“龚荟卓”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果12个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[实用新型]气柜部件清洗保护结构及半导体设备-CN202320982844.5有效
发明人：徐春晖;龚飞昊;龚荟卓 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2023-04-26 - 公布日： 2023-10-10 - 主分类号： F16J15/10 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种气柜部件清洗保护结构及半导体设备，属于半导体设备技术领域，该气柜部件清洗保护结构，包括出气件，所述出气件上开设有用于排出气体的出气口，所述出气件上还设置有若干孔洞，每个所述孔洞中均可拆卸装配有密实结构，所述孔洞为螺纹孔，所述密实结构包括螺栓，所述孔洞的内壁与所述螺栓螺纹连接，所述螺栓包括螺杆，所述螺杆与所述孔洞螺纹连接，所述螺栓采用聚醚醚酮材质制成。通过设计非金属材质的螺栓，在清洗前将螺栓安装在出气件的孔洞中，不仅能够杜绝孔洞内水渍残留，还能解决因震荡清洗后导致的孔洞内钝化层破坏，从而造成的金属离子析出的问题。
部件清洗保护结构半导体设备

[实用新型]一种紫外线照射装置-CN202220250842.2有效
发明人：张志劼;龚荟卓 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2022-01-27 - 公布日： 2022-06-28 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种紫外线照射装置，用于对晶圆的表面进行照射，包括：灯箱，所述灯箱具有一内腔，且所述灯箱的一面具有贯通所述内腔的通孔；环形灯组，位于所述内腔中，包括至少一个面向所述通孔的紫外灯管，所有所述紫外灯管至少构成一个环形。由于所述环形灯组各处发出的紫外线的强度均匀，使用所述环形灯组对晶圆上的氮化硅膜层进行照射，使所述氮化硅膜层应力具有良好的均匀性。
一种紫外线照射装置

[实用新型]一种臭氧分解装置-CN202220252166.2有效
发明人：孙雷雷;龚荟卓;龚飞昊 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2022-01-28 - 公布日： 2022-06-28 - 主分类号： B01D53/66 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种臭氧分解装置，包括：反应模块、温差发电模块及显示模块；其中，所述反应模块包括反应腔及位于所述反应腔内的臭氧催化单元，所述温差发电模块设置于所述反应腔的外壁上并为所述显示模块提供供电电压，当所述反应腔内的温度大于设定值时，所述供电电压大于或等于所述显示模块的额定电压，所述显示模块进行显示。本实用新型通过所述温差发电模块自发电的方式实时监测所述反应腔内臭氧的分解情况，并通过所述显示模块及时提醒工作人员所述臭氧分解装置是否正常工作，减少臭氧分解不彻底导致的设备腐蚀及厂区气体监测系统报警，保障工作人员的健康。
一种臭氧分解装置

[实用新型]一种保护壳用接触条结构单元-CN202122562940.8有效
发明人：孙雷雷;龚荟卓 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2021-10-25 - 公布日： 2022-05-24 - 主分类号： H05K9/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种保护壳用接触条结构单元，包括弹片部和保护部，弹片部包括弹片连接端和弹片自由端，弹片连接端连接于一铰链的一侧边，保护部包括保护连接端和保护自由端，保护连接端连接于铰链的另一侧边，保护自由端朝向弹片连接端延伸，弹片自由端朝向保护连接端延伸，弹片自由端位于保护自由端与铰链之间。本实用新型通过设置保护部，将弹片部的弹片自由端较好的与外界隔开，使得弹片部不容易脱落，既有效防止了高温散出、电磁波泄漏导致的安全隐患，又一定程度上节省了人力、财力等成本，本实用新型结构简单，成本较低，适合广泛应用于半导体集成电路制造工艺过程中各具有高温、高频电磁场的设备的保护壳中。
一种保护接触结构单元

[发明专利]一种石英透镜的移除方法-CN202111005048.8在审
发明人：朱祝司;龚荟卓 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2021-08-30 - 公布日： 2021-11-30 - 主分类号： C23C16/48 文献下载
摘要：本发明提供一种石英透镜的移除方法，所述石英透镜设置于一反应腔内，所述反应腔内还设置有光源，所述光源设置于所述石英透镜上方，其特征在于，包括：将所述光源取出所述反应腔；提供保护罩，所述保护罩为一端开口的腔体，所述保护罩的顶面具有贯穿的通孔，将所述保护罩盖在所述石英透镜上，所述通孔露出所述石英透镜的部分顶面；以及，利用真空吸盘吸附所述石英透镜露出的顶面，以将所述石英透镜移出所述反应腔，避免所述石英透镜在移动过程中与外界设备磕碰造成损伤。
一种石英透镜方法

[发明专利]成膜设备及其调整方法-CN201711392319.3有效
发明人：龚飞昊;龚荟卓 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2017-12-21 - 公布日： 2020-08-25 - 主分类号： C23C16/46 文献下载
摘要：本发明公开了一种成膜设备，所述成膜设备包括：腔体、加热平台、连接件和辅助装置；所述腔体与所述加热平台相对设置，且所述加热平台和所述腔体之间的距离能够调整，所述加热平台通过所述连接件与所述腔体连接；所述辅助装置包括传感器和显示单元，所述传感器设置于所述腔体与所述加热平台之间，所述传感器与所述显示单元连接。通过传感器测得的多个位置的压力调节腔体和加热平台之间的距离，使调节结果更加准确。
设备及其调整方法

[发明专利]加热器悬挂支架及成膜设备-CN201810604584.1有效
发明人：龚飞昊;龚荟卓 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2018-06-13 - 公布日： 2020-04-10 - 主分类号： F16M13/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种加热器悬挂支架及成膜设备，包括沿一圆周周向分布的多个架体单元，多个所述架体单元的一端沿所述圆周的径向延伸至所述圆周的中心处相接，每个所述架体单元上均设置有滑动单元，所述滑动单元能够沿接近或背离所述圆周的中心的方向滑动，每个所述滑动单元上设置有固定单元，所述固定单元能够沿垂直于所述圆周所在平面的方向移动，并且，所述固定单元远离所述滑动单元的一端设置有承载端部。本发明能够承载加热器，避免了维护时需拆除加热器的过程，提高了工作效率。
加热器悬挂支架设备

[发明专利]传输管道粗糙度的检测方法及装置-CN201910808892.0在审
发明人：龚飞昊;龚荟卓 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2019-08-29 - 公布日： 2019-11-12 - 主分类号： G01B11/30 文献下载
摘要：本发明提供一种传输管道粗糙度检测装置及方法，该装置包括相对设置的发射端支架和接收端支架，位于所述发射端支架与接收端支架之间的载物支架，所述载物支架用于承载传输管道，所述发射端支架上设置有用于向传输管道内壁发射光线的光源，所述接收端支架上设置有用于聚集并接收经过所述传输管道内壁折射光线的聚光透镜，所述聚光透镜通过光纤连接有光强传感器，所述光强传感器用于测量经过传输管道内壁的光强，所述光强传感器电路连接所述控制器，所述控制器根据所述光强传感器测量传输管道内壁的光强判断传输管道内壁的粗糙度。本发明能够检测传输管道内壁的粗糙度。
传输管道支架内壁光强传感器粗糙度发射端接收端聚光透镜控制器光强粗糙度检测装置光强传感器电路测量传输发射光线管道内壁光纤连接相对设置载物支架折射光线检测光源测量承载

[发明专利]一种在线实时控制硅片背压的结构及方法-CN201410106493.7有效
发明人： 龚荟卓;仇建华;金懿 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2014-03-20 - 公布日： 2017-10-03 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供了一种在线实时控制硅片背压的结构及方法，涉及半导体的制造工艺领域，包括硅片、承载台、内圈真空管道、外圈真空管道和控制器，硅片的背面包括内圈和外圈，硅片的背面与承载台连接，内圈真空管道和外圈真空管道分别通过压力吸附硅片背面的内圈和外圈，控制器分别与内圈真空管道和外圈真空管道连接，并分别控制内圈真空管道和外圈真空管道的压力。控制器根据硅片内圈和外圈的温度分别控制内圈真空管道和外圈真空管道的压力，以分别调节硅片内圈和外圈的背压，并最终控制硅片内圈和外圈的温度。本发明的技术方案能够有效的通过控制背压控制硅片内圈和外圈的温度，有效的得到工艺所需的各种膜厚形状。
一种在线实时控制硅片结构方法

[发明专利]一种高密度等离子体机台的管路装置-CN201510725525.6在审
发明人：刘涛;龚荟卓 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2015-10-29 - 公布日： 2016-03-09 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明公开了一种高密度等离子体机台的管路装置，通过将用来清扫腔体的NF₃气体和参与刻蚀工艺的NF₃气体分别采用独立的第一、第二支管进入腔体，使参与刻蚀工艺的NF₃气体不经过远程等离子体系统而直接进入机台腔体，从而避免了在进行STI刻蚀工艺时，因参与刻蚀工艺的NF₃气体腐蚀而带来的金属元素遗留在远程等离子体系统内部腔体内，因此可减少STI刻蚀工艺制程中金属元素超规格所带来的金属污染问题。
一种高密度等离子体机台管路装置

[实用新型]远程等离子体系统与化学气相沉积设备之间的连接装置-CN201420152933.8有效
发明人：刘涛;龚荟卓;金懿 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2014-03-31 - 公布日： 2014-08-27 - 主分类号： C23C16/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种远程等离子体系统（RPS）与化学气相沉积（CVD）设备之间的连接装置，通过将原有RPS与CVD设备腔体之间的连接管分段设置，并在二段连接管之间加装一个隔离阀，将RPS和腔体隔绝，使RPS和腔体之间不发生直接连通，在拆除RPS的时候，将隔离阀关闭，即可实现腔体不需要再破大气，省去了腔体因此升降温和腔体维护的时间，本实用新型解决了现有技术存在的在拆除RPS时，腔体复机时间过长的问题，从而增加了设备的利用率。
远程等离子体系统化学沉积设备之间连接装置

[实用新型]硅片承载台之水平度调节装置-CN201320497451.1有效
发明人： 龚荟卓;仇建华;金懿 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2013-08-14 - 公布日： 2014-03-12 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：种硅片承载台之水平度调节装置，包括：硅片承载台，用于承载所述硅片，以在所述工艺腔室内进行薄膜沉积；螺纹丝杆，设置在所述硅片承载台内，并用于所述硅片承载台之水平度调节；螺母调节装置，设置在所述螺纹丝杆一侧，所述螺母调节装置的行程n对应所述螺纹丝杆的行程m，且n＞m。本实用新型通过在用于调节所述硅片承载台之水平度的两个螺纹丝杆一侧均设置螺母调节装置，且所述螺母调节装置的行程n对应所述螺纹丝杆的行程m，n＞m，从而提高了所述硅片承载台之水平度调节装置的控制精度，解决传统螺母丝杆调节精确度不足问题，避免因为固定扳手用力过度造成的螺纹损坏，更换新配件所产生的时间和额外费用。
硅片承载水平调节装置

1
共 12 条