专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种半片多晶太阳电池的制备方法-CN201811227637.9有效
  • 朱金浩;吴国强;许布;刘义德;陈珏荣 - 浙江光隆能源科技股份有限公司
  • 2018-10-22 - 2020-08-25 - H01L31/18
  • 本发明提供了一种半片多晶太阳电池的制备方法。它解决了现有制造方法的步骤过于简单,无法保证半电池片的质量,产品质量差等技术问题。本半片多晶太阳电池的制备方法,包括如下步骤:a、对外购的硅片进行清洗和检测;b、将检验好的硅片放入碱性溶液中进行制绒;c、将石英舟放入扩散炉中进行扩散;d、将扩散好的硅片放入刻蚀机中进行刻蚀;e、将刻蚀好的硅片放入氢氟酸中浸泡;f、将石墨舟放入PECVD装置中进行镀膜;g、将镀膜好的硅片采用丝网印刷的方式进行印刷;h、将印刷好的硅片放入烧结炉中进行烧结;i、将硅片篮放到钝化处理装置中进行钝化;j、将钝化好的电池片通过激光切片机进行切割。本发明具有产品质量好的优点。
  • 一种多晶太阳电池制备方法
  • [发明专利]一种双85抗PID多晶太阳能电池片的制作工艺-CN201710486047.7有效
  • 朱金浩;蒋剑波;朱世杰;许布;陈珏荣 - 浙江光隆能源科技股份有限公司
  • 2017-06-23 - 2020-02-21 - H01L31/18
  • 本发明提供了一种双85抗PID多晶太阳能电池片的制作工艺。它解决了现有光伏组件的PID现象较为严重,造成电池片和组件功率出现大幅度下降等技术问题。本双85抗PID多晶太阳能电池片的制作工艺,包括如下步骤:a、将经过清洗制绒、扩散、刻蚀后的晶体硅片通过臭氧发生装置在晶体硅片表面生成一层1‑2nm的SiO2氧化膜;b、将步骤a中完成的晶体硅片通过装卸片系统装到石墨舟上,将其放入管式PECVD进行预沉积;c、将步骤b中完成后的晶体硅片用管式PECVD进行沉积;d、将步骤c中完成后的晶体硅片用管式PECVD进行再次沉积;e、通过装卸片系统对石墨舟的晶体硅片进行冷却,并将晶体硅片取下。本发明具有产品性能好的优点。
  • 一种85pid多晶太阳能电池制作工艺
  • [发明专利]适用于多晶太阳电池三层减反射膜的镀膜工艺-CN201710485376.X有效
  • 朱金浩;蒋剑波;朱世杰;许布;陈珏荣 - 浙江光隆能源科技股份有限公司
  • 2017-06-23 - 2018-12-04 - H01L31/18
  • 本发明提供了一种适用于多晶太阳电池三层减反射膜的镀膜工艺。它解决了现有制备工艺比较复杂,耗电量大,制备的成本比较高,并且单层氮化硅减反射膜硅太阳能电池的反射率还是很高,返工率也较高等技术问题。本适用于多晶太阳电池三层减反射膜的镀膜工艺,包括如下步骤:a、对晶体硅片进行清洗制绒、扩散和刻蚀;b、将步骤a中完成的晶体硅片通过装卸片系统装到石墨舟上,将其放入管式PECVD进行预沉积和清洗;c、将步骤b中完成的晶体硅片用管式PECVD沉积;d、将步骤c中完成的晶体硅片用管式PECVD再次沉积;e、将步骤d中完成的晶体硅片用管式PECVD再次沉积;f、通过装卸片系统对石墨舟的晶体硅片进行冷却,并将其取下。本发明具有产品性能高的优点。
  • 适用于多晶太阳电池三层减反射膜镀膜工艺

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