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[发明专利]ROI绘制-CN201380052099.3有效
发明人： E·R·基夫特 -专利权人：皇家飞利浦有限公司
申请日： 2013-09-27 - 公布日： 2018-11-09 - 主分类号： A61B6/06 文献下载
摘要：一种用于在由操作员(R)实施的介入期间控制对X射线成像器(100)中的准直器(COL)的准直操作的装置(A)和方法。在所述介入的探索阶段中，使第一医学设备(GW)行进通过患者(PAT)。路径被记录在定位图像(CI；CI1‑CI4)中，所述定位图像根据如在所述探索阶段期间由成像器(100)采集的投影图像(F；F1‑F4)的序列中记录的所述第一设备(GW)的足迹(GWF)而形成。装置(A)使用所述定位图像(CI；CI1‑CI4)中的所述路径以在后续递送阶段期间控制对X射线射束的准直，在所述递送阶段中，使第二医学设备(BC)行进通过患者(PAT)，所述第二设备(BC)基本上沿着相同路径跟随所述第一设备(GW)。
roi 绘制

[发明专利]医生知悉的自动准直-CN201380044876.X有效
发明人： E·R·基夫特;B·P·A·J·霍恩阿尔特 -专利权人：皇家飞利浦有限公司
申请日： 2013-08-09 - 公布日： 2018-04-24 - 主分类号： A61B6/06 文献下载
摘要：一种控制准直器(COL)的控制器(CC)和相关方法。控制器(CC)能选择针对用于采集患者(PAT)中的ROI的图像的X射线成像器(100)的准直器(COL)的准直器设定。所述控制器(CC)能选择所述准直器设定以优化相对于主辐射(PR)的患者计量和医学人员(MS)的次要辐射(SR)剂量。位置检测器(PD)向控制器(CC)提供人(MS)相对于患者(PAT)的当前位置。基于所述提供的位置，所述控制器(CC)的优化流程考虑到相对于次要辐射(SR)降低相同的所述人员(MS)剂量。
医生知悉自动

[发明专利]用于导管的X射线成像系统-CN201380052750.7在审
发明人： D·S·A·鲁伊特斯;S·H·德尼森;M·格拉斯;E·M·H·P·范戴克;D·迪贾坎普;M·亨德里克斯;E·R·基夫特;M·费斯特格 -专利权人：皇家飞利浦有限公司
申请日： 2013-10-02 - 公布日： 2015-06-24 - 主分类号： A61B6/12 文献下载
摘要：本发明解决了正确地定位导管并且降低辐射剂量的问题。本发明涉及一种用于机器人导管的X射线成像系统(1)，包括所述导管(3)以及用于接收患者环境(15)的X射线图像的处理单元(5)。通过被配置为接收一个或多个辅助信息项目并且使用所述信息来确定导管位置，所述处理单元完全不需要依赖于大量的扫描图像数据，因此有助于降低辐射，同时正确传输根据少至优选为2D图像的单幅图像以及所述一个辅助信息项目的所述导管位置。此外，所述处理单元允许以下中的至少一种：绘制图像并将所述图像提供到可视化设备(21)；并且将反馈，例如操纵命令，提供到所述机器人导管。
用于导管射线成像系统

[发明专利]用于使用时间延迟和积分传感器进行成像的时域复用-CN201080011033.6有效
发明人： E·R·基夫特 -专利权人：皇家飞利浦电子股份有限公司
申请日： 2010-03-08 - 公布日： 2012-02-08 - 主分类号： G01J3/28 文献下载
摘要：一种时间延迟积分(TDI)传感器(22)，包括编号为1至N的一系列单元(42，44，42，44)。所述TDI传感器(22)配置为经由编号为2至N-1的单元将电荷从编号为1的单元转移至编号为N的单元。所述一系列单元中的每个单元(42；44)在以下意义上是敏感的或不敏感的：当所述TDI传感器(22)由具有第一光谱的光(46)均匀照明时，入射于任何不敏感单元(44)上的所述光(46)的强度最多为入射于任何敏感单元(42)上的所述光(46)的强度的90％。所述一系列单元(42，44，42，44)以下面顺序包括：第一敏感单元(42)、至少一个不敏感单元(44)、以及第二敏感单元(42)。还公开了包括TDI传感器的成像系统和对目标进行成像的方法。
用于使用时间延迟积分传感器进行成像时域

[发明专利]辐射源、光刻装置和器件制造方法-CN201010003505.5有效
发明人： K·N·科塞勒夫;V·Y·班宁;V·V·伊范诺夫;E·R·基夫特;E·R·鲁普斯特拉;L·H·J·斯特文斯;Y·V·斯德科夫;V·G·科洛奇尼科夫;V·M·克里特森;R·R·加亚佐夫;O·W·V·弗里恩斯 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2003-09-17 - 公布日： 2010-08-04 - 主分类号： H05G2/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种辐射源、光刻装置和器件的制造方法。一种包括阳极和阴极的辐射源，所述阳极和阴极被构造和排列成可以在阳极和阴极之间的空间中的气体或蒸汽中产生放电，进而形成等离子体收缩来产生电磁辐射。所述气体或蒸汽包括氙气、铟、锂和/或锡。为提高热耗散，辐射源包括多个放电元件，每个放电元件只使用短的时间间隔，之后就选择其他的放电元件。为改善收缩形成和由之产生的EUV辐射脉冲的精确同步，辐射源包括一个触发器件。为提高转换效率，辐射源设置为具有低感应系数，并运行在自触发的状态。
辐射源光刻装置器件制造方法

[发明专利]用于测量光刻装置中元件表面污染物的方法和设备-CN200410033011.6无效
发明人： R·库尔特;M·C·范贝克;A·E·迪斯特温克;E·R·基夫特;H·梅林;B·M·默滕斯;J·H·J·穆尔斯;L·H·J·斯蒂芬斯;B·T·沃尔施里恩 -专利权人： ASML荷兰有限公司;卡尔蔡司SMT股份公司
申请日： 2004-02-23 - 公布日： 2004-09-01 - 主分类号： G01N21/88 文献下载
摘要：一种用于确定光刻投影装置中元件表面污染物的测量设备。该测量设备具有用于将辐射投射到至少一部分所述表面上的辐射发射器设备和用于接收来自该元件的辐射的辐射接收器设备。处理器设备与辐射接收器设备通信连接，用于得到接收辐射的一个属性，并根据辐射的该属性得到污染物的一个属性。以及一种用于测量光刻投影装置中元件表面污染物的属性的方法，包括；将辐射投射到表面上；接收来自该元件的辐射，以及根据接收的辐射得到污染物的属性。
用于测量光刻装置元件表面污染物方法设备

[发明专利]辐射源、光刻装置和器件的制造方法-CN03164836.3有效
发明人： K·N·科塞勒夫;V·Y·班宁;V·V·伊范诺夫;E·R·基夫特;E·R·鲁普斯特拉;L·H·J·斯特文斯;Y·V·斯德科夫;V·G·科洛奇尼科夫;V·M·克里特森;R·R·加亚佐夫;O·W·V·弗里恩斯 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2003-09-17 - 公布日： 2004-05-19 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种包括阳极和阴极的辐射源，所述阳极和阴极被构造和排列成可以在阳极和阴极之间的空间中的气体或蒸汽中产生放电，进而形成等离子体收缩来产生电磁辐射。所述气体或蒸汽包括氙气、铟，锂和/或锡。为提高热耗散，辐射源包括多个放电元件，每个放电元件只使用短的时间间隔，之后就选择其他的放电元件。为改善收缩形成和由之产生的的EUV辐射脉冲的精确同步，辐射源包括一个触发器件。为提高转换效率，辐射源设置为具有低感应系数，并运行在自触发的状态。
辐射源光刻装置器件制造方法