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- [实用新型]位移平台及光学测量设备-CN202320675392.6有效
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夏勇;何梓铭;王华
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长川科技(苏州)有限公司
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2023-03-30
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2023-10-20
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G01B11/24
- 本实用新型涉及一种位移平台及光学测量设备,位移平台包括基板、导轨、滑块及压电陶瓷。导轨固定于所述基板并沿第一方向延伸,滑块可滑动地安装于导轨;压电陶瓷固定于基板并与所述滑块固定连接。导轨能够对滑块实现限位及引导,从而将滑块的滑动方向限定在第一方向上。对压电陶瓷加载电信号后,压电陶瓷便可膨胀或收缩从而驱动滑块沿导轨滑动,从而将电信号转化成滑块在第一方向上的动作。由于导轨与滑块配合能够将滑动方向限制于第一方向,故即使压电陶瓷在安装过程中出现较小的偏移,也能够保证滑块精确沿第一方向移动。因此,上述位移平台及光学测量设备具有较高的位移精度。
- 位移平台光学测量设备
- [实用新型]承载装置及晶圆检测设备-CN202320675420.4有效
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陈思乡;雷传;吴灿;杜振东;孟恒
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长川科技(苏州)有限公司
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2023-03-30
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2023-08-22
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H01L21/683
- 本实用新型涉及一种承载装置及晶圆检测设备,承载装置包括底座、载片台及顶升机构。将晶圆转移至载片台时,驱动组件先驱动多个顶杆伸出于承载面,再由搬运机器人将晶圆放置于顶杆的顶端,故晶圆将由多个顶杆共同支撑并保持与承载面平行。接着,多个顶杆在驱动组件的驱动下回缩至承载面的下方,将晶圆便转移至承载面并由承载面吸附。待晶圆检测完后,承载面切换至正压,驱动组件再次驱动多个顶杆伸出于承载面以将晶圆顶起,从而方便搬运机器人将晶圆取走。在晶圆由多个顶杆支撑时,每个顶杆的顶端可通过形成负压而吸附住晶圆。如此,在顶升机构带动晶圆升降的过程中晶圆在不易相对于顶杆滑动,从而提升晶圆接送的稳定性。
- 承载装置检测设备
- [实用新型]干涉轮廓测量设备-CN202320675405.X有效
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夏勇;何梓铭;王华
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长川科技(苏州)有限公司
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2023-03-30
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2023-08-22
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G01B11/24
- 本实用新型涉及一种干涉轮廓测量设备,包括底座、位移平台、光学干涉模块及相机。位移平台包括压电陶瓷及与导向机构,导向机构与压电陶瓷配合,能够将电信号转化成导向机构的移动端在第一方向上的动作。光学干涉模块的干涉物镜能够在位移平台的带动下沿第一方向移动以获得不同光程差或相位差的干涉光束,从而实现干涉测量。由于位移平台及光学干涉模块可单独装配和调试后再组装,无需将压电陶瓷集成于光学干涉模块,且压电陶瓷与干涉物镜的光轴非同轴设置,故光学干涉模块内部的结构得到简化,且压电陶瓷的运动不会对光学干涉模块的干涉光路造成的影响。因此,上述干涉轮廓测量设备具有较高的测量精度及稳定性。
- 干涉轮廓测量设备
- [实用新型]整平装置及测量载具-CN202223255209.1有效
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徐焕;杜振东;刘治震;雷传;孟恒
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长川科技(苏州)有限公司
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2022-12-05
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2023-06-20
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B65G47/248
- 本实用新型涉及一种整平装置及测量载具,测量载具包括承载台及设于承载台边缘的整平装置。整平装置包括升降机构、翻转机构及转动板。转动板可先在翻转机构带动下切换至第二状态,并在升降机构的带动下下降至承载台的承载面下方,以空出承载台上方的空间。待板材放置于承载台的承载面后,升降机构先带动转动板上升,翻转机构带动转动板由第二状态切换至第一状态,再由升降机构带动转动板下降,直至转动板的压接面与承载台上的板材抵接,便可将板材压平。板材在转动板下降的过程中被逐渐压平,能够避免转动板从侧面挤压板材的翘曲边而将板材压褶。因此,上述整平装置及测量载具能够将板材有效地整平。
- 平装测量
- [发明专利]图像处理方法、装置及图像处理系统-CN202211641592.6在审
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夏勇;孙焱群
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长川科技(苏州)有限公司
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2022-12-20
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2023-05-05
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G01B11/24
- 本发明公开了一种图像处理方法、装置及图像处理系统。其中,该方法包括:获取目标样品对应的干涉图像,其中,干涉图像由参考光束和由目标样品表面反射的测量光束干涉形成;对干涉图像进行三维形貌重构,得到目标样品的三维轮廓图像;对干涉图像进行数字图像处理,得到目标样品的二维特征信息;将二维特征信息与三维轮廓图像融合,得到包含目标样品的特征信息的三维形貌图像。通过本申请,解决了干涉仪在3D轮廓中无法体现二维(2D)图像中特征信息的问题。比如表面有多种材料而高度上没有明显区分的样品,在伪彩色3D形貌数据上无边界信息,而2D数据因反射率和/或颜色上有明显差异很容易识别出边界信号。
- 图像处理方法装置系统
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