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[发明专利] 放大成像光学单元和包含该成像光学单元的测量系统 -CN201280006078.3 有效
发明人：
H-J.曼
- 专利权人：
卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日：
2012-01-27
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公布日：
2017-05-10
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主分类号：
G02B17/06 文献下载
摘要： 一种放大成像光学单元(7)具有至多四个反射镜(M1至M4)，其经由成像光束路径(8)将物平面(11)中的物场(6)成像至像平面(12)中的像场(9)中，所述成像光束路径(8)在所述成像光束路径(8)中相邻的反射镜(M1至M4)之间具有成像部分光线(25、19、20)。光学单元(7)被设计为使得成像光束路径(8)中的第二个反射镜(M2)和成像光束路径(8)中的第三个反射镜(M3)之间的第一成像部分光线(19)、与成像光束路径(8)中的第三个反射镜(M3)和成像光束路径(8)中的第四个反射镜(M4)之间的第二成像部分光线(20)分别通过成像光束路径(8)中的第一个反射镜(M1)的镜体(22)中的至少一个通口(21)。根据另一方面，光学单元具有至多为1300mm的结构长度T，以及结构长度T和成像比例β的小于1.5mm的比率T/β。尤其是针对给定的成像比例，这产生考虑了对成像光学单元的紧凑性和传输率的增加的需求的成像光学单元。放大 成像 光学 单元 包含 测量 系统
[发明专利] 微光刻投射曝光装置中的光学布置 -CN201080052699.6 有效
发明人：
A.舍帕克 ;H-J.曼 F.艾瑟特 ;关彦彬
- 专利权人：
卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日：
2010-09-23
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公布日：
2012-08-15
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主分类号：
G03F7/20 文献下载
摘要： 本发明关于一种微光刻投射曝光装置中的光学布置，其包括至少一个光学元件(110,210)和用于光学元件(110,210)的支撑元件(120,220)，其中光学元件(110,210)和支撑元件(120,220)通过至少三个解耦元件(131,132,133;231,232,233)连接在一起；并且其中解耦元件(131,132,133;231,232,233)与光学元件(110,210)和支撑元件(120,220)整体地形成。微光 投射 曝光 装置 中的 光学 布置
