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[发明专利]中间掩模版保持器和中间掩模版的组件-CN200410087986.7有效
发明人： G·－J·希伦斯;B·L·W·M·范德文 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2004-10-26 - 公布日： 2005-09-28 - 主分类号： G03F1/16 文献下载
摘要：中间掩模版和中间掩模版保持器的组件，其中中间掩模版保持器(1)的状态在形状锁合的中间掩模版阻止状态和中间掩模版释放状态之间是可调整的，其中当中间掩模版保持器(1)处于阻止状态中时，中间掩模版保持器(1)用于至少以形状锁合方式沿至少一个方向(X，Y，Z)保持中间掩模版(MA)，当中间掩模版保持器(1)处于释放状态时，该中间掩模版保持器(1)用于释放中间掩模版(MA)。本发明还涉及一种系统，包括中间掩模版(MA)和中间掩模版保持器(201)的组件，以及至少一个检测器(250)，其中中间掩模版(MA)包括一个或多个标记(MRK)，其中中间掩模版保持器(201)和检测器(250)用于相对于彼此在运动学上对准，其中检测器(250)用于检测所述中间掩模版标记(MRK)，用以使中间掩模版(MA)相对于中间掩模版保持器(201)定位。
中间模版保持组件

[发明专利]光刻构图装置的保险机构-CN200410068411.0有效
发明人： B·L·W·M·范德文;G·－J·希伦斯 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2004-07-21 - 公布日： 2005-02-09 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本申请公开了设置构图装置保险机构的光刻装置。在一个实施例中，该装置包括用以提供辐射光束的照明系统，用以支撑赋予该辐射光束以带图案的截面的构图装置的支撑结构，用以保持具有一些靶部的基底的基底支架，用以将图案化的光束投射到该基底靶部上的投射系统，用以相对支撑结构连接该构图装置的连接器；和为了在该连接器出现故障的情况下减小该构图装置失控位移而设置的保险机构。
光刻构图装置保险机构

[发明专利]光刻装置、器件制造方法和由此制造的器件-CN200410054515.6无效
发明人： B·L·W·M·范德文;G·－J·希伦斯;R·G·M·兰斯伯根;M·H·A·里德斯;E·R·鲁普斯特拉 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2004-07-22 - 公布日： 2005-02-09 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种光刻投影装置，该装置包括用于提供辐射投射光束的辐射系统，用于根据所需图案对投射光束进行构图的构图装置(1)，以产生带图案的光束，用于支撑构图装置(1)的支撑结构，该支撑结构包括中间掩模版台，以及用于将带图案的光束投射到基底的目标部分上的投影系统。依据本发明的第一方面，该光刻装置还包括对接系统，用于相对中间掩模版台定位构图装置(1)。该光刻投影装置具有工作周期，该周期包括投影阶段和交换阶段，在投影阶段中投影系统将带图案的光束投射到基底的目标部分上，并且中间掩模版台承载构图装置(1)，在交换阶段中交换构图装置(1)，并且其中对接系统相对中间掩模版台定位构图装置(1)。依据本发明第一方面的光刻装置，其特征在于在投影阶段对接系统从构图装置(1)分离。在该方式下，获得投影图像的更高精确度。
光刻装置器件制造方法由此

[发明专利]掩模盒和传送盒内的光刻掩模以及扫描盒内的掩模的方法-CN200310123553.8有效
发明人： G·－J·希伦斯 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2003-12-26 - 公布日： 2004-07-14 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种盒，它能把掩模(MA)封闭起来。该盒(70)对于至少一个预定波长的辐射至少是部分透明的，而且是按这样的方式构成，使得可以利用该波长的光从掩模(MA)的盒(70)的外面得到象。盒(70)的透明部分可由下列材料中的至少一种制成：玻璃、有机玻璃。
掩模盒传送光刻以及扫描方法