“B·N·拉马穆尔蒂”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网_中国专利网

首页在售求购查询申请展会资讯专利榜企服商城升级VIP

立即登录免费注册

在售专利
求购专利
查询专利
新闻资讯
技术展会
招商加盟
专利榜

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

专利名称

专利名称
专利号码
专利分类
申请人
公布日期

农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

专利下载VIP

公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

钻瓜专利网为您找到相关结果5个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]用于实现RPS净化的气体混合器-CN202180079522.3在审
发明人：阮芳;D·凯德拉亚;A·班塞尔;V·S·C·帕里米;R·纳拉亚南;B·N·拉马穆尔蒂;S·L·明斯;J·G·K·约瑟夫;R·乔德里 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2021-10-13 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：一种半导体处理系统包括远程等离子体源(RPS)、面板，以及定位在RPS与面板之间的输出歧管。输出歧管由与净化气源流体耦接的多个净化出口和与沉积气源流体耦接的多个沉积出口表征。输送管在RPS与面板之间延伸且流体耦接RPS和面板。输送管由大体圆柱形的侧壁，所述大体圆柱形的侧壁限定以径向图案布置的上部多个孔隙。上部孔隙中的每一者与净化出口中的一者流体耦接。大体圆柱形的侧壁限定下部多个孔隙，所述下部多个孔隙以径向图案布置且在上部多个孔隙下方。下部孔隙中的每一者与沉积出口中的一者流体耦接。
用于实现 rps 净化气体混合器

[发明专利]用于半导体处理系统的分配部件-CN202180057838.2在审
发明人： A·K·萨布莱曼尼;Y·郭;S·A·法泽里;N·帕塔克;B·N·拉马穆尔蒂;K·贝拉;李晓璞;P·A·克劳斯;S·斯里尼瓦桑 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2021-07-16 - 公布日： 2023-05-19 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：示例性基板处理系统可包括腔室主体，所述腔室主体限定传送区域。系统可包括第一盖板，所述第一盖板沿第一盖板的第一表面安置在腔室主体上。第一盖板可限定穿过第一盖板的多个孔口。系统可包括与穿过第一盖板限定的多个孔口的孔口数量相等的多个盖堆叠。系统可包括多个隔离器。多个隔离器中的隔离器可定位在多个盖堆叠中的每个盖堆叠与穿过第一盖板限定的多个孔口中的对应孔口之间。系统可包括多个介电板。多个介电板中的介电板可安置在多个隔离器中的每个隔离器上。
用于半导体处理系统分配部件

[发明专利]多处理半导体处理系统-CN202180057227.8在审
发明人： N·帕塔克;V·K·普拉巴卡尔;B·N·拉马穆尔蒂;V·卡尔塞卡尔;J·C·罗查－阿尔瓦雷斯 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2021-07-08 - 公布日： 2023-04-28 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：示例性基板处理系统可以包括多个处理区域。该系统可以包括限定与多个处理区域流体耦接的转移区域的转移区域外壳。该系统可包括多个基板支撑件。多个基板支撑件中的每个基板支撑件可以在转移区域和多个处理区域的相关处理区域之间垂直平移。该些系统可以包括转移装置，该转移装置包括延伸穿过转移区域外壳的可旋转轴。转移装置还可包括与可旋转轴耦接的端执行器。该些系统可以包括排气前级管道，该排气前级管道包括多个前级管道尾部。多个前级管道尾部中的每个前级管道尾部可以与多个处理区域中的单独的处理区域流体耦接。系统可包括多个节流阀。
处理半导体系统

[发明专利]用于半导体处理系统的底部净化-CN202180030923.X在审
发明人： N·帕塔克;V·普拉巴卡尔;B·N·拉马穆尔蒂;V·卡尔塞卡尔;T·A·恩古耶;J·C·罗查－阿尔瓦雷斯 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2021-03-23 - 公布日： 2022-12-06 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：示例性基板处理系统可以包括多个处理区域。所述系统可以包括限定与多个处理区域流体耦合的转移区域的转移区域外壳。所述系统可以包括多个基板支撑件，并且多个基板支撑件中的每个基板支撑件可以在转移区域与多个处理区域中的相关联的处理区域之间垂直平移。所述系统可以包括转移装置，所述转移装置包括延伸穿过转移区域外壳的可旋转轴。转移装置可包括与可旋转轴耦接的终端受动器。终端受动器可包括限定与净化源流体耦接的中央孔的中央毂。终端受动器还可以包括多个臂，所述多个臂具有与多个基板支撑件的基板支撑件数量相等的臂数量。
用于半导体处理系统底部净化

[发明专利]用于基板处理腔室的隔离器设备和方法-CN202080044237.3在审
发明人： N·帕塔克;A·K·班塞尔;T·A·恩古耶;T·鲁比奥;B·N·拉马穆尔蒂;J·C·罗查－阿尔瓦雷斯 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2020-06-09 - 公布日： 2022-01-28 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本公开的方面总体上涉及用于基板处理腔室的隔离器装置、隔离器装置的组件以及与隔离器装置相关联的方法。在一种实施方式中，基板处理腔室包括设置在底座和泵送衬里之间的隔离器环。隔离器环包含第一表面，第一表面面向底座，第一表面设置在与底座的外周表面相距一间隙处。隔离器环包括第二表面与突出部，第二表面面向泵送衬里，突出部从隔离器环的第一表面朝向底座的外周表面突出。突出部限定底座与隔离器环之间的间隙的颈缩部分。
用于处理隔离器设备方法

1
共 5 条

友情链接：交换友情链接需要网站权重大于4，网站收录10W以上，如符合条件，请联系QQ：76009968。

关于我们寻求报道投稿须知广告合作版权声明网站地图友情链接企业标识联系我们

在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

版权所有钻瓜科技（天津）有限公司津ICP备15000985号津公网安备 12019202000206号http://www.vipzhuanli.com/公布日期

咨询在线客服

咨询在线客服

tel code back_top