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[发明专利]用于减少损坏基板背侧的基板支撑件-CN201880064782.1有效
发明人：乔尔·M·休斯顿;蔡振雄;祖国权 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2018-09-11 - 公布日： 2023-09-26 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：提供了基板支撑件和配备所述基板支撑件的处理腔室的实施方式。在一些实施方式中，基板支撑件包括：支撑主体，具有第一表面；一个或多个插孔，延伸穿过第一表面并且进入支撑主体；和一个或多个突起，分别设置在一个或多个插孔中的对应插孔内并且从第一表面突出，其中一个或多个突起在第一表面上方至少部分地限定大体上平坦的支撑表面。还公开了消除背侧晶片损坏的方法。
用于减少损坏基板背侧支撑

[发明专利]用于PVD腔室的具有高沉积环的处理配件-CN201980083200.9有效
发明人：大卫·冈瑟;蔡振雄;克兰库玛尔·纽拉桑德拉·萨凡迪亚 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2019-12-12 - 公布日： 2023-07-28 - 主分类号： C23C14/50 文献下载
摘要：本文提供了处理配件的实施方式。在一些实施方式中，一种处理配件包括：沉积环，沉积环被配置为设置在基板支撑件上，沉积环包括：环形带，环形带被配置为置放在基板支撑件的下凸缘上，环形带具有上表面和下表面，下表面在径向内部和径向外部之间包括台阶；内唇部，内唇部从环形带的上表面向上延伸并与环形带的内表面相邻，其中环形带的上表面与内唇部的上表面的水平部分之间的深度在约6.0mm至约12.0mm之间；通道，通道设置在环形带的径向外侧和下方；及外唇部，外唇部向上延伸并设置在通道的径向外侧。
用于 pvd 具有沉积处理配件

[实用新型]一种节能型电热辊道窑-CN202223471331.2有效
发明人：熊亮;曾磊;范鹏;蔡振雄;谢文经 -专利权人：佛山市德力泰科技有限公司
申请日： 2022-12-22 - 公布日： 2023-05-30 - 主分类号： F27B9/24 文献下载
摘要：本实用新型公开一种节能型电热辊道窑，其中，输送辊设在窑炉本体的炉腔并沿左右延伸，输送辊的上下侧均设有第一电热棒；窑炉本体的左或右侧面设有安装孔，第一电热棒一端穿过安装孔并沿左右伸至炉腔；第一电热棒包括电热丝和具有管腔的管体，管体两端均设有与管腔连通的缺口，电热丝一端朝安装孔的方向延伸并缠绕在管体外壁面，另一端经一缺口伸入管腔并朝安装孔方向延伸且从另一缺口伸出，管体两端为隔热密封设置；炉腔的左右侧均设有沿上下延伸的第二电热棒，第二电热棒贯穿窑炉本体的顶部并伸至炉腔。本实用新型采用第一电热棒单侧水平插入、沿窑墙两侧竖直插入第二电热棒的设置方式，热损失小，温差小，达到节能目标，且能提升产品质量。
一种节能型电热辊道窑

[发明专利]一种气电混合加热的节能型高温窑炉-CN202211653446.5在审
发明人：熊亮;孔新容;范鹏;谢文经;蔡振雄 -专利权人：佛山市德力泰科技有限公司
申请日： 2022-12-22 - 公布日： 2023-04-11 - 主分类号： F27B9/24 文献下载
摘要：本发明公开一种气电混合加热的节能型高温窑炉,包括预热区和烧成区，预热区和烧成区均设有炉腔和沿前后排布的多根输送辊，多根输送辊位于炉腔内；在预热区内，输送辊的上侧和下侧分别设有两组烧嘴组件，两组烧嘴组件分别位于预热区的左侧和右侧；在烧成区内，输送辊的上侧和下侧分别设有沿左右延伸的两组电热棒，两组电热棒分别位于烧成区的左侧和右侧且呈前后错开设置；输送辊的上侧设有一组吊架，位于输送辊上侧的两组电热棒相互靠近的端部与一组吊架连接；输送辊的下侧设有一组支撑砖，位于输送辊下侧的两组电热棒相互靠近的端部与一组支撑砖连接。本发明横截面温差小，产量多，能避免电热棒容易发生弯曲或断裂，可适用于大件制品的烧成工作。
一种混合加热节能型高温

[发明专利]一种节能型电热辊道窑-CN202211654805.9在审
发明人：熊亮;曾磊;范鹏;蔡振雄;谢文经 -专利权人：佛山市德力泰科技有限公司
申请日： 2022-12-22 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： F27B9/24 文献下载
摘要：本发明公开一种节能型电热辊道窑，其中，输送辊设在窑炉本体的炉腔并沿左右延伸，输送辊的上下侧均设有第一电热棒；窑炉本体的左或右侧面设有安装孔，第一电热棒一端穿过安装孔并沿左右伸至炉腔；第一电热棒包括电热丝和具有管腔的管体，管体两端均设有与管腔连通的缺口，电热丝一端朝安装孔的方向延伸并缠绕在管体外壁面，另一端经一缺口伸入管腔并朝安装孔方向延伸且从另一缺口伸出，管体两端为隔热密封设置；炉腔的左右侧均设有沿上下延伸的第二电热棒，第二电热棒贯穿窑炉本体的顶部并伸至炉腔。本发明采用第一电热棒单侧水平插入、沿窑墙两侧竖直插入第二电热棒的设置方式，热损失小，温差小，达到节能目标，且能提升产品质量。
一种节能型电热辊道窑

[发明专利]带有多个加热区的基板支撑件-CN201811129813.5有效
发明人：松下智治;贾勒帕里·拉维;蔡振雄;阿拉维德·卡马斯;枭雄·袁;曼朱纳塔·科普帕 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2015-10-22 - 公布日： 2023-02-03 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本文提供基板支撑件的实施方式。在某些实施方式中，基板支撑件可包括具有支撑表面的主体；及第一加热器，第一加热器设置于主体内且具有第一加热线圈与多个加热区，其中第一加热线圈的绕组间距在多个加热区之间变化，以界定多个加热区之间的预定加热比率。
带有加热支撑

[实用新型]一种手势交互投影控制装置-CN202121935972.1有效
发明人：李澥;蔡振雄;黎囯溥 -专利权人：广州软件学院
申请日： 2021-08-17 - 公布日： 2022-04-19 - 主分类号： H04N9/31 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种手势交互投影控制装置，其中手势交互投影控制装置，包括手势采集装置、主控装置、终端装置及投影装置；手势采集装置的输出端与主控装置的输入端连接，主控装置的输出端与终端装置的输入端连接，终端装置的输出端与投影装置连接；手势采集装置用于采集手势信息并将手势信息发送至主控装置，主控装置根据手势信息生成与手势信息相对应的控制信号，并将控制信号发送至终端装置，终端装置根据控制信号生成投影指令，投影指令用于控制投影装置的投影状态，进而改变投影状态，解决了现有使用遥控器控制投影设备存在控制不灵活的技术问题，最终实现了通过用户的手势操控投影装置投影状态的效果，增加了用户的使用体验感。
一种手势交互投影控制装置

[发明专利]使用非接触式温度测量来处理基板的方法及设备-CN202080058346.0在审
发明人： V·拉马钱德兰;A·朱普迪;蔡振雄;欧岳生;P·P·饶;R·高塔姆;P·阿加瓦尔 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2020-04-30 - 公布日： 2022-03-29 - 主分类号： G01J5/00 文献下载
摘要：提供了用于处理基板的方法和设备。例如，设备可包括：处理腔室，包含腔室主体并具有观察端口，腔室主体界定处理容积，观察端口耦接到腔室主体；基板支撑件，设置在处理容积内并具有支撑基板的支撑表面；及红外温度传感器(IRTS)，设置在腔室主体外侧、邻近观察端口，以测量该基板正在处理容积中被处理时的温度，IRTS可相对于观察端口移动以通过观察端口扫描基板。
使用接触温度测量处理方法设备

[实用新型]一种投影控制系统-CN202121863233.6有效
发明人：李澥;蔡振雄;黎囯溥 -专利权人：广州软件学院
申请日： 2021-08-10 - 公布日： 2022-03-04 - 主分类号： H04N9/31 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种投影控制系统，包括与控制器电连接的语音模块、手势识别模块和第一通信模块；所述控制器通过第一通信模块与终端设备进行通信，所述终端设备通过第二通信模块与投影仪进行通信；所述手势识别模块包括图像采集单元及手势检测单元；所述图像采集单元包括第一摄像头及第二摄像头；所述手势检测单元包括处理子单元及与所述处理子单元电连接的姿态传感器。本实用新型能够方便用户对投影设备进行远程操作，满足了实际应用需求。
一种投影控制系统

[发明专利]内嵌微波批量除气腔室-CN202080044325.3在审
发明人： R·高塔姆;A·朱普迪;高德丰;P·P·饶;V·拉马钱德兰;欧岳生;和田优一;蔡振雄;K·L·刘 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2020-05-18 - 公布日： 2022-01-28 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本文提供用于基板处理腔室的方法和设备。在一些实施例中，基板处理腔室包括腔室主体，所述腔室主体具有侧壁，所述侧壁限定具有多边形形状的内部体积；设置在腔室主体的上部中的可选择性密封的细长开口以用于将一个或多个基板转移进入或离开腔室主体；设置在腔室主体的第一端处的漏斗，其中漏斗的尺寸沿着从腔室主体的外表面到内部体积的方向增大；以及设置在与漏斗相对的腔室主体的第二端处的泵端口。
微波批量气腔室

[发明专利]高传导处理配件-CN201910482393.7有效
发明人：邦妮·T·基亚;蔡振雄 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2015-11-11 - 公布日： 2021-12-21 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：用于等离子体处理半导体基板的设备。该设备的情形包括上屏蔽件，上屏蔽件具有布置于上屏蔽件中心的气体扩散器。气体扩散器与上屏蔽件允许处理气体以层流的方式进入处理腔室。上屏蔽件剖面促进处理气体的径向扩散和自基板表面蚀刻来的材料的径向移动。上屏蔽件的曲率引导蚀刻的材料至下屏蔽件，减少蚀刻的材料沉积于上屏蔽件上。下屏蔽件亦包括将蚀刻的材料引导往狭槽的弯曲表面，而使蚀刻的材料能够自处理腔室离开，减少蚀刻的材料沉积于下屏蔽件上。
传导处理配件

[发明专利]带有多个加热区的基板支撑件-CN201580068865.4有效
发明人：松下智治;贾勒帕里·拉维;蔡振雄;阿拉维德·卡马斯;枭雄·袁;曼朱纳塔·科普帕 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2015-10-22 - 公布日： 2021-09-03 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本文提供基板支撑件的实施方式。在某些实施方式中，基板支撑件可包括具有支撑表面的主体；及第一加热器，第一加热器设置于主体内且具有第一加热线圈与多个加热区，其中第一加热线圈的绕组间距在多个加热区之间变化，以界定多个加热区之间的预定加热比率。
带有加热支撑

[发明专利]具有改良的热耦合以用于热敏感处理的静电吸盘-CN201980080012.0在审
发明人：邦妮·T·基亚;罗斯·马歇尔;松下智治;蔡振雄 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2019-12-05 - 公布日： 2021-07-23 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本文提供了具有改善ESC与基板之间的热耦合的内部气体通道的静电吸盘(ESC)的实施方式，以及包含该静电吸盘的基板支撑件和处理腔室。在一些实施方式中，静电吸盘包括电极、介电体与气体分配通道，该介电体具有圆盘形状并覆盖该电极，该介电体包含中心区域和周围区域，且该介电体包含下表面与上表面，该下表面具有中心开口，该上表面在该中心区域中具有第一开口以及在该周围区域中具有多个第二开口，其中该上表面包含多个突部，且该多个第二开口中的各者的直径大于25.0密耳，气体分配通道从下表面延伸到上表面，以在介电体内限定气室。
具有改良耦合用于敏感处理静电吸盘

[外观设计]用于基板处理腔室的工艺屏蔽物-CN201930430354.3有效
发明人：曼朱纳塔·P·科帕;阿拉文·卡马特;蔡振雄;曼朱纳特·H·V;史蒂文·V·桑索尼;大卫·奥 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2019-08-08 - 公布日： 2020-10-23 - 主分类号： 15-09 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：用于基板处理腔室的工艺屏蔽物。2.本外观设计产品的用途：本设计用作在半导体加工机械设备中使用的用于基板处理腔室的工艺屏蔽物。3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。4.最能表明设计要点的图片或照片：设计1立体图1。5.指定设计1为基本设计。
用于处理工艺屏蔽

[外观设计]用于基板处理腔室的工艺屏蔽物-CN201930430382.5有效
发明人：曼朱纳塔·P·科帕;阿拉文·卡马特;蔡振雄;曼朱纳特·H·V;史蒂文·V·桑索尼;大卫·奥 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2019-08-08 - 公布日： 2020-10-23 - 主分类号： 15-09 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：用于基板处理腔室的工艺屏蔽物。2.本外观设计产品的用途：本设计用作在半导体加工机械设备中使用的用于基板处理腔室的工艺屏蔽物。3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。4.最能表明设计要点的图片或照片：设计1立体图1。5.指定设计1为基本设计。
用于处理工艺屏蔽

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