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[发明专利]用于空腔防腐的方法、混合喷嘴单元以及具有这种混合喷嘴单元的空腔防腐装置-CN201980084370.9在审
发明人： M·恩格尔哈特;F·多尔 -专利权人：机器人用智能外部设备有限责任公司
申请日： 2019-11-06 - 公布日： 2021-08-10 - 主分类号： B05B13/04 文献下载
摘要：提出了一种用来通过将保护层（110）涂覆在空心体（100）的内侧面上的空腔防腐的方法。所述方法在使用混合喷嘴单元的情况下进行，所述混合喷嘴单元利用在近侧的端部（60A）与转子单元（50）耦联，借助于所述转子单元使得所述混合喷嘴单元能够围绕旋转轴线（2）来旋转，并且所述混合喷嘴单元具有混合喷嘴（80）。所述混合喷嘴单元（60）具有两个分离的并且沿着所述旋转轴线（2）的方向延伸的输送管道（70、72），所述输送管道用于所述空腔防腐剂并且用于为了所述空腔防腐剂的破碎的目的的气体，通过所述输送管道使得所述空腔防腐剂和破碎气体以分离的方式引导直至所述混合喷嘴。所述混合喷嘴单元（60）沿着所述旋转轴线（2）的方向穿过所述空心体（100）的开口（102）驶入到所述空心体（100）中，从而使得至少所述混合喷嘴（80）存在于所述空心体（200）之内。借助于所述混合喷嘴（80）使得空腔防腐剂在那里以破碎的方式被排出，其中，在所述排出期间或者在多个排出阶段之间所述混合喷嘴单元（60）围绕所述旋转轴线（2）相对于所述空心体（100）来旋转。
用于空腔防腐方法混合喷嘴单元以及具有这种装置

[发明专利]通过增材制造来制造物体的方法和用于增材制造物体的设备-CN201811250170.X有效
发明人： N·达里亚瓦赫;N·威廉姆斯;M·恩格尔哈特 -专利权人：通用电气公司
申请日： 2018-10-25 - 公布日： 2021-04-23 - 主分类号： B22F3/105 文献下载
摘要：本发明提供了一种通过增材制造来制造物体的方法。所述方法包括照射粉末床中的粉末部分，所述照射产生延伸到粉末的离子通道。所述方法还包括将电能施加到所述离子通道，其中，电能通过所述离子通道传送到所述粉末床中的粉末，来自所述照射的能量和所述电能各自有助于熔化或烧结所述粉末床中的粉末部分。
通过制造物体方法用于设备

[发明专利]航空电子换热器-CN201811540542.2有效
发明人： N·达里亚瓦赫;M·恩格尔哈特 -专利权人：通用电气航空系统有限责任公司
申请日： 2018-12-17 - 公布日： 2021-02-02 - 主分类号： H05K7/20 文献下载
摘要：一种用于冷却电子部件的换热器包括传热室，所述传热室包括具有第一密度的加热物质和具有第二密度的液态冷却剂。所述换热器还可包括循环回路，所述循环回路使加热物质再循环通过所述传热室以用于与所述液态冷却剂混合。
航空电子换热器

[发明专利]分段式边缘保护屏蔽件-CN201610339357.1有效
发明人： M·恩格尔哈特;G·埃伦特劳特;M·勒斯纳 -专利权人：英飞凌科技股份有限公司
申请日： 2016-05-19 - 公布日： 2020-10-27 - 主分类号： H01L21/78 文献下载
摘要：本申请涉及分段式边缘保护屏蔽件。分段式边缘保护屏蔽件用于等离子体切割晶圆。该分段式边缘保护屏蔽件包括外结构和多个等离子体屏蔽边缘区段。外结构限定被配置为与晶圆的圆周边缘对应的内环形边缘。多个等离子体屏蔽边缘区段中的每一个都通过内边缘和侧边缘来限定。内边缘在外结构的环形边缘内并与环形边缘同心。侧边缘在内边缘和环形边缘之间延伸。
段式边缘保护屏蔽

[发明专利]集成电路衬底及其制造方法-CN201610270614.0有效
发明人： M·勒斯纳;M·恩格尔哈特;G·斯特兰茨尔;M·扎加 -专利权人：英飞凌科技股份有限公司
申请日： 2016-04-27 - 公布日： 2019-10-08 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本申请涉及集成电路衬底及其制造方法。说明书公开了一种用于制造集成电路芯片的方法。该方法包括提供具有多个集成电路的晶片，每个集成电路设置在独立的有源区域中，并且对于每个有源区域，在有源区域外设置与集成电路相关联的代码图案。还公开了计算机可读介质。此外，还公开了制造装置，其被配置为接收晶片并从晶片中去除材料来为晶片提供形成为用于将晶片分离为裸片的沟槽的划线。说明书还公开了晶片、源于原始晶片并承载集成电路的集成电路芯片裸片衬底以及集成电路芯片。
集成电路衬底及其制造方法

[发明专利]半导体器件的加工-CN201610090280.9有效
发明人： H·埃德;M·恩格尔哈特 -专利权人：英飞凌科技股份有限公司
申请日： 2016-02-17 - 公布日： 2019-01-22 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：一种减薄晶片的方法包括使用磨削工艺来减薄该晶片。经过磨削处理后，该晶片具有厚度上的第一不均匀度。该减薄的晶片使用等离子体工艺来蚀刻。在蚀刻工艺后该晶片具有厚度上的第二不均匀度。该第二不均匀度小于第一不均匀度。
半导体器件加工

[发明专利]具有反锥形的介电结构及其形成方法-CN201610080704.3有效
发明人： M·恩格尔哈特 -专利权人：英飞凌科技股份有限公司
申请日： 2016-02-04 - 公布日： 2019-01-22 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明涉及具有反锥形的介电结构及其形成方法。一种用于形成介电结构的方法，包括在衬底之上形成辅助层，以及在辅助层内形成孔。填充材料被沉积到孔中。去除辅助层以形成具有反锥形的介电结构。介电结构的顶部关键尺寸大于底部关键尺寸。
具有锥形结构及其形成方法

[发明专利]用于背面金属化的截口准备-CN201510130021.X有效
发明人： M·勒斯纳;M·恩格尔哈特;J·施米德;G·斯特兰茨尔;J·希尔施勒 -专利权人：英飞凌科技股份有限公司
申请日： 2015-03-24 - 公布日： 2018-07-06 - 主分类号： H01L21/78 文献下载
摘要：依照本发明的实施例，一种形成半导体器件的方法包括使用粘合部件将衬底附接至载体，并且穿过该衬底形成贯穿沟槽以暴露该粘合部件。该粘合部件的至少一部分被蚀刻，并且金属层被形成在该贯穿沟槽的侧壁之上。
粘合部件衬底蚀刻半导体器件背面金属化金属层贯穿侧壁附接截口穿过暴露

[发明专利]用于工艺调整的在公共衬底的电子芯片中的可去除指示器结构-CN201410183496.0有效
发明人： E·富尔古特;I·埃舍尔-珀佩尔;M·恩格尔哈特;H-J·蒂默;H·埃德 -专利权人：英飞凌科技股份有限公司
申请日： 2014-04-30 - 公布日： 2017-12-15 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：提供了一种处理多个封装的电子芯片的方法，该多个封装的电子芯片在公共衬底中彼此连接，其中该方法包括蚀刻电子芯片；检测指示在指示器结构的暴露之后的、指示器结构的至少部分去除的信息，指示器结构被嵌入在电子芯片的至少一部分内并且在蚀刻已经去除在指示器结构上方的芯片材料之后被暴露；并且在检测到指示指示器结构的至少部分去除的信息之后调整处理。
用于工艺调整公共衬底电子芯片中的去除指示器结构

[发明专利]具有掩埋隔离层的衬底及其形成方法-CN201611065064.5在审
发明人： I·莫德;J·鲍姆加特尔;M·恩格尔哈特;O·赫尔蒙德;I·穆里;H-J·舒尔策 -专利权人：英飞凌科技股份有限公司
申请日： 2016-11-28 - 公布日： 2017-06-09 - 主分类号： H01L21/762 文献下载
摘要：本发明涉及具有掩埋隔离层的衬底及其形成方法。一种用于制造半导体器件的方法包括在第一横向外延过生长区域中形成开口以暴露在开口内的半导体衬底的表面。该方法还包括在开口内的半导体衬底的暴露的表面处形成绝缘层以及使用横向外延生长工艺，使用第二半导体材料填充开口以形成第二横向外延过生长区域。
具有掩埋隔离衬底及其形成方法

[发明专利]等离子体系统及使用该系统进行处理的方法-CN201610608823.1在审
发明人： M·恩格尔哈特 -专利权人：英飞凌科技股份有限公司
申请日： 2016-07-28 - 公布日： 2017-02-15 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本公开涉及等离子体系统及使用该系统进行处理的方法。其中等离子体系统包括等离子体室，其包括室壁，具有设置在室壁内的第一焦线和第二焦线。第一天线在第一焦线处设置在等离子体室内。室壁被配置为将来自第一天线的辐射聚焦到第二焦线上。
等离子体系统使用进行处理方法

[发明专利]半导体器件以及用于制造半导体器件的方法-CN201410117424.6有效
发明人： M·恩格尔哈特;M·扎加 -专利权人：英飞凌科技股份有限公司
申请日： 2014-03-26 - 公布日： 2014-10-01 - 主分类号： B81C1/00 文献下载
摘要：本发明的实施例涉及半导体器件以及用于制造半导体器件的方法。一种方法包括执行时间多路复用蚀刻处理的步骤，其中时间多路复用蚀刻处理中最后的蚀刻步骤具有第一持续时间。在执行该时间多路复用蚀刻处理之后，执行具有第二持续时间的蚀刻步骤，其中第二持续时间大于第一持续时间。
半导体器件以及用于制造方法

[发明专利]用于施涂涂覆剂的喷嘴-CN201180048145.3有效
发明人： S·施特勒莱因;M·恩格尔哈特 -专利权人：杜尔系统有限责任公司;机器人智能设备有限责任公司
申请日： 2011-08-17 - 公布日： 2013-06-12 - 主分类号： B05B13/06 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于施涂涂覆剂的喷嘴（1），所述喷嘴尤其用于在接缝密封期间将蜡施涂在车体部件上或用于在容腔防护期间将防护剂施涂在车体部件上，其具有细长的中空的喷头（4），所述喷头用于沿其纵向轴线（17）供应待施涂的涂覆剂经过喷头（4），以及至少一个用于分配涂覆剂的喷嘴开口（10、11），其中喷嘴开口（10、11）设置在喷头（4）的侧表面中并且相对于喷头（4）的纵向轴线（17）侧向地分配涂覆剂。建议的是，喷嘴开口（10、11）能够围绕喷头（4）的纵向轴线（17）旋转，以使得涂覆剂能够根据喷嘴开口（10、11）的角位置沿不同的方向分配。
用于施涂涂覆剂喷嘴

[发明专利]用于处理载体的设备和用于处理载体的方法-CN201210529849.9有效
发明人： M·恩格尔哈特 -专利权人：英飞凌科技股份有限公司
申请日： 2012-10-25 - 公布日： 2013-05-01 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明公开了用于处理载体的设备和用于处理载体的方法。各种实施例提供用于处理载体的设备，所述设备包括：被配置成接收载体的载体接收部分，所述载体包括一个或多个平坦区域和一个或多个边缘区域；处理部分，其包括：第一电极；第二电极，其中第二电极与第一电极分开；以及形成在第一电极和第二电极之间的介电材料；以及其中第一电极被配置成接收第一电位并且第二电极被配置成接收第二电位以激活第一电极和第二电极之间的供应的气体；其中第一电极和第二电极被布置成与导向载体的一个或多个平坦区域相比，将更多的供应的激活气体导向一个或多个边缘区域。
用于处理载体设备方法

[发明专利]用于控制压缩机的方法-CN201180037156.1无效
发明人： M·恩格尔哈特 -专利权人：大陆-特韦斯贸易合伙股份公司及两合公司
申请日： 2011-06-01 - 公布日： 2013-04-10 - 主分类号： B60G17/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于控制车辆空气悬架系统中压缩空气供给的压缩机的方法，其中利用温度模型计算出压缩机温度，且在超出预先确定的允许压缩机温度TG时切断压缩机或者以另一种工作方式使压缩机继续工作，其中预先确定至少两个不同的允许压缩机温度TG1
用于控制压缩机方法

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