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[发明专利]压片α-氧化铝催化剂载体-CN202180045468.0在审
发明人： S·Y·崔;A·卡尔波夫;C·瓦尔斯多夫;N·杜伊克特;天川和彦;P·乌巴奇;K·C·卡拉斯 -专利权人：巴斯夫欧洲公司
申请日： 2021-06-25 - 公布日： 2023-04-21 - 主分类号： B01J23/50 文献下载
摘要：一种压片催化剂载体，其特征在于至少85重量％的α‑氧化铝含量、如通过汞孔隙率法测定的至少0.4mL/g的孔隙体积和0.5至5.0m2/g的BET表面积。所述压片催化剂载体是以高几何精度获得并表现出高的总孔隙体积的α‑氧化铝催化剂载体，因此允许用高量的银浸渍，同时表现出足够大的表面积以提供催化活性物类，特别是金属物类的最佳分散。本发明进一步提供一种生产压片α‑氧化铝催化剂载体的方法，其包含i)形成自由流动的进料混合物，其包含基于无机固含量计至少50重量％的过渡型氧化铝；ii)将所述自由流动的进料混合物压片以获得压实体；和iii)在至少1100℃，优选至少1300℃，更优选至少1400℃，特别是至少1450℃的温度下热处理所述压实体，以获得压片α‑氧化铝催化剂载体。本发明还涉及通过将自由流动的进料混合物压片而得的压实体，其包含基于无机固含量计至少50重量％的具有最多600g/L的松散堆积密度、如测定的至少0.6mL/g的孔隙体积和至少15nm的中值孔径的过渡型氧化铝。本发明还涉及一种用于通过乙烯的气相氧化生产环氧乙烷的成型催化剂体，其包含沉积在压片α‑氧化铝催化剂载体上的相对于催化剂的总重量计至少15重量％的银。本发明还涉及一种通过乙烯的气相氧化生产环氧乙烷的方法，其包含使乙烯和氧气在所述成型催化剂体存在下反应。
压片氧化铝催化剂载体

[发明专利]生产多孔α-氧化铝催化剂载体的方法-CN202180045865.8在审
发明人： S·Y·崔;A·卡尔波夫;C·瓦尔斯多夫;P·乌巴奇;K·C·卡拉斯 -专利权人：巴斯夫欧洲公司
申请日： 2021-06-25 - 公布日： 2023-04-21 - 主分类号： B01J21/04 文献下载
摘要：一种生产多孔α‑氧化铝催化剂载体的方法，其包含i)制备前体材料，其包含基于无机固含量计，至少50重量％的具有最多600g/L的松散堆积密度、至少0.6mL/g的孔隙体积和至少15nm的中值孔径的过渡型氧化铝；和最多30重量％的水合氧化铝；ii)将所述前体材料成型为成型体；和iii)煅烧所述成型体以获得多孔α‑氧化铝催化剂载体。所述催化剂载体是具有高的总孔隙体积，因此允许用高量的银浸渍，同时使其表面积保持足够大以提供催化活性物类，特别是金属物类的最佳分散。本发明进一步涉及一种用于通过乙烯的气相氧化生产环氧乙烷的成型催化剂体，其包含沉积在上述方法中获得的多孔α‑氧化铝催化剂载体上的相对于催化剂的总重量计至少15重量％的银。本发明还涉及一种制备如上所述的成型催化剂体的方法，其包含a)优选在减压下用银浸渍溶液浸渍在如上所述的方法中获得的多孔α‑氧化铝催化剂载体；和任选对浸渍的多孔氧化铝载体施以干燥；和b)对浸渍的多孔α‑氧化铝载体施以热处理；其中步骤a)和b)任选重复。本发明还涉及一种通过乙烯的气相氧化生产环氧乙烷的方法，其包含使乙烯和氧气在如上所述的成型催化剂体存在下反应。
生产多孔氧化铝催化剂载体方法

[发明专利]多孔催化剂载体成型体-CN202180045882.1在审
发明人： S·Y·崔;A·卡尔波夫;C·瓦尔斯多夫;P·乌巴奇;H·魏因多克;B·欣里希森;G·普里托冈萨雷斯;T·罗德纳斯托拉尔巴;K·C·卡拉斯 -专利权人：巴斯夫欧洲公司
申请日： 2021-06-25 - 公布日： 2023-03-28 - 主分类号： B01J23/50 文献下载
摘要：一种多孔催化剂载体成型体，其包含至少85重量％的α‑氧化铝，其中所述载体具有如通过水银孔率法测定的在0.5至2.0mL/g的范围内的总孔隙体积，和特征如下的孔隙结构：在1.0至2.0的范围内的几何迂曲度τ；和在0.060至1.0的范围内的有效扩散参数η；其中几何迂曲度τ和有效扩散参数η由聚焦离子束扫描电子显微镜分析的计算机辅助三维重建通过图像分析算法测定。所述载体的结构具有高的总孔隙体积，以致有可能用大量的银浸渍，同时表面积保持足够高以确保催化活性物类，尤其是金属物类的最佳分散。所述载体的孔隙结构带来载体内的最大传质速率。本发明还涉及一种用于通过乙烯的气相氧化制备环氧乙烷的成型催化剂体，其包含沉积在如上所述的多孔催化剂载体成型体上的基于催化剂的总重量计至少15重量％的银。本发明进一步涉及一种生产成型催化剂体的方法，其中a)优选在减压下用银浸渍溶液浸渍根据如上所述的多孔催化剂载体成型体；和任选对浸渍的多孔催化剂载体成型体施以干燥；和b)对浸渍的多孔催化剂载体成型体施以热处理；其中步骤a)和b)任选重复。本发明还涉及一种通过乙烯的气相氧化制备环氧乙烷的方法，其包含使乙烯和氧气在根据权利要求11的成型催化剂体存在下反应。
多孔催化剂载体成型

[发明专利]具有用于功率调制的声光调制器的激光闭合功率回路-CN202080056528.4在审
发明人： M·帕兰杰佩;S·Y·崔;A·罗曼诺夫斯基;M·丹尼尔;N·阿森鲍姆-德雷;J·陈 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2020-08-13 - 公布日： 2022-03-18 - 主分类号： H01S3/106 文献下载
摘要：本发明公开一种激光束功率调制系统，其包含接收激光束且基于输入信号将所述激光束分离成主光束及多个衍射光束的声光调制器(AOM)。所述主光束的功率取决于所述输入信号。所述系统还包含：狭缝，其透射所述主光束且捕集所述多个衍射光束；控制器，其至少部分基于指示所述主光束的所述功率或使用所述主光束产生的光束的功率的反馈产生控制信号；及驱动器，其至少部分基于所述控制信号产生所述输入信号。
具有用于功率调制声光调制器激光闭合回路

[发明专利]用于移动装置的取向感知音频声场映射-CN201610840076.4有效
发明人： A·S·多伊;J·简;R·波勒罗斯;V·尼加姆;S·Y·崔 -专利权人：马克西姆综合产品公司
申请日： 2016-07-25 - 公布日： 2021-01-01 - 主分类号： H04R3/14 文献下载
摘要：本发明公开了一种具有取向感知音频映射能力的移动装置。所述移动装置具有辅助扬声器、扩音扬声器、和用于装置取向检测的传感器、以及耦合到所述传感器和所述扬声器的处理器(或者多个处理器)。取决于装置取向，所述处理器将映射的音频输出发送到所述扬声器。映射的音频输出可以是单声道音频信号或者立体声音频信号。所述立体声音频输出信号可以是在辅助扬声器与扩音扬声器之间具有均衡的或者偏置的音频功率分配的立体声音频输出信号。
用于移动装置取向感知音频声场映射

[发明专利]用于在有机发光二极管基板上形成封装层的方法-CN201710769924.1在审
发明人： J·J·陈;S·Y·崔 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2013-08-06 - 公布日： 2018-02-06 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：本发明涉及用于在有机发光二极管(OLED)基板上形成封装层的方法。提供用于封装有机发光二极管(OLED)结构的方法及装置，上述有机发光二极管结构使用材料混合层布置于基板上。封装方法可以作为单一或多重腔室处理来实行。在材料混合层的沉积期间所使用的处理参数允许控制沉积的混合层的特征。混合层可被沉积，使得在混合层的某些子层中具有无机材料的特征，且在混合层的其他子层中具有有机材料的特征。混合材料的使用允许OLED封装使用单一硬掩模，以低花费完成封装处理，而无呈现于传统处理中的对准问题。
用于有机发光二极管基板上形成封装方法

[发明专利]用于有机发光二极管的混合封装的方法-CN201380044659.0有效
发明人： J·J·陈;S·Y·崔 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2013-08-06 - 公布日： 2017-08-29 - 主分类号： H01L51/52 文献下载
摘要：提供用于封装有机发光二极管(OLED)结构的方法及装置，上述有机发光二极管结构使用材料混合层布置于基板上。封装方法可以作为单一或多重腔室处理来实行。在材料混合层的沉积期间所使用的处理参数允许控制沉积的混合层的特征。混合层可被沉积，使得在混合层的某些子层中具有无机材料的特征，且在混合层的其他子层中具有有机材料的特征。混合材料的使用允许OLED封装使用单一硬遮罩，以低花费完成封装处理，而无呈现于传统处理中的对准问题。
用于有机发光二极管混合封装方法

[发明专利]沉积包封膜的方法-CN201380009246.9有效
发明人： J·J·陈;T·K·元;B·S·朴;Y·J·崔;S·Y·崔 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2013-02-15 - 公布日： 2017-02-22 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：描述一种将材料层(例如包封膜)沉积至基板上的方法及装置。于一实施例，包封膜形成方法包括传送气体混合物至处理室中，此气体混合物包括含硅气体、第一含氮气体、第二含氮气体以及氢气；施加介于约0.350瓦/平方厘米至约0.903瓦/平方厘米的能量至气体分配板组件，以激励处理室中的气体混合物，气体分配板组件与位于所述处理室中的基板的间隔约800密耳至约1800密耳，且气体分配板组件在所述基板上方；于介于约0.5托耳至约3.0托耳之间的压力下，维持于处理室中的激励的气体混合物；以及在此被激励的气体混合物存在之下，沉积无机包封膜至基板上。于其他实施例，有机电介质层是夹在无机包封层之间。
沉积包封膜方法

[发明专利]化妆品用颜料混合物-CN201280011455.2有效
发明人： S·Y·崔 -专利权人：巴斯夫公司
申请日： 2012-02-14 - 公布日： 2016-10-19 - 主分类号： A61K8/19 文献下载
摘要：本发明提供了包含第一和第二效果颜料的颜料组合物，其中所述组合物具有与胭脂红相当的色相，但是不包含胭脂红。
化妆品颜料混合物

[发明专利]用于链烷脱氢的氧化铬氧化铝催化剂-CN201280057106.4无效
发明人： S·Y·崔 -专利权人：巴斯夫欧洲公司
申请日： 2012-09-20 - 公布日： 2014-08-27 - 主分类号： B01J21/08 文献下载
摘要：本发明提供了制备包含三羟铝石和二氧化硅的脱氢催化剂载体的方法。通过喷雾干燥三羟铝石粉末、在三羟铝石浆中利用酸来沉淀二氧化硅、或者利用硅酸钠溶液来浸渍三羟铝石或与之共挤出而制备的二氧化硅稳定的氧化铝粉末被发现为较好的催化剂载体前体。用这些包含二氧化硅的载体材料制备的催化剂比现有的催化剂具有更高的水热稳定性。本发明还提供了包含Cr₂O₃、碱金属氧化物、SiO₂和Al₂O₃的脱氢催化剂，以及使用所述催化剂来制备烯烃和/或将可脱氢烃脱氢的方法。
用于脱氢氧化铬氧化铝催化剂

[发明专利]改善大面积基板均匀性的方法和设备-CN200780010242.7有效
发明人： S·Y·崔;J·M·怀特 -专利权人：应用材料股份有限公司
申请日： 2007-03-07 - 公布日： 2009-05-27 - 主分类号： C23C16/00 文献下载
摘要：本发明的实施例大致上提供改善沉积在大面积基板上膜(特别是沉积在PECVD系统中的膜)的均匀性的方法与设备。在一实施例中，一等离子处理腔室是被建构成相对于基板为非对称，以补偿腔室中被不希望磁场造成的等离子密度非均匀性。在另一实施例中，一等离子处理腔室是适用以建立一中性电流分流路径，其可以减少电流，其中该电流是流动通过腔室中一产生磁场的特征结构。在另一实施例中，本发明是提供一种在等离子处理腔室中大面积基板上沉积均一膜的方法。通过建立一中性电流分流路径，腔室被建构成在处理期间为电性对称，该中性电流分流路径可以实质上减少中性电流，其中该中性电流是通过腔室中一产生磁场的特征结构(例如一狭缝阀开口或其它腔室壁穿孔)。
改善大面积均匀方法设备

[发明专利]沉积光电元件用的微晶硅层的方法与设备-CN200780000417.6无效
发明人： S·Y·崔;T·竹原;J·M·怀特;Y·E·蔡 -专利权人：应用材料股份有限公司
申请日： 2007-11-23 - 公布日： 2008-12-10 - 主分类号： H01L31/00 文献下载
摘要：本发明提供一种具有改良沉积速率与良好膜层品质的微晶硅层沉积方法。此外，也提供一种具有此微晶硅层的光电(PV)电池。在一实施方式中，此方法包含以每分钟＞20nm的沉积速率沉积一微晶硅层在一基板上，其中该微晶硅层的结晶体积在约20％到80％间。
沉积光电元件微晶硅层方法设备

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