专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]利用多感应像素检测多种气体的传感器的制造方法-CN201610339414.6有效
  • 赖建文 - 上海申矽凌微电子科技有限公司
  • 2016-05-20 - 2019-01-29 - H01L21/82
  • 本发明提供了一种利用多感应像素检测多种气体的传感器的制造方法,包括如下步骤:步骤S1:在硅片(1)制造出多个加热电阻层;步骤S2:在所述加热电阻层上形成多个不同性质的气敏电阻,或多感应像素;步骤S3:进行真空烘烤;步骤S4:为加热电阻层和气敏电阻加工出气敏电极接触孔和电阻层接触孔(14),在气敏电极接触孔和电阻层接触孔(14)上焊接电极引线。步骤S5:利用不同气体在不同的气敏电阻的唯一特性或“指纹”,检测气体的种类和浓度。制造成本较低:本发明的方法使用通常在集成电路制造中使用的标准工艺,避免使用非传统的MEMS工艺,因此可以降低制造成本,增强可生产性。
  • 利用感应像素检测多种气体传感器制造方法
  • [发明专利]通过金属氧化物检测气体的传感器的制造方法及传感器-CN201610453753.7有效
  • 赖建文 - 上海申矽凌微电子科技有限公司
  • 2016-06-21 - 2018-09-11 - G01N27/12
  • 本发明提供的一种通过金属氧化物检测气体的传感器的制造方法及传感器,包括如下步骤:包括如下步骤:在硅片衬底上用等离子体增强化学气相沉积法淀积第一氧化硅薄膜层;对第一金属薄膜层进行干法刻蚀,在第一金属薄膜层上刻出加热电阻层图形;在第二金属薄膜层上面用物理气相沉积法淀积第三金属薄膜层,并对第三金属薄膜层进行光刻和干法刻蚀;利用干法或湿法刻蚀位于第二接触孔下方与第二接触孔对应的第二氧化硅薄膜层;在光刻胶上及第二接触孔内用物理气相沉积法淀积金属氧化物薄膜层。本发明的有益效果如下:可以精确检测环境气体的成分和浓度。因此可以降低制造成本,减少产品的体积和功耗,增加可靠性和一致性,提高产品的灵敏度和精度。
  • 通过金属氧化物检测气体传感器制造方法

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