斯曼;N·K·雷迪;N·本大卫;A·阿布拉莫夫;D·雅科夫;Y·于齐耶尔;N·古特曼 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2021-06-29 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G01N21/956 文献下载
摘要：一种用于计量的方法包含引导至少一个照明射束照明半导体晶片，在所述半导体晶片上已相继沉积了至少第一经图案化层及第二经图案化层，包含所述第一经图案化层中的第一目标特征及所述第二经图案化层中的重叠在所述第一目标特征上的第二目标特征。在使一或多个成像参数变化的同时捕获所述第一目标特征及所述第二目标特征的一序列的图像，此变化是在整个所述序列期间发生。处理所述序列中的所述图像，以便识别所述图像中所述第一目标特征及所述第二目标特征的相应对称中心且测量所述对称中心随变化的图像参数的变化。在测量所述第一经图案化层与所述第二经图案化层之间的重叠误差时应用经测量变化。
增强重叠计量性能

[发明专利]利用短波红外线波长的光学计量-CN202280018258.7在审
发明人： A·玛纳森;I·萨利布;R·约哈南;D·沙皮罗乌;E·哈贾;V·莱温斯基;A·阿布拉莫夫;M·申迪思;A·希尔德斯海姆;Y·格劳尔;S·艾森巴赫;E·拉维特;I·尼尔 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2022-02-25 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： G01N21/35 文献下载
摘要：一种光学计量工具可包含：一或多个照射源，其用以产生既具有短波红外线(SWIR)光谱范围内又具有所述SWIR光谱范围外的波长的照射；照射光学器件，其经配置以将所述照射引导到样本；第一成像通道，其包含经配置以基于包含所述SWIR光谱范围中的至少一些波长的第一波长范围将所述样本成像的第一检测器；第二成像通道，其包含经配置以基于包含所述SWIR光谱范围外的至少一些波长的第二波长范围将所述样本成像的第二检测器；及控制器。所述控制器可从所述第一检测器接收所述样本的第一图像，从所述第二检测器接收所述样本的第二图像，并基于所述第一图像及所述第二图像来产生所述样本的光学计量测量。
利用短波红外线波长光学计量

[发明专利]产品上的叠加目标-CN202280016524.2在审
发明人： A·玛纳森;V·莱温斯基;I·多列夫;Y·于齐耶尔 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2022-01-07 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种产品，其包含半导体衬底，具有至少第一及第二薄膜层，所述薄膜层安置于所述衬底上，且被图案化以界定由切割道分隔且含有由所述切割道外切的有源区域的裸片的矩阵。多个叠加目标形成于所述有源区域中的每一者内的所述第一及第二薄膜层中，每一叠加目标在平行于所述衬底的平面中具有不大于10μm×10μm的尺寸。所述多个叠加目标包含形成于所述第一薄膜层中且具有第一光栅向量的第一线性光栅，及形成于所述第二薄膜层中、靠近所述第一线性光栅且具有平行于所述第一光栅向量的第二光栅向量的第二线性光栅。
产品叠加目标

[发明专利]确定随机行为对叠加计量数据的影响-CN201880014361.8有效
发明人： E·古列维奇;M·E·阿德尔;R·格伦黑德;Y·弗莱;V·莱温斯基;D·克莱因;S·阿哈龙 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2018-02-27 - 公布日： 2023-10-10 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明提供用于设计计量目标及相对于例如线性质(例如，线边缘粗糙度LER)的随机噪声来估计计量度量值的不确定性误差的方法。可通过具有对应目标的CDSEM(临界尺寸扫描电子显微镜)或光学系统，从所述线性质的分析及计量测量的不确定性误差导出目标元件的最小所需尺寸。鉴于发现在使用例如CPE(每曝光的可校正项)的更局域化模型时，随机噪声可能具有增大的重要性而强调此分析的重要性。所述不确定性误差估计可用于多种上下文中的目标设计、叠加估计增强及测量可靠性评估。
确定随机行为叠加计量数据影响

[发明专利]实时散射叠加计量目标-CN202180081102.9在审
发明人： Y·帕斯卡维尔;I·戈多尔;Y·卢巴舍夫斯基;V·莱温斯基;A·沃尔夫曼;Y·于齐耶尔 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2021-11-30 - 公布日： 2023-08-11 - 主分类号： G01N21/95 文献下载
摘要：根据本公开的一或多个实施例，公开一种计量目标。所述计量目标包含具有第一节距的第一组图案元素，其中所述第一组图案元素包含分段图案元素。所述计量目标包含具有第二节距的第二组图案元素，其中所述第二组图案元素包含分段图案元素。所述计量目标包含具有第三节距的第三组图案元素，其中所述第三组图案元素包含分段图案元素。
实时散射叠加计量目标

[发明专利]使用条纹摩尔及光学摩尔效应的偏移计量-CN202180043955.3在审
发明人： Y·弗莱;M·吉诺乌克;E·古列维奇;V·莱温斯基;A·斯维泽尔 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2021-07-21 - 公布日： 2023-02-14 - 主分类号： G01B11/25 文献下载
摘要：本发明公开一种计量系统及计量方法。所述计量系统包含照明子系统、集光子系统、检测器及控制器。所述控制器经配置以：接收样本上的叠加目标的图像；基于所述图像确定两个工作区之间沿着测量方向的表观叠加；及通过将所述表观叠加除以摩尔增益以补偿摩尔干涉而计算两个样本层之间的叠加。
使用条纹摩尔光学效应偏移计量

[发明专利]用于扫描计量的计量目标-CN202211367512.2在审
发明人： A·V·希尔;A·玛纳森;G·拉雷多;Y·弗莱;M·吉诺乌克;V·莱温斯基 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2020-06-24 - 公布日： 2022-12-30 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本申请实施例涉及用于扫描计量的计量目标。一种计量系统可包含经耦合到扫描计量工具的控制器，所述扫描计量工具使沿着扫描方向运动的样本成像。所述控制器可从所述扫描计量工具接收所述样本上的计量目标的图像，其中所述计量目标包括：第一测量群组，其包含沿着正交于所述扫描方向的横向方向分布的单元；及第二测量群组，其沿着所述扫描方向与所述第一测量群组分离，所述第二测量群组包含沿着所述横向方向分布的单元。所述控制器可进一步基于所述第一计量群组中的所述第一组单元中的至少一者来生成至少第一计量测量，及基于所述第二计量群组中的所述第二组单元中的至少一者来生成至少第二计量测量。
用于扫描计量目标

[发明专利]用于校正晶片倾斜对偏移测量的影响的系统及方法-CN202080099200.0在审
发明人： V·莱温斯基;D·内格里;A·玛纳森 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2020-04-05 - 公布日： 2022-11-22 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：一种用于校正半导体晶片的偏移测量中因晶片倾斜而引起的误差的方法，所述方法包含：对于晶片上的至少一个位置，测量相对于所述晶片的第一照明布置中的计量装置的工具诱导转移(TIS)与相对于所述晶片的第二照明布置中的所述计量装置的TIS之间的差值，其中在所述第一照明布置中所述晶片的表面大体上由所述计量装置的照明源正交地照明，而其中在所述第二照明布置中所述表面由所述照明源倾斜地照明；及通过从由所述计量装置在所述至少一个位置处所测量的偏移测量中减去所述第一与第二照明布置中的TIS之间的差值的加权值，校正所述偏移测量中因所述位置处所述晶片的倾斜引起的误差。
用于校正晶片倾斜偏移测量影响系统方法

[发明专利]用于扫描计量的计量目标-CN202080040950.0有效
发明人： A·V·希尔;A·玛纳森;G·拉雷多;Y·弗莱;M·吉诺乌克;V·莱温斯基 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2020-06-24 - 公布日： 2022-11-22 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种计量系统可包含经耦合到扫描计量工具的控制器，所述扫描计量工具使沿着扫描方向运动的样本成像。所述控制器可从所述扫描计量工具接收所述样本上的计量目标的图像，其中所述计量目标包括：第一测量群组，其包含沿着正交于所述扫描方向的横向分布的单元；及第二测量群组，其沿着所述扫描方向与所述第一测量群组分离，所述第二测量群组包含沿着所述横向方向分布的单元，所述第二测量群组。所述控制器可进一步基于所述第一计量群组中的所述第一组单元中的至少一者来生成至少第一计量测量，及基于所述第二计量群组中的所述第一组单元中的至少一者来生成至少第二计量测量。
用于扫描计量目标

[发明专利]用于以层特定照明光谱的计量的系统及方法-CN202210942537.4在审
发明人： A·玛纳森;D·内格里;A·V·希尔;O·巴沙尔;V·莱温斯基;Y·帕斯卡维尔 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2018-03-28 - 公布日： 2022-11-08 - 主分类号： G01J3/28 文献下载
摘要：本申请实施例涉及用于以层特定照明光谱的计量的系统及方法。本发明涉及一种计量系统，其包含图像装置及控制器。所述图像装置包含光谱可调照明装置及检测器，所述检测器用于基于响应于来自所述光谱可调照明装置的照明而从所述样本发出的辐射产生具有两个或两个以上样本层上的计量目标元件的样本的图像。所述控制器确定所述成像装置的层特定成像配置以在所选择的图像质量容限内成像所述两个或两个以上样本层上的所述计量目标元件，其中每一层特定成像配置包含来自所述光谱可调照明装置的照明光谱。所述控制器进一步接收使用所述层特定成像配置产生的所述两个或两个以上样本层上的所述计量目标元件的一或多个图像。
用于特定照明光谱计量系统方法

[发明专利]利用基于目标的空中图像的变换的焦点计量和目标-CN201680045370.4有效
发明人： N·古特曼;Y·弗莱;V·莱温斯基;O·卡米斯开 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2016-08-04 - 公布日： 2022-10-11 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明提供焦点计量方法和模块，其使用基于空中图像的变换以共享自多个目标导出的测量信息和/或设计针对指定兼容目标的额外目标，此实现依据改变的生产条件简单调整焦点目标。方法包括：将两个或两个以上焦点目标定位在每一晶片场中；进行目标的焦点测量；将焦点测量变换为针对每一场的单组结果；使用基于目标的空中图像的目标之间的变换；及自单组结果导出焦点结果；及可能使用指定目标的空中图像参数自指定目标设计焦点目标。
利用基于目标空中图像变换焦点计量

[发明专利]基于辅助电磁场的引入的一阶散射测量叠对的新方法-CN201680051708.7有效
发明人： V·莱温斯基;Y·帕斯卡维尔;Y·卢巴舍夫斯基;A·玛纳森 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2016-08-18 - 公布日： 2022-10-04 - 主分类号： G01N21/47 文献下载
摘要：本发明提供计量测量方法及工具，其由固定的照明源照明固定的衍射目标；测量由零阶衍射信号及一阶衍射信号的总和组成的信号；维持所述衍射目标及所述照明源固定的同时，针对所述零与所述第一衍射信号之间的多个关系重复所述测量；及从所述测量总和导出所述一阶衍射信号。照明可为相干的且可在光瞳平面中测量，或照明可为不相干的且可在场平面中测量，在任一情况下，测量所述零与所述一衍射阶的部分重叠。照明可为环形且所述衍射目标可为带有具有不同节距以分离所述重叠区域的周期性结构的单个单元SCOL目标。
基于辅助电磁场引入一阶散射测量新方法

[发明专利]用于以层特定照明光谱的计量的系统及方法-CN201880023805.4有效
发明人： A·玛纳森;D·内格里;A·V·希尔;O·巴沙尔;V·莱温斯基;Y·帕斯卡维尔 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2018-03-28 - 公布日： 2022-07-29 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明涉及一种计量系统，其包含图像装置及控制器。所述图像装置包含光谱可调照明装置及检测器，所述检测器用于基于响应于来自所述光谱可调照明装置的照明而从所述样本发出的辐射产生具有两个或两个以上样本层上的计量目标元件的样本的图像。所述控制器确定所述成像装置的层特定成像配置以在所选择的图像质量容限内成像所述两个或两个以上样本层上的所述计量目标元件，其中每一层特定成像配置包含来自所述光谱可调照明装置的照明光谱。所述控制器进一步接收使用所述层特定成像配置产生的所述两个或两个以上样本层上的所述计量目标元件的一或多个图像。所述控制器进一步基于所述两个或两个以上样本层上的所述计量目标元件的所述一或多个图像提供计量测量。
用于特定照明光谱计量系统方法

[发明专利]基于衍射的聚焦度量-CN201780063522.8有效
发明人： V·莱温斯基 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2017-06-02 - 公布日： 2022-06-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供能够通过覆盖测量工具实行敏感聚焦测量的基于衍射的聚焦目标单元、目标、及设计及测量方法。单元包括具有粗节距的周期性结构及以细节距布置的多个元件。所述粗节距是所述细节距的整数倍，其中所述细节距在一个设计规则节距与两个设计规则节距之间且小于测量分辨率，且所述粗节距大于所述测量分辨率。所述元件是不对称的以提供散射照明的+1衍射级及‑1衍射级中的不同振幅，且所述元件的子组具有大于可印刷性阈值的CD(临界尺寸)，且其它元件具有小于所述可印刷性阈值的CD。
基于衍射聚焦度量

[发明专利]使用云纹元件及旋转对称布置以成像叠加目标-CN202080061816.9在审
发明人： Y·弗莱;M·吉诺乌克;D·沙皮罗乌;E·古列维奇;V·莱温斯基 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2020-09-04 - 公布日： 2022-04-12 - 主分类号： G01B11/25 文献下载
摘要：一种计量目标可包含具有第一图案的一或多个例子的第一旋转对称工作区及具有第二图案的一或多个例子的第二旋转对称工作区，其中所述第一图案或所述第二图案中的至少一者是由在第一样本层上的具有沿着测量方向的第一节距的第一光栅结构及在第二样本层上的具有沿着所述测量方向的不同于所述第一节距的第二节距的第二光栅结构形成的云纹图案。当所述第一样本层与所述第二层之间的叠加误差是零时，所述第一工作区及所述第二工作区的旋转对称中心通过设计可重叠。所述第一工作区及所述第二工作区的所述旋转对称中心之间的差可指示所述第一样本层与所述第二样本层之间的叠加误差。
使用元件旋转对称布置成像叠加目标

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