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[发明专利]形成防尘薄膜的方法-CN201810461722.5有效
发明人： M·蒂默曼斯;E·加拉赫;I·波兰迪亚;H·C·阿德尔曼;C·惠耿巴尔特;J·U·李 -专利权人： IMEC 非营利协会;IMEC美国纳米电子设计中心
申请日： 2018-05-15 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明构思涉及一种形成用于极紫外光刻的防尘薄膜的方法，所述方法包括：在碳纳米管防尘薄膜膜片的主表面的外周区域上形成第一材料的涂层，所述防尘薄膜片包括碳纳米管膜，将所述碳纳米管防尘薄膜膜片置于防尘薄膜框架上，并且所述外周区域面向所述防尘薄膜框架的支撑表面，其中所述防尘薄膜框架的支撑表面由第二材料形成，和通过将碳纳米管防尘薄膜片和防尘薄膜支撑表面相互压靠而将碳纳米管防尘薄膜片的涂层和防尘薄膜支撑表面结合在一起。本发明构思还涉及一种形成用于极紫外光刻的掩模板的方法。
形成防尘薄膜方法

[发明专利]形成EUVL防尘薄膜的方法-CN202011525399.7在审
发明人： M·蒂默曼斯;C·惠耿巴尔特;I·波兰迪亚;E·查普曼斯;E·加拉赫 -专利权人： IMEC非营利协会
申请日： 2020-12-22 - 公布日： 2021-07-09 - 主分类号： G03F1/62 文献下载
摘要：根据本发明概念的一个方面，提供一种用于形成EUVL防尘薄膜的方法，该方法包括：对碳纳米管(CNT)膜片进行涂覆；以及将CNT膜片安装到防尘薄膜框架上，其中，对CNT膜片进行涂覆包括：用种子材料对膜片的CNT进行预涂覆；以及在预涂覆的CNT上形成外涂层，外涂层覆盖了预涂覆的CNT，外涂层的形成包括：通过原子层沉积使得涂料材料沉积在预涂覆的CNT上。
形成 euvl 防尘薄膜方法

[发明专利]用于形成碳纳米管防护件薄膜的方法-CN201810461607.8有效
发明人： E·加拉赫;C·惠耿巴尔特;I·波兰迪亚;H·C·阿德尔曼;M·蒂默曼斯;J·U·李 -专利权人： IMEC非营利协会;IMEC美国纳米电子设计中心
申请日： 2018-05-15 - 公布日： 2021-05-18 - 主分类号： G03F1/48 文献下载
摘要：本发明构思涉及形成用于极紫外线光刻掩模板(410)的碳纳米管防护件薄膜(102、202)的方法，所述方法包括：通过将至少一个碳纳米管薄膜(104、204a、204b)压制在第一按压表面(106、206)和第二按压表面(108、208)之间来将至少一个碳纳米管薄膜(104、204a、204b)的重叠碳纳米管(110、210)结合在一起(502)，由此形成自立式碳纳米管防护件薄膜(102、202)。本发明构思还分别涉及形成用于极紫外线光刻的防护件(400)的方法和形成用于极紫外线光刻的掩模板系统(412)的方法。
用于形成纳米防护薄膜方法

[发明专利]EUVL扫描仪-CN201910693172.4在审
发明人： E·加拉赫;J-H·弗兰克;I·波兰迪亚;M·蒂默曼斯;M·马里亚诺朱斯特 -专利权人： IMEC非营利协会;鲁汶天主教大学
申请日： 2019-07-30 - 公布日： 2020-07-07 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种EUVL扫描仪(10)。该EUVL扫描仪包括：EUV光源(110)；掩膜版(120)；安装在掩膜版(120)的前面并包括EUV透射膜(132)的薄膜(130)，在使用中，该透射膜将透射光散射成具有主轴(114)的椭圆散射图案(112)；以及变形高高NA成像系统(140)，其被配置为将由掩膜版(120)反射的光通过薄膜(130)投射到目标晶片(150)上；其中成像系统(140)的接收锥(160)的横截面(162)具有主轴(164)，并且其中薄膜(130)相对于成像系统(140)被布置，使得散射图案(112)的主轴(114)相对于成像系统(140)的接收锥(160)的横截面(162)的主轴(164)成一角度定向。
euvl 扫描仪