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[发明专利]混合检验器-CN202211329897.3在审
发明人： K·巴哈斯卡尔;G·H·陈;K·韦尔斯;W·麦克米连;张晶;S·A·永;B·达菲 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2016-12-30 - 公布日： 2023-02-03 - 主分类号： G01N21/95 文献下载
摘要：本申请实施例涉及混合检验器。一种系统包含计算机子系统，其经配置以接收针对样品产生的基于光学的输出及基于电子束的输出。所述计算机子系统包含一或多个虚拟系统，其经配置以使用针对所述样品产生的所述基于光学的输出及所述基于电子束的输出的至少一些执行一或多个功能。所述系统还包含由所述计算机子系统执行的一或多个组件，其包含经配置以针对所述样品执行一或多个模拟的一或多个模型。所述计算机子系统经配置以基于所述基于光学的输出、所述基于电子束的输出、所述一或多个功能的结果及所述一或多个模拟的结果中的至少两者检测所述样品上的缺陷。
混合检验

[发明专利]模式选择及缺陷检测训练-CN202180032403.2在审
发明人：张晶;董宇杰;V·巴蒂亚;P·麦克布赖德;K·巴哈斯卡尔;B·达菲 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2021-05-17 - 公布日： 2022-12-23 - 主分类号： G01N21/88 文献下载
摘要：一种系统可经配置用于联合缺陷发现及光学模式选择。在缺陷发现步骤期间检测缺陷。将所发现缺陷累积到模式选择数据集中。使用所述模式选择数据集来执行模式选择以确定模式组合。接着，可使用所述模式组合来训练所述缺陷检测模型。接着，可通过所述缺陷检测模型来检测额外缺陷。接着，可将所述额外缺陷提供到所述模式选择数据集，以进一步执行模式选择且训练所述缺陷检测模型。接着，可确定一或多个运行时间模式。所述系统可经配置用于图像像素级的模式选择及缺陷检测。
模式选择缺陷检测训练

[发明专利]多控制器检验系统-CN202180032409.X在审
发明人： B·达菲;M·鲁洛;A·马修;张晶;K·巴哈斯卡尔 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2021-05-05 - 公布日： 2022-12-23 - 主分类号： G01N21/88 文献下载
摘要：公开一种检验系统。所述检验系统包含经配置以从缺陷检验工具接收图像数据的共享存储器，及通信地耦合到所述共享存储器的控制器。所述控制器包含：主机图像模块，其经配置以使用中央处理单元(CPU)架构将一或多种通用缺陷检验算法应用于所述图像数据；结果模块，其经配置以产生由所述主机图像模块识别的缺陷的检验数据；及副图像模块，其经配置以将一或多种目标缺陷检验算法应用于所述图像数据。所述副图像模块采用所述图像数据的灵活取样以在选定公差内匹配所述主机图像模块的数据处理速率。响应于由所述结果模块及所述主机图像模块产生的所述检验数据而调整所述图像数据的所述灵活取样。
控制器检验系统

[发明专利]用于训练基于机器学习的模型的系统和计算机实施方法-CN201680075625.1有效
发明人： K·巴哈斯卡尔;L·卡尔森迪;S·A·永;M·马哈德凡;张晶;B·达菲 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2016-12-30 - 公布日： 2022-10-04 - 主分类号： G06T7/00 文献下载
摘要：本发明提供用于半导体应用的基于机器学习的模型的加速训练的方法及系统。一种用于训练基于机器学习的模型的方法包含获取在其上执行工艺的样品的非标称例子的信息。所述基于机器学习的模型经配置以针对所述样品执行模拟。仅使用额外样品的标称例子的信息训练所述基于机器学习的模型。所述方法还包含使用所述样品的所述非标称例子的所述信息重新训练所述基于机器学习的模型，借此执行所述样品的所述非标称例子的所述信息到所述基于机器学习的模型的转移学习。
用于训练基于机器学习模型系统计算机实施方法

[发明专利]基于设计及噪声的关注区域-CN201980067471.5有效
发明人： B·达菲;M·普利哈尔;E·索尔塔默罕默德;G·罗素;S·巴塔查里亚;C·马厄 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2019-10-17 - 公布日： 2022-08-05 - 主分类号： G01N21/95 文献下载
摘要：本发明提供用于设置具有基于设计及噪声的关注区域的样品的检验的方法及系统。一个系统包含经配置用于产生样品的基于设计的关注区域的一或多个计算机子系统。所述计算机子系统还经配置用于针对所述样品上的所述关注区域的多个例子确定一或多个输出属性，且从由输出获取子系统针对所述多个例子产生的输出确定所述一或多个输出属性。所述计算机子系统进一步经配置用于将所述样品上的所述关注区域的所述多个例子分离成不同关注区域子群组，使得所述不同关注区域子群组具有所述输出属性的统计上不同值且基于所述不同关注区域子群组而选择所述样品的检验配方的参数。
基于设计噪声关注区域

[发明专利]从低分辨率图像产生高分辨率图像以用于半导体应用-CN201880040444.4有效
发明人： S·夏尔马;A·S·达恩狄安娜;M·马哈德凡;房超;A·阿索德甘;B·达菲 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2018-06-29 - 公布日： 2022-07-15 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了用于从样本的低分辨率图像产生所述样本的高分辨率图像的方法和系统。一个系统包含经配置以用于获取样本的低分辨率图像的一或多个计算机子系统。所述系统还包含通过所述一或多个计算机子系统执行的一或多个组件。所述一或多个组件包含深度卷积神经网络，所述深度卷积神经网络包含经配置以用于产生所述低分辨率图像的表示的一或多个第一层。所述深度卷积神经网络还包含经配置以用于从所述低分辨率图像的所述表示产生所述样本的高分辨率图像的一或多个第二层。所述第二层包含经配置以输出所述高分辨率图像并且经配置为子像素卷积层的最终层。
分辨率图像产生高分辨率用于半导体应用

[发明专利]确定样品上所关注图案的一或多个特性-CN201680061870.7有效
发明人： M·莱内克;A·帕克;B·达菲;A·库尔卡尼 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2016-08-23 - 公布日： 2022-07-01 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明提供用于确定所关注图案POI的特性的方法及系统。一个系统经配置以获取检验系统在POI实例处产生的输出而不检测所述POI实例处的缺陷。接着使用所述输出以产生所述POI实例的选择。接着所述系统针对所述经选择的POI实例从输出获取子系统获取输出。所述系统还使用从所述输出获取子系统获取的所述输出确定所述POI的特性。
确定样品关注图案特性

[发明专利]一种确定将对样品执行的计量过程的一或多个参数的系统、方法及介质-CN202010769210.2有效
发明人： B·达菲;A·古普塔;夏清 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2015-10-21 - 公布日： 2021-10-08 - 主分类号： G06T7/00 文献下载
摘要：本发明涉及自动化图案保真度测量计划产生。具体的，本发明提供用于确定将对样品执行的计量过程的参数的方法及系统。一种系统包含一或多个计算机子系统，所述一或多个计算机子系统经配置以用于基于针对所述样品的设计而自动产生将在对所述样品执行的计量过程期间利用所述测量子系统测量的所关注区域ROI。所述计算机子系统还经配置以用于分别基于针对所述样品的所述设计的位于所述ROI的第一子集及第二子集中的部分而自动确定在所述计量过程期间利用所述测量子系统在所述ROI的所述第一子集及所述第二子集中执行的测量的参数。在所述第一子集中执行的所述测量的所述参数是单独地且独立于在所述第二子集中执行的所述测量的所述参数而确定。
一种确定样品执行计量过程参数系统方法介质

[发明专利]用于缺陷分类器训练的主动学习-CN201980037055.0有效
发明人：张晶;董宇杰;B·达菲;R·威灵福德;M·达伊诺;K·巴哈斯卡尔 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2019-06-04 - 公布日： 2021-09-14 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供用于执行用于缺陷分类器的主动学习的方法及系统。一种系统包含经配置用于执行用于训练缺陷分类器的主动学习的一或多个计算机子系统。所述主动学习包含将采集函数应用于样品的数据点。所述采集函数基于与所述数据点相关联的不确定性估计而选择所述数据点中的一或多者。所述主动学习还包含获取所选择的所述一或多个数据点的标记及生成包含所选择的所述一或多个数据点及所获取的所述标记的标记数据集。所述计算机子系统还经配置用于使用所述标记数据集来训练所述缺陷分类器。所述缺陷分类器经配置用于使用由成像子系统生成的图像对所述样品上检测到的缺陷进行分类。
用于缺陷分类训练主动学习

[发明专利]在逻辑芯片中基于电压对比的错误及缺陷推导-CN201680025510.1有效
发明人： B·达菲 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2016-05-17 - 公布日： 2021-06-08 - 主分类号： G01R31/305 文献下载
摘要：本发明揭示一种电压对比成像缺陷检测系统，其包含电压对比成像工具及耦合到所述电压对比成像工具的控制器。所述控制器经配置以：针对样本上的一或多个结构产生一或多个电压对比成像度量；基于所述一或多个电压对比成像度量而确定所述样本上的一或多个目标区域；从所述电压对比成像工具接收所述样本上的所述一或多个目标区域的电压对比成像数据集；以及基于所述电压对比成像数据集而检测一或多个缺陷。
逻辑芯片基于电压对比错误缺陷推导

[发明专利]用于高效工艺窗口探索的混合检验系统-CN201880047936.6有效
发明人： B·达菲 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2018-07-24 - 公布日： 2021-05-25 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明揭示一种检验系统，其包含控制器，所述控制器通信地耦合到物理检验装置PID、经配置以分析所存储PID数据的虚拟检验装置VID及缺陷验证装置DVD。所述控制器可：接收包含用定义工艺窗口的选定光刻配置制造的多个图案的样本的图案布局；接收通过用所述PID分析所述样本而识别的PID识别缺陷的位置，其中所述PID识别缺陷是通过所述DVD验证；从所述工艺窗口移除与所述PID识别缺陷的所述位置相关联的一或多个光刻配置；通过移除与通过用所述VID分析所存储PID数据的选定部分而识别的VID识别缺陷相关联的一或多个光刻配置而迭代地改善所述工艺窗口；及在满足选定结束条件时提供所述工艺窗口作为输出。
用于高效工艺窗口探索混合检验系统

[发明专利]识别检测到的缺陷中的扰乱及所关注缺陷的系统及方法-CN201880056014.1有效
发明人： M·普利哈尔;B·达菲;M·冯登霍夫;A·克罗斯;K·沙赫;A·马尼 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2018-08-29 - 公布日： 2021-03-23 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明提供用于识别在晶片上检测到的缺陷中的扰乱及所关注缺陷DOI的方法及系统。一种方法包含获取由在测量点的阵列处对所述晶片执行测量的计量工具产生的针对所述晶片的计量数据。在一个实施例中，所述测量点是在于所述晶片上检测所述缺陷之前且独立于在所述晶片上检测到的所述缺陷而确定的。所述方法还包含相对于所述晶片上的所述测量点的位置而确定在所述晶片上检测到的所述缺陷的位置，及基于相对于所述测量点的所述位置而确定的所述缺陷的所述位置来将计量数据作为缺陷属性指派给所述缺陷。另外，所述方法包含基于指派给所述缺陷的所述缺陷属性来确定所述缺陷是扰乱还是DOI。
识别检测缺陷中的扰乱关注系统方法

[发明专利]用于工艺窗口特征化的虚拟检验系统-CN201580059576.8有效
发明人： L·卡尔森迪;K·巴哈斯卡尔;M·瓦格纳;B·达菲;V·拉马钱德兰 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2015-11-23 - 公布日： 2020-11-03 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明提供用于检测样品上的缺陷的方法和系统。一种系统包含经配置以存储由检验系统产生的样品的物理版本的图像的存储媒体。使用对所述样品执行的制造工艺的一或多个参数的不同值在所述样品上形成至少两个裸片。所述系统还包含若干计算机子系统，其经配置以比较在所述样品上的使用所述不同值中的至少两者形成具有相同如所设计的特性的图案的位置处产生的经存储图像的部分。经比较的所述经存储图像的所述部分不受所述裸片在所述样品上的位置、所述图案在所述裸片内的位置或所述图案在所述样品上的位置约束。若干所述计算机子系统也经配置以基于所述比较的结果检测所述位置处的缺陷。
用于工艺窗口特征虚拟检验系统

[发明专利]确定样本上的关注区域的坐标-CN201580037968.4有效
发明人： B·达菲;M·莱内克;李昌镐 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2015-07-22 - 公布日： 2020-10-09 - 主分类号： G06T7/00 文献下载
摘要：本发明提供用于确定样本上的关注区域的坐标的系统及方法。一种系统包含经配置用于针对被检验的样本上的关注区域识别最接近所述关注区域定位的一或多个目标的一或多个计算机子系统。所述计算机子系统也经配置用于使所述一或多个目标的一或多个图像与针对所述样本的参考对准。所述目标的所述图像及所述关注区域的图像是由检验子系统在所述样本的检验期间获取。所述计算机子系统进一步经配置用于基于所述对准的结果确定所述目标的所述图像与所述参考之间的偏移，且基于所述偏移及由所述检验子系统报告的所述关注区域的坐标确定所述关注区域的经修改坐标。
确定样本关注区域坐标

[发明专利]使用经预测的计量图像的计量配方产生-CN201780086236.3有效
发明人： M·D·史密斯;房超;B·达菲 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2017-12-14 - 公布日： 2020-09-01 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：一种计量系统包含通信地耦合到计量工具的控制器。所述控制器可：产生样本的三维模型；基于所述三维模型产生对应于运用所述计量工具对所述样本进行的经预测分析的经预测的计量图像；评估用于从所述一或多个经预测的计量图像提取计量测量的两个或两个以上候选计量配方；基于一或多个选择计量从用于从来自所述计量工具的结构的图像提取计量测量的所述两个或两个以上候选计量配方选择计量配方；基于经制造结构的计量测量从所述计量工具接收所述经制造结构的输出计量图像；及基于所述计量配方从所述输出计量图像提取与所述经制造结构相关联的所述计量测量。
使用预测计量图像配方产生

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