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[发明专利]成膜装置、成膜方法、及电子器件的制造方法-CN202310097954.8在审
发明人： 山崎将大;石井博 -专利权人：佳能特机株式会社
申请日： 2023-02-06 - 公布日： 2023-08-08 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明提供一种成膜装置、成膜方法、及电子器件的制造方法。抑制对基板的影响并使吸附板更可靠地吸附基板。经由掩模对基板进行成膜的成膜装置具备：腔室，所述腔室将内部保持为真空；吸附板，所述吸附板设置在所述腔室的内部，具有产生用于吸附所述基板的静电力的电极；电压控制机构，所述电压控制机构控制向所述电极施加的电压；以及检测机构，所述检测机构检测所述基板向所述吸附板的吸附状态，所述电压控制机构在用于使所述吸附板吸附所述基板的电压控制中，使向所述电极施加的电压从所述电压控制的开始时的初始电压增加，对应于通过所述检测机构检测到所述基板向所述吸附板吸附的情况而停止向所述电极施加的电压的增加。
装置方法电子器件制造

[发明专利]蒸发源及蒸镀装置-CN201811362765.4有效
发明人：田村博之;风间良秋;山崎将大 -专利权人：佳能特机株式会社
申请日： 2018-11-16 - 公布日： 2023-01-03 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明提供一种能够实现隔热效果的提高的蒸发源及蒸镀装置。蒸发源(300)一体地具备多组蒸发源单元(第一蒸发源单元(300X)、第二蒸发源单元(300Y)及第三蒸发源单元(300Z))，所述蒸发源单元具有坩埚(330)、对坩埚进行加热的第一加热体(331)、使通过利用第一加热体(331)将坩埚加热而蒸发或升华的材料扩散的扩散室(340)、对扩散室进行加热的第二加热体(341)，所述蒸发源的特征在于，具备：多个第一壳体部(310X、310Y、310Z)，所述多个第一壳体部分别收容多个坩埚，且用于进行隔热；及多个第二壳体部(320X、320Y、320Z)，所述多个第二壳体部分别收容多个扩散室，且用于进行隔热，在相邻的第二壳体部之间分别形成有间隙(S1、S2)。
蒸发装置

[发明专利]成膜装置、成膜方法以及电子器件的制造方法-CN202210174974.6在审
发明人： 山崎将大;上田利幸;神野纮隆 -专利权人：佳能特机株式会社;株式会社沙迪克
申请日： 2022-02-25 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明涉及成膜装置、成膜方法以及电子器件的制造方法。使基板更可靠地吸附于吸附板。一种成膜装置，其特征在于，该成膜装置具备：腔室，其将内部保持为真空；吸附板，其设置于腔室的内部，具有产生用于吸附基板的静电力的电极；电压控制部件，其向电极施加第1电压和产生比施加第1电压的情况大的静电力的第2电压；以及检测部件，其检测基板向吸附板的吸附状态，在向电极施加第1电压而使吸附板吸附基板的状态下，在由检测部件检测到基板的一部分未吸附于吸附板的情况下，所述电压控制部件向电极施加第2电压。
装置方法以及电子器件制造

[发明专利]蒸发源装置及其控制方法-CN201810887800.8有效
发明人：近藤喜成;风间良秋;山崎将大 -专利权人：佳能特机株式会社
申请日： 2018-08-07 - 公布日： 2022-04-26 - 主分类号： C23C14/26 文献下载
摘要：本发明提供能够抑制突沸的产生而进行良好的蒸镀的蒸发源装置。该蒸发源装置具备收容蒸镀材料的容器、加热容器的加热部件、和控制基于加热部件的加热的控制部件，其特征在于，控制部件能够进行第一加热控制和第二加热控制，该第一加热控制使被收容于容器的蒸镀材料的下部的温度高于被收容于容器的蒸镀材料的上部的温度，该第二加热控制使被收容于容器的蒸镀材料的上部的温度高于被收容于容器的蒸镀材料的下部的温度。
蒸发装置及其控制方法

[发明专利]成膜装置以及电子器件的制造方法-CN202110854137.3在审
发明人： 山崎将大;内田敏治 -专利权人：佳能特机株式会社
申请日： 2021-07-28 - 公布日： 2022-02-18 - 主分类号： C23C14/52 文献下载
摘要：本发明提供能够容易地把握成膜源的动作状况的成膜装置以及电子器件的制造方法。该成膜装置通过溅射在基板上进行成膜，其特征在于，具备：腔室，收容基板；成膜源，包含配置于腔室内的与基板相向的位置的包含成膜材料的靶以及在靶的周围产生磁场的磁场产生部件；驱动部件，使靶与磁场产生部件的相对位置位移；以及显示部，显示相对位置的信息。
装置以及电子器件制造方法