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[发明专利]用于处理用户话语的系统-CN201810632161.0有效
发明人：禹景久;权禹业;朴进佑;林恩泽;全胄奕;金知贤;张东镐 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2018-06-19 - 公布日： 2023-10-17 - 主分类号： G10L15/22 文献下载
摘要：本公开提供了一种用于处理用户话语的系统。该系统包括：至少一个网络接口；至少一个处理器，其可操作地连接到该至少一个网络接口；和至少一个存储器，其可操作地连接到该至少一个处理器，其中该至少一个存储器存储至少一个外部电子设备的多个指定状态序列，其中该多个指定状态序列中的每一个指定状态序列与多个域中的相应的一个域相关联，其中该至少一个存储器还存储指令，当该指令在被执行时使得该至少一个处理器接收经由该至少一个外部电子设备中的第一外部电子设备提供的与该用户话语相关联的第一数据，其中该用户话语包括用于使用该至少一个外部设备中的该第一外部设备执行任务的请求。
用于处理用户话语系统

[发明专利]操作语音识别服务的方法、电子设备和支持该设备的系统-CN201810264599.8有效
发明人： B.M.吴;具翰俊;禹景久;李相勋;李仁种;郑晳荣;金炅泰;金知贤;张东镐 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2018-03-28 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： G10L15/06 文献下载
摘要：提供了一种电子设备。所述电子设备包括通信模块、根据用户语音接收话音输入的麦克风、储存关于语音识别服务的操作的信息的存储器、显示器、和与通信模块、麦克风、存储器、和显示器电连接的处理器。处理器被配置成计算与语音识别服务的操作关联的指定数值，向处理话音输入的第一外部设备传递关于该数值的信息，并且取决于数值向第一外部设备传递对于与从所述第一外部设备逐步提供的语音识别服务关联的至少一个功能当中对应于所计算的数值的功能的请求，来改进通过该电子设备支持的语音识别服务的功能。
操作语音识别服务方法电子设备支持设备系统

[发明专利]新型化合物、抗蚀剂下层膜组合物以及抗蚀剂下层膜-CN202211699559.9在审
发明人：林瑛培;金炫辰;金钟元;金知贤;金甫龙;金建熙;赵恩情;李承默;张相勳 -专利权人：株式会社东进世美肯
申请日： 2022-12-28 - 公布日： 2023-07-14 - 主分类号： C07C39/17 文献下载
摘要：提供一种耐蚀刻性、间隙填充特性以及耐热性得到改善的化合物。本发明的一实施例提供一种包含以下述结构式1表示的重复单元的化合物：[结构式1]
新型化合物抗蚀剂下层组合以及

[发明专利]基板处理液提供装置、基板处理系统及基板处理方法-CN202211655118.9在审
发明人：尹大建;李寿洪;李东和;金知贤;李相和;金大星 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2022-12-21 - 公布日： 2023-07-04 - 主分类号： B41J2/01 文献下载
摘要：本发明提供一种在确保内部搅拌流动性和恢复晃动之间的相关关系方面具有最佳结构的基板处理液提供装置以及包括该装置的基板处理系统。基板处理液提供装置包括：储存罐，其储存基板处理液；以及间隔壁，其设置在储存罐的内部，并分割储存罐的内部空间，其中，基板处理液提供装置与将基板处理液喷射到基板上的基板处理装置连接，以向基板处理装置提供基板处理液，以及间隔壁包括穿过其一表面和另一表面而形成的多个孔。
处理提供装置系统方法

[发明专利]用于处理多模式输入的电子装置、方法和服务器-CN201711203805.6有效
发明人：李仁种;李智敏;姜相机;具翰俊;朴星波;徐壮锡;宋寅昱;安源翊;禹景久;李志秀;全昌均;诸葛祜准;崔溢焕;洪有珍;金知贤;余在永 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2017-11-27 - 公布日： 2023-05-23 - 主分类号： G06F3/16 文献下载
摘要：提供一种用于处理多模式输入的电子装置、方法和服务器。所述电子装置包括：壳体；触摸屏显示器，通过壳体的第一部分暴露；麦克风，布置在壳体的第二部分；扬声器，布置在壳体的第三部分；存储器，布置在壳体内部；处理器，布置在壳体内部，并电连接到显示器、麦克风和扬声器和存储器。存储器被配置为存储多个应用程序，所述多个应用程序中的每个应用程序包括图形用户界面(GUI)。
用于处理模式输入电子装置方法服务器

[发明专利]基板处理液供应单元及具有其的基板处理装置-CN202210920255.4在审
发明人：李东和;尹大建;李寿洪;金知贤;金大星 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2022-08-02 - 公布日： 2023-02-28 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供具有第一储液器和第二储液器，并且通过使第一储液器和第二储液器之间维持恒定的压差来形成流量的基板处理液供应单元及具有其的基板处理装置。所述基板处理液供应单元包括：供应储液器模块，包括向将基板处理液喷出到基板上的喷墨头单元供应基板处理液的第一储液器以及回收在喷墨头单元中未使用的基板处理液的第二储液器；以及缓冲储液器模块，向第一储液器提供基板处理液，其中，第一储液器和第二储液器之间维持恒定的压差。
处理供应单元具有装置

[发明专利]基板处理液供给单元以及具备其的基板处理装置-CN202210754239.2在审
发明人：李东和;尹大建;李寿洪;金知贤;金大星 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2022-06-28 - 公布日： 2023-02-03 - 主分类号： B41J2/175 文献下载
摘要：本发明提供通过实时液位测量来维持喷墨头单元的喷嘴液面固定的基板处理液供给单元以及具备其的基板处理装置。所述基板处理液供给单元包括：第一储液器，其与将基板处理液喷出至基板上的喷墨头单元连接，并向喷墨头单元提供基板处理液；液位传感器，其测量储存在第一储液器中的基板处理液的液位；以及压力控制模块，其基于基板处理液的液位变动量来补偿提供至第一储液器的压力，并且使喷墨头单元的喷嘴液面维持固定。
处理供给单元以及具备装置

[发明专利]基板处理装置及基板处理方法-CN202210727635.6在审
发明人：李东和;尹大建;李寿洪;金知贤 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2022-06-22 - 公布日： 2023-02-03 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供能够在不使用搅拌器的情况下防止药液的沉降的基板处理装置及基板处理方法。本发明的基板处理装置包括：主罐，存储用于向喷墨头供应的药液；以及缓冲罐，形成有存储用于向所述主罐提供的药液的空间，并且包括：第一出口，供所述药液排出；第一入口，与所述第一出口形成封闭路径以使所述药液不经过所述主罐而循环，并且供所述药液流入；第二出口，用于向所述主罐供应所述药液；以及底面，包括第一顶点和与所述第一顶点间隔开布置的第二顶点，其中，所述第一出口设置在相比于所述第二顶点更靠近所述第一顶点的位置，以及所述第一入口设置在相比于所述第一顶点更靠近所述第二顶点的位置。
处理装置方法

[发明专利]电子设备及方法-CN201680030964.8有效
发明人：金仲衡;姜明秀;金知贤;金孝贞;金禧暻;南宫普览;朴正哲;宋世准;梁成矿;李伦奇 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2016-03-25 - 公布日： 2022-04-26 - 主分类号： H04N9/31 文献下载
摘要：包括光学模块的电子设备、操作包括光学模块的电子设备的方法、以及其上已记录用于执行该方法的程序的非瞬时性计算机可读记录介质。该电子设备包括被配置为在投影表面上投影内容的光学模块以及处理器，该处理器被配置为确定电子设备是否被放置在投影表面的预定范围内并基于该确定来控制光学模块将内容投影到投影表面上。
电子设备方法

[发明专利]用于皮肤的抗氧化组合物-CN201780039449.0有效
发明人：金炫廷;宋旼庭;李垠姃;朴录贤;金知贤;金志映 -专利权人：株式会社爱茉莉太平洋
申请日： 2017-06-26 - 公布日： 2021-07-23 - 主分类号： A61K8/9728 文献下载
摘要：本发明涉及用于皮肤的抗氧化组合物，并且更特别地涉及包含以下的用于皮肤的抗氧化组合物：经发酵的酵母产物；以及单独的α‑酮戊二酸和烟酰胺或其混合物。根据本发明的用于皮肤的抗氧化组合物具有优异的抗氧化作用以及持久的作用，使得当施用于皮肤时可实现改善的抗氧化作用。此外，所述用于皮肤的抗氧化组合物对人体无害，从而使得可生产多种产品，例如化妆品、药品等。
用于皮肤氧化组合

[发明专利]含有西伯利亚冷杉油的皮肤屏障强化用组合物-CN201980069156.6在审
发明人：孙义东;金泂洙;金知贤;金亨俊;全炳培;崔知英;李泰龙 -专利权人：株式会社爱茉莉太平洋
申请日： 2019-10-16 - 公布日： 2021-06-04 - 主分类号： A61K8/9767 文献下载
摘要：本发明涉及一种皮肤屏障强化用组合物，作为有效成分含有西伯利亚冷杉(Abies sibirica)油。
含有西伯利亚冷杉皮肤屏障化用组合

[发明专利]适用于负性显影的用于形成有机抗反射涂层的组合物-CN201710402064.8有效
发明人：卢孝贞;金知贤;金升振;金炫辰 -专利权人：东进世美肯株式会社
申请日： 2017-05-31 - 公布日： 2021-06-01 - 主分类号： G03F7/09 文献下载
摘要：本发明涉及适用于负性显影的用于形成有机抗反射涂层的组合物。公开了一种在负性显影中使用的用于形成有机抗反射涂层的组合物，其不仅增强了对光刻胶的粘附同时具有高折射率和高蚀刻速率而且改善了底切等的图案轮廓。所述组合物包含：含有至少一个由式2表示的部分的异氰脲酸酯；由式3表示的聚合物；以及用于溶解上述组分的有机溶剂。[式2][式3]
适用于显影用于形成有机反射涂层组合

[发明专利]可的松还原酶阻碍用组合物-CN201980067014.6在审
发明人：崔银廷;姜永圭;金知贤;孙义东;赵嘉英;崔炤雄;金亨俊;李泰龙 -专利权人：株式会社爱茉莉太平洋
申请日： 2019-10-10 - 公布日： 2021-05-25 - 主分类号： A61K8/49 文献下载
摘要：提供一种作为有效成分含有从豆提取的香豆雌酚的可的松还原酶阻碍用组合物。
可的松还原酶阻碍组合

[发明专利]用于处理用户发声的系统及其控制方法-CN201980017572.1在审
发明人： 金知贤;宋佳进;张东镐;姜相旭;姜炫宇;崔水晶 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2019-03-06 - 公布日： 2020-11-10 - 主分类号： G10L13/08 文献下载
摘要：公开了电子设备和方法。电子设备包括通信接口、麦克风、扬声器、处理器和存储器。处理器执行方法，方法包括通过通信接口从外部设备接收第一消息；响应于通过包括麦克风的输入接口接收与第一消息有关的第一用户输入；将第一消息中包括的第一文本转变成语音；通过包括扬声器的电子设备的输出接口输出语音；基于第一电子设备的状态、第一消息和通过麦克风接收的第二用户输入中的至少一个，确定是否执行与第一消息相关联的附加操作；以及至少部分基于确定，启动用于执行附加操作的对话模式。
用于处理用户发声系统及其控制方法

[发明专利]聚合物、包括其的组合物及制造集成电路器件的方法-CN202010005831.3在审
发明人：姜美荣;洪锡九;金橞伦;金知贤;金炫辰;卢孝贞;朴钟庆;李正烈 -专利权人：三星电子株式会社;株式会社东进世美肯
申请日： 2020-01-03 - 公布日： 2020-10-09 - 主分类号： C08G73/06 文献下载
摘要：提供了一种聚合物、一种包括其的组合物以及制造集成电路器件的方法。所述聚合物具有由式1表示的重复单元：[式1]其中，R1、R2和R3均独立地选自于具有0至2个第一杂原子的取代或未取代的C1‑C6链状饱和或不饱和烃基或者具有0至2个第一杂原子的取代或未取代的C3‑C6环状饱和或不饱和烃基，其中，R1、R2和R3中的至少一个是取代有氟原子的烃基。R4是具有0至2个第二杂原子的C1‑C10链状饱和或不饱和烃基或者具有0至2个第二杂原子的C3‑C10环状饱和或不饱和烃基。R5是具有1至6个第三杂原子的C1‑C10链状饱和或不饱和烃基或者具有1至6个第三杂原子的C3‑C10环状饱和或不饱和烃基。
聚合物包括组合制造集成电路器件方法

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