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[发明专利]一种Cs3Cu2I5单晶的生长方法-CN202310935224.0在审
发明人： 金长利;朱艳 -专利权人：科晶瑞思（苏州）科技有限公司
申请日： 2023-07-28 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： C30B29/12 文献下载
摘要：本发明提供了一种Cs3Cu2I5单晶的生长方法，涉及钙钛矿材料技术领域。本发明提供的Cs3Cu2I5单晶的生长方法包括以下步骤：将CsI、CuI、有机溶剂和酸性添加剂混合，得到前驱体溶液；所述CsI和CuI的摩尔比为3:2，所述酸性添加剂包括甲酸；将所述前驱体溶液加热进行单晶生长，得到Cs3Cu2I5单晶。本发明在Cs3Cu2I5前驱体溶液中加入酸性添加剂，通过改变Cs3Cu2I5单晶生长所需的溶剂配方，保护溶液中的铜离子和碘离子不被氧化，降低了Cs3Cu2I5单晶的生长速度，从而制备出内部无夹杂、透过率高，且结晶度好的高质量Cs3Cu2I5单晶。
一种 cs3cu2i5 生长方法

[发明专利]一种滤光片及其制备方法和应用-CN202310934436.7有效
发明人： 金长利;郭胜;徐闰 -专利权人：科晶瑞思（苏州）科技有限公司
申请日： 2023-07-28 - 公布日： 2023-10-10 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明属于滤光片技术领域，具体涉及一种滤光片及其制备方法和应用。本发明提供了一种滤光片的制备方法，包括以下步骤：在组合基底表面磁控溅射金属薄膜5后与第二固定环4结合，得到初级滤光片；所述组合基底包括第一固定环2和与所述第一固定环2内表面结合的可溶性衬底1；所述第二固定环4和第一固定环2分别位于金属薄膜5两侧；将所述初级滤光片浸泡于溶解剂，得到所述滤光片。本发明直接在组合基底表面磁控溅射金属薄膜，由于连续成膜直接使金属薄膜与第一固定环结合，利用第二固定环4和第一固定环2连接进一步固定金属薄膜，可直接使用，省去了使用过程中二次固定的步骤，避免二次固定对滤光片造成损伤。
一种滤光及其制备方法应用

[发明专利]一种基于反溶剂法的CH3-CN202310966695.8在审
发明人： 金长利;朱艳 -专利权人：科晶瑞思（苏州）科技有限公司
申请日： 2023-08-03 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： C30B29/22 文献下载
摘要：本发明提供了一种基于反溶剂法的CH3NH3PbI3单晶定点成核生长方法，涉及钙钛矿材料技术领域。本发明将CH3NH3PbI3前驱体溶液(溶剂为γ‑丁内酯)注入生长容器中，升温至第一温度；将反溶剂(氢碘酸或混有氢碘酸的CH3NH3PbI3前驱体溶液)注入所述生长容器的底部，在所述底部析出籽晶；将析出籽晶的溶液继续升温至第二温度，保温至籽晶稳定后，再升温使晶体生长，得到单晶。本发明通过在CH3NH3PbI3前驱体溶液中加入一定比例的氢碘酸，可使CH3NH3PbI3在前驱体溶液中溶解度大幅降低，通过该原理，可确切性地诱导单晶定点析出，大幅提高单晶成核率，并保证生长晶体的形状和质量。
一种基于溶剂 ch base sub

[发明专利]基于多面体棱镜及光束调频高分辨率高速成像方法与装置-CN201810712234.7有效
发明人：郭汉明;朱圣明;陈益祺;金长利 -专利权人：苏州闻道电子科技有限公司
申请日： 2018-07-03 - 公布日： 2023-09-01 - 主分类号： G02B21/00 文献下载
摘要：根据本发明的基于多面体棱镜及光束调频高分辨率高速成像方法与装置，装置包括分束镜、频率调制器、第一反射镜、第二反射镜，第一透镜单元、第二透镜单元、二分之一波片，偏振分光棱镜、二向色镜，二维振镜、聚焦物镜、阵列探测器。分束镜、第一反射镜沿第一光轴线依次设置，分束镜、频率调制器、第二反射镜沿第二光轴线依次设置，第一反射镜、频率调制器、二分之一波片以及偏振分光棱镜沿第三光轴线依次设置，第二反射镜、偏振分光棱镜、多面体棱镜、二向色镜以及二维振镜沿第四光轴线依次设置，二维振镜、第一透镜单元、聚焦物镜沿第五光轴线依次设置，二向色镜，第二透镜单元、阵列探测器沿第六光轴线依次设置。
基于多面体棱镜光束调频高分辨率高速成像方法装置

[发明专利]一种La/C/B4C极紫外多层膜反射镜及其制备方法-CN202211621178.9在审
发明人：刘扬;朱运平;金长利 -专利权人：苏州宏策光电科技有限公司
申请日： 2022-12-16 - 公布日： 2023-08-04 - 主分类号： G02B5/08 文献下载
摘要：本发明属于高反射极紫外元件技术领域，提供了一种La/C/B4C极紫外多层膜反射镜及其制备方法。本发明的La/C/B4C极紫外多层膜反射镜，包括依次层叠设置在基底上的打底层和多周期La/C/B4C层；所述多周期La/C/B4C层包括若干个层叠设置的La/C/B4C层；所述La/C/B4C层包括依次层叠设置的La层、C层和B4C层；所述La/C/B4C层中的La层和所述打底层接触。本发明在B4C‑on‑La界面引入C层，减少了界面扩散，提高了光学对比度，进而提高了La/C/B4C极紫外多层膜反射镜的理论反射率。
一种 la b4c 紫外多层反射及其制备方法

[发明专利]一种应用于软X射线分光的多层膜切片光栅-CN201910323112.3有效
发明人：朱京涛;张嘉怡;朱运平;金长利 -专利权人：苏州宏策光电科技有限公司
申请日： 2019-04-22 - 公布日： 2023-08-04 - 主分类号： G21K1/06 文献下载
摘要：本发明公开了一种应用于软X射线波段的多层膜切片光栅。其特征是使用WSi2作为多层膜的吸收层，Si作为间隔层，相对于多层膜表面进行斜切，将斜切面上的周期多层膜作为光栅进行分光。与传统的光栅相比，新型多层膜切片光栅的制备工艺更加便捷，可轻松达到15000/mm以上，应用于软X射线波段的分光。且由于多层膜本身可以增强反射光，因此可在不使用其他光学元件的条件下提高光栅效率。WSi2和Si因其应力较小，界面粗糙度和扩散情况较小，成膜质量较好而被选择作为切片光栅的材料组合。
一种应用于射线分光多层切片光栅

[发明专利]一种极紫外多层膜反射镜及其制备方法-CN202211690836.X在审
发明人：孙航;朱运平;金长利 -专利权人：苏州宏策光电科技有限公司
申请日： 2022-12-28 - 公布日： 2023-05-30 - 主分类号： G02B5/08 文献下载
摘要：本发明属于精密光学元件技术领域，提供一种极紫外多层膜反射镜及其制备方法。本发明提供的极紫外多层膜反射镜，包括依次层叠设置在基底上的打底层、多周期Mo/Nb/Si层和保护层；所述单周期Mo/Nb/Si层中的Mo层和所述打底层接触；所述保护层的材质为RuNx。本发明提供的反射镜在Mo层和Si层，增设了阻隔层Nb层，Nb层能够使Mo层和Si层界面平滑、避免Mo层和Si层之间的界面扩散，提高了反射镜的光学对比度和理论反射率。保护层为RuNx，在受EUV辐照后能够产生二次电子，二次电子能够分解吸附在反射镜表面的碳氢化合物，使其产生吸附性极弱的气态分子而离开薄膜，进而提高了反射镜的寿命。
一种紫外多层反射及其制备方法

[发明专利]一种LaNx/La/B4C极紫外多层膜反射镜及其制备方法-CN202211621173.6在审
发明人：孙航;朱运平;金长利 -专利权人：苏州宏策光电科技有限公司
申请日： 2022-12-16 - 公布日： 2023-05-12 - 主分类号： G02B5/08 文献下载
摘要：本发明属于高反射极紫外元件技术领域，提供了一种LaNx/La/B4C极紫外多层膜反射镜及其制备方法。本发明的LaNx/La/B4C极紫外多层膜反射镜，包括层叠设置在基底上的多周期LaNx/La/B4C层；所述多周期LaNx/La/B4C层包括若干个层叠设置的LaNx/La/B4C层；所述LaNx/La/B4C层包括依次层叠设置的LaNx层、La层和B4C层；所述LaNx/La/B4C中的LaNx层和所述基底接触。本发明在B4C层和LaNx层之间引入La层，来减少LaNx和B4C之间的相互作用，从而减少界面扩散来增强层间的光学对比度，提高LaNx/La/B4C极紫外多层膜反射镜的理论反射率。
一种 lanx la b4c 紫外多层反射及其制备方法

[发明专利]一种LaNx/B4-CN202211621165.1在审
发明人：孙航;朱运平;金长利 -专利权人：苏州宏策光电科技有限公司
申请日： 2022-12-16 - 公布日： 2023-04-25 - 主分类号： G02B5/08 文献下载
摘要：本发明属于精密光学元件技术领域，提供了一种LaNx/B4C极紫外多层膜反射镜及其制备方法。本发明的LaNx/B4C极紫外多层膜反射镜包括依次层叠设置在基底上的打底层、多周期LaNx/B4C层和保护层；多周期LaNx/B4C层包括若干个层叠设置的LaNx/B4C层；LaNx/B4C层包括依次层叠设置的LaNx层和B4C层。本发明提供的LaNx/B4C极紫外多层膜反射镜，相比现有技术中的La/B4C多层反射镜，在La层中掺杂了N，降低了LaNx层和B4C层之间的层间粗糙度，提高了LaNx层和B4C层的光学对比度，提高了多周期LaNx/B4C层的质量，提高了LaNx/B4C极紫外多层膜反射镜的反射率。
一种 lanx base sub

[发明专利]一种极紫外多层膜及其应用、极紫外多层膜反射镜-CN202211477822.X在审
发明人：朱京涛;吴曼玉;朱运平;金长利;郑华伟 -专利权人：苏州宏策光电科技有限公司
申请日： 2022-11-23 - 公布日： 2023-04-18 - 主分类号： G02B5/08 文献下载
摘要：本发明涉及高反射极紫外元件技术领域，尤其涉及一种极紫外多层膜及其应用、极紫外多层膜反射镜。本发明提供的极紫外多层膜，包括依次交替层叠设置的Nb吸收层、B4C阻隔层、Si间隔层和SiC阻隔层。本发明采用热稳定性高于Si材料的B4C和SiC作为阻隔层，可以克服现有技术中Nb/Si极紫外多层膜热稳定性相对较差的缺点。且本发明所述的极紫外多层膜的理论反射率与现有技术中Nb/Si极紫外多层膜的理论反射率差异较小。因此，所述极紫外多层膜可以同时满足高反射率和热稳定性的要求。
一种紫外多层及其应用反射

[发明专利]一种多层膜反射镜及其制备方法-CN202211687913.6在审
发明人：孙航;朱运平;金长利 -专利权人：苏州宏策光电科技有限公司
申请日： 2022-12-28 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： G02B5/08 文献下载
摘要：本发明属于精密光学元件技术领域，提供了一种多层膜反射镜及其制备方法。本发明的多层膜反射镜，包括依次层叠设置在基底上的打底层、多周期Mo/SiC/Si层和保护层；所述多周期Mo/SiC/Si层包括若干个层叠设置的单周期Mo/SiC/Si层。本发明提供的多层膜反射镜在Mo层和Si层之间增设SiC层，SiC层的热稳定性高于Si，因此理论上，多周期Mo/SiC/Si层的热稳定性要优于传统的Mo/Si多层膜，提高了多层膜反射镜的热稳定性。此外，在多周期Mo/SiC/Si层上增设保护层Nb2O5层，能够防止多周期Mo/SiC/Si层表面氧化和碳化形成水和碳氢化合物，最终提高了多层膜反射镜的使用寿命。
一种多层反射及其制备方法

[实用新型]一种滤光片检测装置-CN202223006573.4有效
发明人： 金长利;徐闰;郭胜 -专利权人：科晶瑞思（苏州）科技有限公司
申请日： 2022-11-11 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： G01N21/95 文献下载
摘要：本实用新型公开一种滤光片检测装置，属于薄膜光学元件研究应用领域，包括扩束激光器，所述扩束激光器的光束的传播路径上顺次布置有夹持器和CCD接收器，所述夹持器用于夹持垂直于所述光束放置的滤光片，所述CCD接收器滑动设置在平行于所述光束的导轨上，所述CCD接收器的镜头朝向滤光片，且镜头采用显微镜头。本实用新型通过扩束激光器发射光束照射到滤光片上，利用显微镜头放大激光图像并被CCD接收器记录，能够对肉眼难以观察的砂眼位置和数量进行检测，同时，通过移动CCD接收器可以调节放大倍数，能够分析砂眼的尺寸、面积等特征。
一种滤光检测装置

[发明专利]一种多层膜材料、极紫外光反射镜及其制备方法和应用-CN202211101345.7在审
发明人：金宇;朱运平;金长利;陈溢祺 -专利权人：苏州宏策光电科技有限公司
申请日： 2022-09-09 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： C23C14/16 文献下载
摘要：本发明属于极紫外光光学元件技术领域，具体涉及一种多层膜材料、极紫外光反射镜及其制备方法和应用。本发明提供的多层膜材料，包括层叠的第一周期单元或第二周期单元，所述第一周期单元包括依次层叠的Nb层、Y层和Si层，所述第二周期单元包括依次层叠的Nb层、第一Y层、Si层和第二Y层；当所述多层膜材料为层叠的第一周期单元时，所述多层膜材料的两表面分别为Nb层和Si层；当所述多层膜材料为层叠的第二周期单元时，所述多层膜材料的两表面分别为Nb层和第二Y层。在Nb层和Si层之间增加Y层能够抑制Nb层和Si层之间的扩散从而提高多层膜材料中Nb层和Si层的边界清晰度，进而提高了多层膜材料对极紫外光的反射率。
一种多层材料紫外光反射及其制备方法应用

[发明专利]一种极紫外多层膜反射镜及制备方法-CN202211477999.X在审
发明人：朱京涛;吴曼玉;朱运平;金长利;郑华伟 -专利权人：苏州宏策光电科技有限公司
申请日： 2022-11-23 - 公布日： 2023-03-28 - 主分类号： G02B5/08 文献下载
摘要：本发明公开一种极紫外多层膜反射镜及制备方法，反射镜包括：基底和N层共溅射膜结构；第一层共溅射膜结构设置在所述基底上，第i+1层共溅射膜结构设置在第i层共溅射膜结构上；各层共溅射膜结构均包括：吸收层和间隔层，所述间隔层设置在所述吸收层上侧；所述吸收层是由Mo和Nb两种靶材共溅射制备的；所述间隔层是由Si和Y两种靶材共溅射制备的，或由Si靶材溅射制备的。本发明制备的反射镜相比于现有基于Mo/Si和Nb/Si构成的反射镜具有更优的光学性能。
一种紫外多层反射制备方法

[发明专利]直流磁控技术制备周期厚度横向二维梯度分布的Mo/Si多层膜的方法-CN201711364964.4有效
发明人：朱京涛;朱圣明;金长利 -专利权人：苏州宏策光电科技有限公司
申请日： 2017-12-18 - 公布日： 2023-02-07 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明提出了一种直流磁控技术制备周期厚度横向二维梯度分布的Mo/Si多层膜的方法，选择Mo/Si作为多层膜材料，标定了在直流磁控溅射镀膜方法中Mo靶和Si靶在掠靶镀膜模式下基底上的膜厚分布情况，并据此制备了掩膜版。利用掩膜版控制膜厚和调节基板掠过溅射靶的速度控制膜厚的方法在40 mm×40 mm大小的Si基底上制备了周期厚度横向二维梯度分布的[Mo/Si]25多层膜样品。用Ｘ射线掠入射反射测量了多层膜的膜系结构。结果显示，多层膜的周期厚度在整个样品上呈现近似线性的二维梯度分布。样品上总的周期厚度覆盖范围为6.39 nm到15.65 nm。本方法为极紫外与X射线其它波段范围和其它材料组合的横向二维梯度分布周期多层膜反射镜的制备提供了一种可行的工艺技术。
直流技术制备周期厚度横向二维梯度分布 mo si 多层方法

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