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[发明专利]使用分布式分类账提供可解释的机器学习模型结果-CN202180081844.1在审
发明人： G·P·什切潘尼克;L·J·帕卢斯;K·S·帕特尔;S·S·帕特尔 -专利权人：国际商业机器公司
申请日： 2021-11-16 - 公布日： 2023-08-15 - 主分类号： G06N3/063 文献下载
摘要：通过接收机器学习(ML)模型的输入数据、使用ML模型处理输入数据、产生初始结果、向分布式账本添加第一块来提供可再现的机器学习模型结果，该块包括输入数据、初始结果、ML模型数据结构和到ML模型的训练数据的链接，其中所述训练数据驻留在先前的分布式账本块中，并且提供包括初始结果的输出。
使用分布式分类账提供可解释机器学习模型结果

[发明专利]使用存储系统优化的增强的应用性能-CN202180077367.1在审
发明人： G·P·什切帕尼克;K·S·帕特尔;S·S·帕特尔;L·J·帕卢斯 -专利权人：国际商业机器公司
申请日： 2021-11-09 - 公布日： 2023-08-01 - 主分类号： G06F3/00 文献下载
摘要：提供了用于存储系统优化的分层迁移的方法、计算机系统和计算机程序产品。该方法可以包括基于访问计数器确定移动数据以平衡存储驱动器与存储层之间的工作负荷(302)。该方法可以包括与互连应用程序接口建立连接(304)。该方法可以包括收集和转换物理访问计数器(306)。该方法可以包括收集热图数据(308)。该方法可以包括计算内部映射改变事件的分层迁移计划(310)。
使用存储系统优化增强应用性能

[发明专利]可湿法显影的底部抗反射涂料组合物及其使用方法-CN200780014095.0有效
发明人：陈光荣;M·霍伊贾斯坦;邝惠玲;M·C·劳森;李文杰;K·S·帕特尔;P·R·瓦拉纳西 -专利权人：国际商业机器公司
申请日： 2007-04-18 - 公布日： 2009-05-06 - 主分类号： G03C1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于在衬底表面和正性光刻胶组合物之间施用的抗反射涂料组合物。该抗反射涂料组合物可在含水碱性显影液中显影。该抗反射涂料组合物包含聚合物，该聚合物包含至少一种含选自内酯、马来酰亚胺和N-烷基马来酰亚胺的一个或多个结构部分的单体单元和至少一种含一个或多个吸收性结构部分的单体单元。该聚合物不包含酸不稳定基团。本发明还公开了一种通过在光刻中使用本发明抗反射涂料组合物形成并转印浮雕图像的方法。
湿法显影底部反射涂料组合及其使用方法

[发明专利]用于减少沉浸式光刻装置机械磨损的集成电路制造-CN200710192730.6无效
发明人： K·S·帕特尔;D·A·科利斯 -专利权人：国际商业机器公司
申请日： 2007-11-16 - 公布日： 2008-06-11 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：提供一种集成电路制造中用于沉浸式光刻工具的部件的保护性涂层，其中通过薄的、硬的保护性涂层来保护暴露于浸液的部件的至少一部分，该保护性涂层包括例如碳化硅、金刚石、类金刚石、氮化硼、碳化硼，碳化钨、氧化铝、蓝宝石、氮化钛，碳氮化钛、氮化铝钛和碳化钛的材料。可以通过例如CVD、PECVD、APCVD、LPCVD、LECVD、PVD、薄膜蒸发、溅射以及在有气体的情况下加温退火的方法来形成保护性涂层。保护性涂层优选地具有大于大约1000并且更优选地大于大约2000的努氏硬度，或大于大约7，更优选地大于大约9的莫氏硬度。保护性涂层最小化了由于扫描仪部件机械磨损造成的缺陷。
用于减少沉浸光刻装置机械磨损集成电路制造

[发明专利]具有改善抗蚀性能的氟化光刻胶材料-CN200510115296.2有效
发明人： M·霍伊贾斯坦;P·R·瓦拉纳斯;李文杰;陈光荣;K·S·帕特尔 -专利权人：国际商业机器公司
申请日： 2005-11-11 - 公布日： 2006-06-07 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明公开了一种包含一种聚合物的光刻胶组合物，该聚合物包括至少一种具有下列结构的单体：其中，R₁选自氢(H)、具有1～20个碳原子的线形、支化或环状烷基、半氟化或全氟化的具有1～20个碳原子的线形、支化或环状烷基、以及CN；R₂为具有5个或更多个碳原子的脂环基团；X为选自亚甲基、醚、酯、酰胺和碳酸酯的连接部分；R₃为具有1个或多个碳原子的线形或支化亚烷基或者半氟化或全氟化的线形或支化亚烷基；R₄选自氢(H)、甲基(CH₃)、三氟甲基(CF₃)、二氟甲基(CHF₂)、氟代甲基(CH₂F)、以及半氟化或全氟化的脂族基团；R₅选自三氟甲基(CF₃)、二氟甲基(CHF₂)、氟代甲基(CH₂F)、以及半氟化或全氟化的取代或未取代的脂族基团；n为1或更大的整数；OR₁₂为OH或者选自叔烷基碳酸酯、叔烷基酯、叔烷基醚、缩醛和缩酮的至少一种酸不稳定基团。本发明还公开了一种在衬底上形成图案的方法，其中该方法包括：将上述光刻胶组合物施于衬底上以形成膜；将该膜曝露在成像辐射源下形成图案；和对该膜区域进行显影以形成图案化衬底。
具有改善性能氟化光刻材料

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