专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果49个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [发明专利]半导体器件及其制备方法-CN202311037731.9在审
  • 黄鑫;陈旋旋;袁梦洁;吴家伟 - 福建省晋华集成电路有限公司
  • 2023-08-17 - 2023-10-27 - H01L29/786
  • 本发明提供了一种半导体器件,包括衬底、位于衬底上的源极结构、位于源极结构上的漏极结构、贯穿漏极结构并延伸至源极结构内的通道孔、覆盖通道孔的内壁上露出的源极结构和/或漏极结构的金属硅化物层、覆盖通道孔的内壁及金属硅化物层的通道层以及位于通道层上并填充通道孔的栅极结构。栅极结构可作为闸极,并由通道层环绕在栅极结构的外侧壁上,通道层作为闸极通道,在缩小器件几何尺寸的基础上能够保证器件的性能。金属硅化物层可以降低漏极结构和/或源极结构与通道层之间的肖特基势垒,从而进一步提高器件的性能。相应的,本发明还提供了该半导体器件的制备方法。
  • 半导体器件及其制备方法
  • [发明专利]半导体器件的形成方法-CN202310369444.1在审
  • 黄友杰;叶长福;上官明沁;陈旋旋 - 福建省晋华集成电路有限公司
  • 2023-04-07 - 2023-06-23 - H10B12/00
  • 本申请公开一种半导体器件的形成方法,包括:形成牺牲层,设置在衬底上;进行第一蚀刻工艺,移除部分牺牲层,形成多个第一凹槽;形成第一介质层;进行第二蚀刻工艺,移除多个第一凹槽外的所述第一介质层,形成第一隔离结构,所述第一隔离结构中存在缝隙;进行第三蚀刻工艺,刻蚀所述多个第一隔离结构,以去除所述多个第一隔离结构顶端的部分介质材料,暴露所述缝隙;形成第二介质层,覆盖所述多个第一隔离结构和所述牺牲层,所述第二介质层填充各个所述缝隙的至少部分空间;进行第四蚀刻工艺,移除所述第二介质层的顶部,直至暴露所述牺牲层,形成第二隔离结构。本申请能够使隔离结构中的缝隙得到消除或者有效减小,具有更稳定的性能。
  • 半导体器件形成方法
  • [发明专利]半导体器件的制备方法及半导体器件-CN202110943002.4有效
  • 叶长福;蔡亚萤;吕佐文;陈旋旋;上官明沁 - 福建省晋华集成电路有限公司
  • 2021-08-17 - 2023-05-23 - H10B12/00
  • 本申请提供一种半导体器件的制备方法及半导体器件,该制备方法包括将所述反应腔室加热至第二预设温度,在所述硅晶种层上方形成第一磷掺杂硅层;将所述反应腔室加热至第三预设温度,在所述第一磷掺杂硅层上方形成第二磷掺杂硅层;其中,所述第二磷掺杂硅层的磷掺杂量不同于所述第一磷掺杂硅层的磷掺杂量,所述硅晶种层、所述第一磷掺杂硅层和所述第二磷掺杂硅层的总厚度大于或等于所述接触孔的深度。位线插塞的半导体层的应力变化和尺寸收缩得到控制,半导体层的平坦度大大提升,这样形成的空洞尺寸较小,且沿靠近基板的方向移动,即使在半导体层平坦化减薄之后,空洞也不会对上面的膜层产生影响。
  • 半导体器件制备方法
  • [实用新型]存储器件-CN202221913780.5有效
  • 陈旋旋;上官明沁;叶长福;吕佐文 - 福建省晋华集成电路有限公司
  • 2022-07-22 - 2023-05-09 - H10B12/00
  • 本实用新型公开了一种存储器件。存储器件包括基底、多个沟槽、氧化物半导体层、栅极介电层和多个字线结构。基底包括多个有源区与位于有源区之间的隔离结构,且有源区含有硅。多个沟槽设置在有源区与隔离结构中。氧化物半导体层共形地设置在各沟槽中,而栅极介电层设置在该氧化物半导体层上且位于各沟槽中。多个字线结构设置在栅极介电层上且分别位于多个沟槽中,且栅极介电层的至少一部分设置在氧化物半导体层与各字线结构之间。存储器件的制造方法包括形成多个沟槽,在各沟槽中共形地形成氧化物半导体层,在氧化物半导体层上形成栅极介电层,在栅极介电层上形成多个字线结构。如此,可达到改善存储器件操作表现的效果。
  • 存储器件
  • [发明专利]存储器件以及其制造方法-CN202210866481.9在审
  • 陈旋旋;上官明沁;叶长福;吕佐文 - 福建省晋华集成电路有限公司
  • 2022-07-22 - 2022-11-18 - H01L27/108
  • 本发明公开了一种存储器件以及其制造方法。存储器件包括基底、多个沟槽、氧化物半导体层、栅极介电层和多个字线结构。基底包括多个有源区与位于有源区之间的隔离结构,且有源区含有硅。多个沟槽设置在有源区与隔离结构中。氧化物半导体层共形地设置在各沟槽中,而栅极介电层设置在该氧化物半导体层上且位于各沟槽中。多个字线结构设置在栅极介电层上且分别位于多个沟槽中,且栅极介电层的至少一部分设置在氧化物半导体层与各字线结构之间。存储器件的制造方法包括形成多个沟槽,在各沟槽中共形地形成氧化物半导体层,在氧化物半导体层上形成栅极介电层,在栅极介电层上形成多个字线结构。如此,可达到改善存储器件操作表现的效果。
  • 存储器件及其制造方法
  • [实用新型]一种塑胶件包胶成型用治具-CN202123233050.9有效
  • 潘雷;陈旋旋;于赢浩 - 苏州友隆橡塑精密制造有限公司
  • 2021-12-21 - 2022-08-19 - B29C33/44
  • 本实用新型涉及包胶辅助模具领域,具体是一种塑胶件包胶成型用治具,包括中模板和下底座;所述下底座设置于中模板的下方,所述中模板上方设置有摆料治具,所述摆料治具内部设置有挡板,且摆料治具顶端两侧安装有提手;所述下底座上方设置有顶出治具,且顶出治具顶端设置有多组顶出件;所述顶出治具与下底座之间设置有固定机构,所述固定机构包括下模板、装配板和稳定杆,所述下模板安装于下底座的上表面,所述装配板安装于顶出治具的下表面;通过固定机构的设计,以便于将顶出治具和下模板之间进行固定,同时可将其进行分离操作,提高了拆装便捷性的同时,确保了装置整体的使用效果。
  • 一种塑胶件包胶成型用治具
  • [实用新型]一种基电池片可调节背铝自动注浆新型导流管-CN202122243245.5有效
  • 陈旋旋 - 天合光能(宿迁)光电有限公司
  • 2021-09-15 - 2022-08-02 - B41F15/40
  • 本实用新型公开了一种基电池片可调节背铝自动注浆新型导流管,涉及设备配件技术领域,包括流出管道,所述流出管道的背面固定连接有暂存箱,所述暂存箱的顶部固定连接有导流管,所述导流管的侧面固定连接有固定装置,所述流出管道包括管道外壳,所述管道外壳的背面与暂存箱的正面固定连接。本实用新型通过二号电机带动转动杆转动,从而使齿轮转动,齿轮的转动与齿牙不断啮合从而带动环块进行旋转,解决了现有丝网二号机铝浆自动加浆机导流管为单点注出,易造成网板两侧浆料不均,导致虚印及缺失等印刷不良,同时注浆工程中,注浆液较为粘稠,导致部分浆液容易在流出管道出现浆液残留的问题,达到了提高注浆工作效率的效果。
  • 一种电池调节自动新型导流
  • [实用新型]半导体存储装置-CN202123011925.0有效
  • 叶长福;陈旋旋;上官明沁;冯立伟 - 福建省晋华集成电路有限公司
  • 2021-12-01 - 2022-08-02 - H01L27/108
  • 本申请公开一种本半导体存储装置,来优化最终生产的存储装置的电性。本申请提供的一种半导体存储装置包括:衬底,上表面形成有接触窗,内部形成有有源区,所述有源区暴露于所述接触窗;阻挡层,位于所述衬底上表面;衬垫,位于所述接触窗内,上表面高于所述阻挡层的上表面,且所述衬垫并与所述接触窗暴露的有源区相接触,且所述衬垫至少包括第一材料层,所述第二材料层的最下表面低于所述第一材料层的最上表面。
  • 半导体存储装置

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top