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[发明专利]光学计量的准确度提升-CN202310920074.6在审
发明人： B·布林戈尔茨;E·古列维奇;I·阿达姆;Y·弗莱;D·阿鲁穆特;Y·拉姆霍特;N·夕拉;Y·德莱乌;T·耶其夫;E·亚希渥;L·撒尔通;T·里维安特 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2017-02-23 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本公开涉及光学计量的准确度提升。本发明提供提升计量测量的准确度的方法、计量模块及目标设计。方法提供对多个测量处方及设置的灵活处置且使得能够使所述多个测量处方及设置与指示其与谐振区域及平坦区域的关系的图谱特征相关。单独地或以组合方式采用对处方的群集化、自身一致性测试、对经汇总测量的共同处理、噪声降低、群集分析、对具有偏斜单元的图谱及目标的详细分析，以提供测量准确度的累积提升。
光学计量准确度提升

[发明专利]用于叠加计量的倾斜照明-CN202280017626.6在审
发明人： A·V·希尔;Y·弗莱;A·玛纳森;M·吉诺乌克;Y·瓦克宁 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2022-04-18 - 公布日： 2023-10-17 - 主分类号： G01N21/956 文献下载
摘要：一种叠加计量系统可包含适合于测量样本上的叠加目标的叠加计量工具，所述叠加目标包含具有沿着一或多个测量方向分布的图案化特征的一或多个光栅结构。所述叠加计量工具可包含物镜及照明通路以用分布在一或多个照明分布当中的两个或更多个倾斜照明波瓣来照明所述叠加目标，使得对于所述测量方向中的每一者，所述叠加目标对由所述物镜收集的所述一或多个照明分布的衍射级排他地包含来自所述两个或更多个照明波瓣中的至少一者的0级衍射波瓣及单个一级衍射波瓣。所述叠加计量工具可进一步包含用以将所述样本成像的至少一个检测器以及用以基于所述图像来产生叠加测量的控制器。
用于叠加计量倾斜照明

[发明专利]确定随机行为对叠加计量数据的影响-CN201880014361.8有效
发明人： E·古列维奇;M·E·阿德尔;R·格伦黑德;Y·弗莱;V·莱温斯基;D·克莱因;S·阿哈龙 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2018-02-27 - 公布日： 2023-10-10 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明提供用于设计计量目标及相对于例如线性质(例如，线边缘粗糙度LER)的随机噪声来估计计量度量值的不确定性误差的方法。可通过具有对应目标的CDSEM(临界尺寸扫描电子显微镜)或光学系统，从所述线性质的分析及计量测量的不确定性误差导出目标元件的最小所需尺寸。鉴于发现在使用例如CPE(每曝光的可校正项)的更局域化模型时，随机噪声可能具有增大的重要性而强调此分析的重要性。所述不确定性误差估计可用于多种上下文中的目标设计、叠加估计增强及测量可靠性评估。
确定随机行为叠加计量数据影响

[发明专利]光学计量的准确度提升-CN201780012673.0有效
发明人： B·布林戈尔茨;E·古列维奇;I·阿达姆;Y·弗莱;D·阿鲁穆特;Y·拉姆霍特;N·夕拉;Y·德莱乌;T·耶其夫;E·亚希渥;L·撒尔通;T·里维安特 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2017-02-23 - 公布日： 2023-07-14 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明提供提升计量测量的准确度的方法、计量模块及目标设计。方法提供对多个测量处方及设置的灵活处置且使得能够使所述多个测量处方及设置与指示其与谐振区域及平坦区域的关系的图谱特征相关。单独地或以组合方式采用对处方的群集化、自身一致性测试、对经汇总测量的共同处理、噪声降低、群集分析、对具有偏斜单元的图谱及目标的详细分析，以提供测量准确度的累积提升。
光学计量准确度提升

[发明专利]用于周期性偏移的一维测量的计量目标-CN202180039748.0在审
发明人： Y·弗莱;M·吉诺乌克 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2021-05-28 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种计量目标包含具有形成于样本的第一工作区或第二工作区中的至少一者内的一或多个第一目标结构的第一目标结构组。所述计量目标包含具有形成于所述第一工作区或所述第二工作区中的至少一者内的一或多个第二目标结构的第二目标结构组。所述第一工作区可包含对称中心，所述对称中心在所述样本的一或多个层不存在叠对误差时与所述第二工作区的对称中心重叠。所述计量目标可另外包含第三目标结构组、第四目标结构组或第五目标结构组。
用于周期性偏移测量计量目标

[发明专利]使用条纹摩尔及光学摩尔效应的偏移计量-CN202180043955.3在审
发明人： Y·弗莱;M·吉诺乌克;E·古列维奇;V·莱温斯基;A·斯维泽尔 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2021-07-21 - 公布日： 2023-02-14 - 主分类号： G01B11/25 文献下载
摘要：本发明公开一种计量系统及计量方法。所述计量系统包含照明子系统、集光子系统、检测器及控制器。所述控制器经配置以：接收样本上的叠加目标的图像；基于所述图像确定两个工作区之间沿着测量方向的表观叠加；及通过将所述表观叠加除以摩尔增益以补偿摩尔干涉而计算两个样本层之间的叠加。
使用条纹摩尔光学效应偏移计量

[发明专利]用于扫描计量的计量目标-CN202211367512.2在审
发明人： A·V·希尔;A·玛纳森;G·拉雷多;Y·弗莱;M·吉诺乌克;V·莱温斯基 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2020-06-24 - 公布日： 2022-12-30 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本申请实施例涉及用于扫描计量的计量目标。一种计量系统可包含经耦合到扫描计量工具的控制器，所述扫描计量工具使沿着扫描方向运动的样本成像。所述控制器可从所述扫描计量工具接收所述样本上的计量目标的图像，其中所述计量目标包括：第一测量群组，其包含沿着正交于所述扫描方向的横向方向分布的单元；及第二测量群组，其沿着所述扫描方向与所述第一测量群组分离，所述第二测量群组包含沿着所述横向方向分布的单元。所述控制器可进一步基于所述第一计量群组中的所述第一组单元中的至少一者来生成至少第一计量测量，及基于所述第二计量群组中的所述第二组单元中的至少一者来生成至少第二计量测量。
用于扫描计量目标

[发明专利]用于通过使用具有阴影线的目标设计来测量偏移的计量方法及光学方案-CN202180029473.2在审
发明人： Y·弗莱 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2021-04-22 - 公布日： 2022-12-02 - 主分类号： G01N21/956 文献下载
摘要：本发明公开一种经配置以测量样本上的覆盖误差的计量系统。所述计量系统在第一方向及/或第二方向上同时或依序测量所述样本上的覆盖误差。所述计量系统包括照明子系统，所述照明子系统经配置以使用一或多个照明波瓣照明所述样本上的具有阴影线的覆盖目标。所述计量系统进一步包括物镜及检测器，所述检测器位于图像平面处，所述检测器经配置以对所述具有阴影线的覆盖目标成像。控制器经配置以引导照明源产生所述照明波瓣、接收所述具有阴影线的覆盖目标的图像及计算所述样本的第一层与所述样本的第二层之间的覆盖误差。
用于通过使用具有阴影目标设计测量偏移计量方法光学方案

[发明专利]用于扫描计量的计量目标-CN202080040950.0有效
发明人： A·V·希尔;A·玛纳森;G·拉雷多;Y·弗莱;M·吉诺乌克;V·莱温斯基 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2020-06-24 - 公布日： 2022-11-22 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种计量系统可包含经耦合到扫描计量工具的控制器，所述扫描计量工具使沿着扫描方向运动的样本成像。所述控制器可从所述扫描计量工具接收所述样本上的计量目标的图像，其中所述计量目标包括：第一测量群组，其包含沿着正交于所述扫描方向的横向分布的单元；及第二测量群组，其沿着所述扫描方向与所述第一测量群组分离，所述第二测量群组包含沿着所述横向方向分布的单元，所述第二测量群组。所述控制器可进一步基于所述第一计量群组中的所述第一组单元中的至少一者来生成至少第一计量测量，及基于所述第二计量群组中的所述第一组单元中的至少一者来生成至少第二计量测量。
用于扫描计量目标

[发明专利]利用基于目标的空中图像的变换的焦点计量和目标-CN201680045370.4有效
发明人： N·古特曼;Y·弗莱;V·莱温斯基;O·卡米斯开 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2016-08-04 - 公布日： 2022-10-11 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明提供焦点计量方法和模块，其使用基于空中图像的变换以共享自多个目标导出的测量信息和/或设计针对指定兼容目标的额外目标，此实现依据改变的生产条件简单调整焦点目标。方法包括：将两个或两个以上焦点目标定位在每一晶片场中；进行目标的焦点测量；将焦点测量变换为针对每一场的单组结果；使用基于目标的空中图像的目标之间的变换；及自单组结果导出焦点结果；及可能使用指定目标的空中图像参数自指定目标设计焦点目标。
利用基于目标空中图像变换焦点计量

[发明专利]使用云纹元件及旋转对称布置以成像叠加目标-CN202080061816.9在审
发明人： Y·弗莱;M·吉诺乌克;D·沙皮罗乌;E·古列维奇;V·莱温斯基 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2020-09-04 - 公布日： 2022-04-12 - 主分类号： G01B11/25 文献下载
摘要：一种计量目标可包含具有第一图案的一或多个例子的第一旋转对称工作区及具有第二图案的一或多个例子的第二旋转对称工作区，其中所述第一图案或所述第二图案中的至少一者是由在第一样本层上的具有沿着测量方向的第一节距的第一光栅结构及在第二样本层上的具有沿着所述测量方向的不同于所述第一节距的第二节距的第二光栅结构形成的云纹图案。当所述第一样本层与所述第二层之间的叠加误差是零时，所述第一工作区及所述第二工作区的旋转对称中心通过设计可重叠。所述第一工作区及所述第二工作区的所述旋转对称中心之间的差可指示所述第一样本层与所述第二样本层之间的叠加误差。
使用元件旋转对称布置成像叠加目标

[发明专利]周期性半导体装置偏移计量学系统及方法-CN201980100031.5在审
发明人： D·米克尔松;Y·弗莱 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2019-09-16 - 公布日： 2022-04-12 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明公开一种可用于半导体装置的制造中的偏移计量学系统及方法，所述多层半导体装置包含：第一周期性结构，其具有沿着第一轴的第一间距，所述第一周期性结构与所述多层半导体装置的第一层一起形成；第二周期性结构，其具有沿着第二轴的第二间距，所述第二轴与所述第一轴不平行，所述第二周期性结构与所述多层半导体装置的所述第一层一起形成；及第三周期性结构，其具有沿着第三轴的第三间距，所述第三轴与所述第一轴不平行且所述第三轴与所述第二轴不平行，所述第三周期性结构与所述多层半导体装置的第二层一起形成，所述第三周期性结构及所述第一周期性结构及所述第二周期性结构彼此覆盖，所述偏移计量学系统及方法包含：产生所述第一周期性结构、所述第二周期性结构及所述第三周期性结构的单个图像，借此提供聚合信号；从所述聚合信号提取第一分量，所述第一分量归因于所述第一周期性结构；从所述聚合信号提取第二分量，所述第二分量归因于所述第二周期性结构；从所述聚合信号提取第三分量，所述第三分量归因于所述第三周期性结构；及分析所述第一分量、所述第二分量及所述第三分量，借此确定所述第一层与所述第二层之间的偏移。
周期性半导体装置偏移计量学系统方法

[发明专利]多层莫尔目标及其在测量半导体装置的偏移中的使用方法-CN202080041780.8在审
发明人： Y·弗莱;M·吉诺乌克 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2020-03-27 - 公布日： 2022-02-01 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于计算形成于半导体装置晶片上的至少第一层、第二层与第三层之间的偏移的多层莫尔目标，其包含周期性结构堆叠的至少一个群组，所述至少一个群组各自包含：第一堆叠，其包含第一堆叠第一周期性结构(S1P1)，所述S1P1沿着第一轴具有S1P1间距；第二堆叠，其包含第二堆叠第一周期性结构(S2P1)，所述S2P1沿着第二轴具有S2P1间距；及第三堆叠，其包含第三堆叠第一周期性结构(S3P1)，所述S3P1沿着第三轴具有S3P1间距；所述第一轴平行于x轴或y轴，且所述堆叠中的至少一者包含第二周期性结构，所述第二周期性结构沿着至少一个第四轴具有第二周期性结构间距，所述至少一个第四轴平行于所述第一轴且与所述轴中的一者同轴。
多层莫尔目标及其测量半导体装置偏移中的使用方法

[发明专利]用于测量及校正半导体装置中的层之间的偏移的方法及用于其中的偏移目标-CN201980096802.8在审
发明人： R·弗克维奇;R·米洛;L·叶鲁舍米;M·查贝尔赤可;Y·弗莱;D·伊兹拉埃利 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2019-05-06 - 公布日： 2022-01-11 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：一种用于半导体装置晶片的制造中的偏移的测量的方法，所述方法包含：在第一例子测量半导体装置晶片的层之间的偏移且提供第一偏移指示；在第二例子测量半导体装置晶片的层之间的偏移且提供第二偏移指示；响应于所述第一偏移指示与所述第二偏移指示之间的差而提供偏移测量差输出；提供基线差输出；及改善所述偏移测量差输出与所述基线差输出之间的差。
用于测量校正半导体装置中的之间偏移方法目标

[发明专利]分析及利用景观-CN201580060081.7有效
发明人： T·马西安诺;B·布尔戈尔茨;E·古列维奇;I·阿达姆;Z·林登费尔德;Z·赵;Y·弗莱;D·坎戴尔;N·卡梅尔;A·玛纳森;N·阿米尔;O·卡米斯开;T·耶其夫;O·萨哈兰;M·库柏;R·苏里马斯基;T·里维安特;N·夕拉;B·埃弗拉蒂;L·撒尔通;A·汉德曼;E·亚希渥;O·巴沙尔 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2015-11-24 - 公布日： 2021-05-25 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明提供导出计量度量对配方参数的部分连续相依性、分析所述导出的相依性、根据所述分析来确定计量配方，及根据所述确定的配方来进行计量测量的方法。所述相依性可以景观(例如敏感度景观)的形式来进行分析，其中以分析方式、以数字方式或以实验方式检测具有低敏感度的区域，及/或具有低或零不准确度的点或轮廓，且用于配置测量、硬件及目标的参数，以实现高测量准确度。工艺变化是就其对所述敏感度景观的效应进行分析，且这些效应用于进一步特性化所述工艺变化，以优化所述测量且使所述计量对于不准确度源更稳健，且相对于晶片上的不同目标及可用测量条件更灵活。
分析利用景观

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