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- [发明专利]存储器单元装置及其制造方法-CN99804414.8无效
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H·雷辛格
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因芬尼昂技术股份公司
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1999-03-17
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2004-09-08
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H01L27/112
- 本发明涉及一种存储器单元装置,根据本发明多个存储器单元存在于半导体衬底(10)的主表面区,其中每个存储器单元各包含至少一个具有源极(29)、栅极(WL1或WL2)和漏极(60)的MOS晶体管,存储器单元主要按照平行存储器单元行的方式安排,其中相邻的存储器单元的行通过一条绝缘沟(20)彼此绝缘,并且相邻的存储器单元行各自至少包含一条位线(60),并且两相邻存储器单元行的位线(60)彼此相向取向。根据本发明这种存储单元装置是这样设计安排的,使绝缘沟(20)比位线(60)更深地延伸入半导体衬底(10)内,并且至少有源极(29)和/或漏极的部分区域在绝缘沟下。此外,本发明还涉及这种存储器单元装置的一种制造方法。
- 存储器单元装置及其制造方法
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