专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]玻璃组合物-CN200910005726.3有效
  • 内藤孝;立园信一;吉村圭;山本浩贵;吉田博史;山田真治;马渕胜美 - 日立粉末冶金株式会社
  • 2009-02-06 - 2009-08-12 - C03C3/21
  • 本发明提供一种实质上不含铅与铋,无环境、安全、成本问题,耐湿性优良并且不腐蚀银、铜、铝等电极配线,在低温下可以软化的玻璃组合物。另外,提供采用该玻璃组合物的封接材料、配线材料、结构材料及光学材料。另外,提供采用这些材料的等离子体显示屏等图像显示装置、铠装电热器、太阳能电池元件等电子器件。该玻璃组合物实质上不含铅与铋,至少含有氧化钒与氧化磷作为主成分,25℃的电阻率为109Ωcm以上,软化点在500℃以下。另外,作为成分含有氧化锰与氧化钡。另外,还优选含有碱金属、锑、碲、锌、硅、铝、铌、稀土类元素、铁、钨、钼的氧化物中的任何1种。
  • 玻璃组合
  • [发明专利]金属用研磨液以及被研磨膜的研磨方法-CN200680049417.0有效
  • 野村丰;中川宏;安西创;飞田文子;樱田刚史;马渕胜美 - 日立化成工业株式会社
  • 2006-12-27 - 2009-01-14 - H01L21/304
  • 本发明提供一种金属用研磨液和使用其的被研磨膜的研磨方法,其能够解决(a)由固体粒子所导致的损伤的产生,(b)碟陷、腐蚀等平坦性恶化的产生,(c)用以除去残留于研磨后的基板表面上的研磨粒子的清洗工序的复杂性,(d)由于固体研磨粒子本身的成本及废液处理而导致成本提高等问题,并且能够以高的Cu研磨速度进行CMP。本发明提供一种金属用研磨液,其含有:金属的氧化剂、氧化金属溶解剂、金属防蚀剂、以及重均分子量大于等于8000的具有阴离子性官能基的水溶性聚合物,pH值为大于等于1且小于等于3。本发明还提供一种被研磨膜的研磨方法,其特征在于:一面将上述的金属用研磨液供给至研磨平台的研磨布上,一面于将具有被研磨金属膜的基板按压于研磨布上的状态下使研磨平台与基板相对移动,以进行研磨。
  • 金属研磨以及方法
  • [发明专利]不锈钢的脱垢方法和装置-CN200510004640.0无效
  • 马渕胜美;绿川平八郎;中村恒雄;伊藤雅彦 - 株式会社日立制作所
  • 1995-07-27 - 2005-09-21 - C25F1/06
  • 本发明涉及不锈钢的脱垢方法和装置。本发明的不锈钢的脱垢方法,其特征在于在通过用中性盐电解液电解处理进行脱垢的不锈钢的脱垢方法中,具有向上述电解液中添加还原剂,还原溶存的重金属离子的还原工序;向经过上述还原工序的电解液中添加碱,使上述还原的重金属离子以氢氧化物的形式析出的中和工序;从经过上述中和工序的上述电解液中除去上述氢氧化物的过滤工序,并且所说的中性盐为硫酸盐,所说的还原剂为次硫酸、亚连二硫酸、亚硫酸、焦亚硫酸、焦硫酸、硫代硫酸、卡罗酸、过焦硫酸、连多硫酸和连二亚硫酸中的任一种或它们的金属盐中的任一种。
  • 不锈钢方法装置

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